JPS61289629A - 位置合せ方法およびその方法を用いた自動焦点合せ装置 - Google Patents
位置合せ方法およびその方法を用いた自動焦点合せ装置Info
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- JPS61289629A JPS61289629A JP60130859A JP13085985A JPS61289629A JP S61289629 A JPS61289629 A JP S61289629A JP 60130859 A JP60130859 A JP 60130859A JP 13085985 A JP13085985 A JP 13085985A JP S61289629 A JPS61289629 A JP S61289629A
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- Japan
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- drive
- driving
- movement system
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- wafer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
- G03F9/7026—Focusing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
- G03F9/7053—Non-optical, e.g. mechanical, capacitive, using an electron beam, acoustic or thermal waves
- G03F9/7057—Gas flow, e.g. for focusing, leveling or gap setting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は、ＩＣ，ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の半導体回路素子
製造用の投影焼付装置に適用される自動焦点合せ装置に
関し、特にマスクの一部の像または全体の像をウェハ上
に形成する結像光学系に対し、マスクとウェハを所定の
位置に、精度よく位置合せする自動焦点合せ装置に関す
る。
製造用の投影焼付装置に適用される自動焦点合せ装置に
関し、特にマスクの一部の像または全体の像をウェハ上
に形成する結像光学系に対し、マスクとウェハを所定の
位置に、精度よく位置合せする自動焦点合せ装置に関す
る。
［従来技術の説明］
半導体回路素子はその算出パターンの最小寸法が微細化
しており、このため投影焼付装置においても高い分解能
が必要とされる。高い分解能を得るためには、マスクお
よびウェハを結像光学系の互に共役な光学基準面位置に
、正確に位置合せしなければならない。
しており、このため投影焼付装置においても高い分解能
が必要とされる。高い分解能を得るためには、マスクお
よびウェハを結像光学系の互に共役な光学基準面位置に
、正確に位置合せしなければならない。
この位置合せのためには、ウェハまでの距離の測定系と
してエアマイクロセンサ（以下、エアセンサという）等
が、また、駆動系としてモータ、ピエゾ（圧電素子）等
が使用される。特に駆動系は、駆動量の大きい粗動系と
駆動量は少ないが駆動精度の高い微動系とを備える場合
がある。
してエアマイクロセンサ（以下、エアセンサという）等
が、また、駆動系としてモータ、ピエゾ（圧電素子）等
が使用される。特に駆動系は、駆動量の大きい粗動系と
駆動量は少ないが駆動精度の高い微動系とを備える場合
がある。
第３図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の要部断面図を示す。同図において、１は縮
小投影レンズ、２はエアセンサのノズル、３はパルスモ
ータ、４はパルスモータ３の駆動力を７ステージ６の移
動方向の駆動力に変換伝達する駆動力伝達機構、５はピ
エゾである。
影焼付装置の要部断面図を示す。同図において、１は縮
小投影レンズ、２はエアセンサのノズル、３はパルスモ
ータ、４はパルスモータ３の駆動力を７ステージ６の移
動方向の駆動力に変換伝達する駆動力伝達機構、５はピ
エゾである。
パルスモータ３は粗動系として、ピエゾ５は微動系とし
て用いており、これらを駆動することにより２ステージ
６とウェハ７とを縮小投影レンズ１の光軸方向に移動す
ることができる。エアセンサノズル２はウェハ７の上に
位置し、ウェハ７と縮小投影レンズ１との距離を測定す
る。この測定値を基に、マスクおよびウェハが結像光学
系の互に共役な光学基準面位置となるように、レンズ光
軸方向の駆動量を算出する。その量を粗動系としてのパ
ルスモータ３および微動系としてのピエゾ５に振り分け
てそれぞれを駆動し、２ステージ６を移動する。
て用いており、これらを駆動することにより２ステージ
６とウェハ７とを縮小投影レンズ１の光軸方向に移動す
ることができる。エアセンサノズル２はウェハ７の上に
位置し、ウェハ７と縮小投影レンズ１との距離を測定す
る。この測定値を基に、マスクおよびウェハが結像光学
系の互に共役な光学基準面位置となるように、レンズ光
軸方向の駆動量を算出する。その量を粗動系としてのパ
ルスモータ３および微動系としてのピエゾ５に振り分け
てそれぞれを駆動し、２ステージ６を移動する。
従来、上記の測定および駆動は各々１回ずつ行なわれ位
置合せ完了としていた。この１回の駆動において、駆動
量の大きさが微動系の最大ストロークよりも大きい場合
は、粗動系を駆動して微動系のストローク不足を補うこ
とになる。この結果、駆動系全体としての位置合せ精度
は、微動系よりも精度の低い粗動系の駆動精度に依存す
る。従って、粗動系の駆動力伝達機構４の機械的ガタ等
に起因する位置合せ誤差が発生し、駆動系全体として精
度の高い位置合せはできなかった。
置合せ完了としていた。この１回の駆動において、駆動
量の大きさが微動系の最大ストロークよりも大きい場合
は、粗動系を駆動して微動系のストローク不足を補うこ
とになる。この結果、駆動系全体としての位置合せ精度
は、微動系よりも精度の低い粗動系の駆動精度に依存す
る。従って、粗動系の駆動力伝達機構４の機械的ガタ等
に起因する位置合せ誤差が発生し、駆動系全体として精
度の高い位置合せはできなかった。
また、この欠点を回避しようとすれば、毎回、駆動量に
エアセンサで距離の測定を再度行なう必要がある。エア
センサには数十ｍ３〜数百ｍＳの応答遅れがあることは
周知である。従って、この応答遅れにより投影焼付装置
としてのスループットが著しく低下するという不具合が
あった。
エアセンサで距離の測定を再度行なう必要がある。エア
センサには数十ｍ３〜数百ｍＳの応答遅れがあることは
周知である。従って、この応答遅れにより投影焼付装置
としてのスループットが著しく低下するという不具合が
あった。
［発明の目的］
本発明は、上述の従来形の問題点に鑑み、前記微動系の
最大駆動ストＯ−りがどれ程の大きさであるかというこ
とに制約されずに、投影焼付装置としてのスループット
を著しく低下させることなく常に精度の高い位置合せを
可能とする自動焦点合せ装置を提供することを目的とす
る。
最大駆動ストＯ−りがどれ程の大きさであるかというこ
とに制約されずに、投影焼付装置としてのスループット
を著しく低下させることなく常に精度の高い位置合せを
可能とする自動焦点合せ装置を提供することを目的とす
る。
［発明の算出］
以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
本発明は、第３図に示したような投影焼付装置に適用が
可能である。
可能である。
第４図は、縮小投影レンズ１とエアセンサのノズルおよ
びウェハ７の上面図を示す。１２〜１５は縮小投影レン
ズに取付けられた４ケのエアセンサのノズルであり、ウ
ェハ７の表面までの距離を測定している。ノズル１２〜
１５で測定した縮小投影レンズの端面からウェハ７の表
面までの距離を各々ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４とすると、
その平均距離は （ｄｌ ＋ｄ２ ＋ｄ３ ＋ｄ４ ）／４となる
。所定の縮小投影レンズ１の結像面位置と縮小投影レン
ズ１の端面閤の距離をｄＯとすると、結像面位置にウェ
ハを移動させるのにはΔｄ−ｄｏ −（ｄｌ ＋ｄ２
＋ｄ３ ＋ｄ４ ）／４なる最Δｄだけウェハ７を移動
させれば良い。この結果、ウェハの平均面が結像面位置
となる。
びウェハ７の上面図を示す。１２〜１５は縮小投影レン
ズに取付けられた４ケのエアセンサのノズルであり、ウ
ェハ７の表面までの距離を測定している。ノズル１２〜
１５で測定した縮小投影レンズの端面からウェハ７の表
面までの距離を各々ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４とすると、
その平均距離は （ｄｌ ＋ｄ２ ＋ｄ３ ＋ｄ４ ）／４となる
。所定の縮小投影レンズ１の結像面位置と縮小投影レン
ズ１の端面閤の距離をｄＯとすると、結像面位置にウェ
ハを移動させるのにはΔｄ−ｄｏ −（ｄｌ ＋ｄ２
＋ｄ３ ＋ｄ４ ）／４なる最Δｄだけウェハ７を移動
させれば良い。この結果、ウェハの平均面が結像面位置
となる。
第５図は、ステップ・アンド・リピートタイプの投影露
光機で焼付ける際のウェハ７上のショットレイアウト並
びに縮小投影レンズ１およびエアセンサノズル１２〜１
５の配置を示す。同図において、１６はマトリックスで
示されるショットレイアウト、図中斜線で示した部分Ｓ
は現在、焼付を行なうショットを示す。
光機で焼付ける際のウェハ７上のショットレイアウト並
びに縮小投影レンズ１およびエアセンサノズル１２〜１
５の配置を示す。同図において、１６はマトリックスで
示されるショットレイアウト、図中斜線で示した部分Ｓ
は現在、焼付を行なうショットを示す。
第１図は、本発明の一実施例に係る自動焦点合せ装置の
システムブロック図である。同図において、２１は装置
の操作を司どるコンソール、２１ａはコンソールの制御
を司どるコンソール制ｍｃｐｕ（中央処理装置） 、２
１ｂはコンソー、ルυ制御ＣＰＵの下で情報を一時的に
記憶するためのメモリ、２１Ｃは種々の情報を入力する
ための入カキ−１２１ｄは入力した情報を表示するため
のＣＲＴディスプレイ、２１ｅは入力した情報等を記憶
するための外部記憶装置である。２２は本体制御系、２
２ａは本体制御を司どる本体制御ＣＰＵ、２２ｂは本体
制御１ＣＰＬＪの下で情報を一時的に記憶するためのメ
モリである。１２〜１５はウェハまでの距離を測定する
エアセンサノズル、２２ｄはエアセンサノズルの圧力を
電圧に変換するための電圧変換回路、２２ｃはその電圧
変換回路の出力をデジタル値に変換するためのアナログ
／デジタル変換器（Ａ／Ｄコンバータ）である。２３は
第３図の３〜６に相当する２ユニツト、２２８はその２
ユニツトを駆動するための２ユニット駆動回路である。
システムブロック図である。同図において、２１は装置
の操作を司どるコンソール、２１ａはコンソールの制御
を司どるコンソール制ｍｃｐｕ（中央処理装置） 、２
１ｂはコンソー、ルυ制御ＣＰＵの下で情報を一時的に
記憶するためのメモリ、２１Ｃは種々の情報を入力する
ための入カキ−１２１ｄは入力した情報を表示するため
のＣＲＴディスプレイ、２１ｅは入力した情報等を記憶
するための外部記憶装置である。２２は本体制御系、２
２ａは本体制御を司どる本体制御ＣＰＵ、２２ｂは本体
制御１ＣＰＬＪの下で情報を一時的に記憶するためのメ
モリである。１２〜１５はウェハまでの距離を測定する
エアセンサノズル、２２ｄはエアセンサノズルの圧力を
電圧に変換するための電圧変換回路、２２ｃはその電圧
変換回路の出力をデジタル値に変換するためのアナログ
／デジタル変換器（Ａ／Ｄコンバータ）である。２３は
第３図の３〜６に相当する２ユニツト、２２８はその２
ユニツトを駆動するための２ユニット駆動回路である。
４０はエアセンサノズル１２〜１５や２ユニツト２３以
外の本体ユニット、２２ｆはそれらの本体ユニットと本
体ＩＩ ｍ ｃ ｐ ｕ２２ａとの仲立ちをするインタ
ーフェースである。
外の本体ユニット、２２ｆはそれらの本体ユニットと本
体ＩＩ ｍ ｃ ｐ ｕ２２ａとの仲立ちをするインタ
ーフェースである。
本実施例における装置の操作を司どるのはコンソール２
１である。オペレータはまず、入カキ−２１Ｃからウェ
ハ７のサイズやＸＹ方向のステップ距離あるいは露光時
間等の諸情報をキーインする。
１である。オペレータはまず、入カキ−２１Ｃからウェ
ハ７のサイズやＸＹ方向のステップ距離あるいは露光時
間等の諸情報をキーインする。
これらの情報はコンソール制ｍ ＣＰ Ｕ ２１ａを通
じて−Ｈメモリ２１ｂに記憶される。コンソール制御Ｃ
Ｐ Ｌｌ ２１ａは、メモリ２１ｂに記憶された情報を
計算処理し、第５図に示すような各ショットの中心座標
や、エアセンサの有効／無効情報を算出する。
じて−Ｈメモリ２１ｂに記憶される。コンソール制御Ｃ
Ｐ Ｌｌ ２１ａは、メモリ２１ｂに記憶された情報を
計算処理し、第５図に示すような各ショットの中心座標
や、エアセンサの有効／無効情報を算出する。
ここで有効／無効情報というのは、エアセンサのノズル
がウェハ面上から外れているか否かを示すものである。
がウェハ面上から外れているか否かを示すものである。
即ち、ショット位置とエアセンサノズルの位置との関係
によりウェハ面上からノズルが外れる場合があるため、
これを予め算出しておき、測定時には有効なエアセンサ
ノズルのみ使用するための情報である。コンソール制ｗ
ｃｐｕ２１ａにおけるこれらの算出結果は再びメモリ２
１ｂに記憶される。また、装置本体に起動をかける場合
も、やはりオペレータは入カキ−２ＩＣから、起動指令
なるコードをキーインする。するとメモリ２１ｂに記憶
された情報が、コンソールａｌｌ ’ＩＩＪ ＣＰ ｔ
Ｊ２１ａを通じて本体制御ＣＰ Ｕ ２２ａに伝達され
、メモリ２２ｂに記憶されて、本体に起動がかかる。本
体装置の各ユニットに対しては、本体ユニット制御系２
２内の各インターフェースを通じて、駆動あるいは信号
処理が行なわれる。
によりウェハ面上からノズルが外れる場合があるため、
これを予め算出しておき、測定時には有効なエアセンサ
ノズルのみ使用するための情報である。コンソール制ｗ
ｃｐｕ２１ａにおけるこれらの算出結果は再びメモリ２
１ｂに記憶される。また、装置本体に起動をかける場合
も、やはりオペレータは入カキ−２ＩＣから、起動指令
なるコードをキーインする。するとメモリ２１ｂに記憶
された情報が、コンソールａｌｌ ’ＩＩＪ ＣＰ ｔ
Ｊ２１ａを通じて本体制御ＣＰ Ｕ ２２ａに伝達され
、メモリ２２ｂに記憶されて、本体に起動がかかる。本
体装置の各ユニットに対しては、本体ユニット制御系２
２内の各インターフェースを通じて、駆動あるいは信号
処理が行なわれる。
ウェハ７と縮小投影レンズ１との焦点合せは以下のよう
に行なう。まず、エアセンサノズル１２〜１５からの応
答圧力を電圧変換回路２２ｄによって、電気的信号に変
換する。この信号は、Ａ／Ｄコンバータ２２Ｃによりデ
ジタルデータに変換され、本体制御Ｉ ＣＰ Ｌｌ ２
２ａに伝達される。ＣＰ ’Ｊ ２２ａにおいては、前
もってメモリ２２ｂに記憶されているエアセンサの有効
／無効情報をもとに、有効なエアセンサによる測定値の
みを抽出して、瞬時に設定駆動量を計算する。さらに、
ＣＰＵ２２ａはその設定駆動量よりパルスモータ３およ
びピエゾ５の駆動量を計算し、その値を２ユニット駆ａ
ｒｇＪ路２２ｅに入力する。Ｚユニット２３においては
入力値に基づいて、パルスモータ３およびピエゾ５が駆
動され、ウェハの２方向への移動が行なわれる。
に行なう。まず、エアセンサノズル１２〜１５からの応
答圧力を電圧変換回路２２ｄによって、電気的信号に変
換する。この信号は、Ａ／Ｄコンバータ２２Ｃによりデ
ジタルデータに変換され、本体制御Ｉ ＣＰ Ｌｌ ２
２ａに伝達される。ＣＰ ’Ｊ ２２ａにおいては、前
もってメモリ２２ｂに記憶されているエアセンサの有効
／無効情報をもとに、有効なエアセンサによる測定値の
みを抽出して、瞬時に設定駆動量を計算する。さらに、
ＣＰＵ２２ａはその設定駆動量よりパルスモータ３およ
びピエゾ５の駆動量を計算し、その値を２ユニット駆ａ
ｒｇＪ路２２ｅに入力する。Ｚユニット２３においては
入力値に基づいて、パルスモータ３およびピエゾ５が駆
動され、ウェハの２方向への移動が行なわれる。
次に、第２図のフローチャートを参照して位置合せの処
理の流れについて説明する。位置合せが開始（ステップ
３０）されると、まずエアセンサによりウェハ面までの
距離を測定する（ステップ３１）。実際に測定している
のは、ウェハ７の表面とエアセンサノズル１２〜１５の
間の距離である。この測定により得られた値からウェハ
７の駆動量Δｄがわかる。この駆動量Δｄはパルスモー
タ３の駆動量Ｃとピエゾ５の駆動量Ｆに Δｄ−Ｃ＋Ｆ なる関係を満足するように割当てられる（ステップ３２
）。このとき、Ｆはピエゾの最大ストＯ−りによって制
約される。即ち、 Ｆ＜（最大ストローク値） でなければならない。次に、パルスモータ３およびピエ
ゾ５を割当てた駆動量ＣおよびＦで駆動する（ステップ
３３）。さらに、前記Ｃの値即ち粗動系としてのパルス
モータの駆動量がゼロであるか否かを判定しくステップ
３４）、駆動ｍＣがゼロでなければステップ３１の測距
の処理にもどって再びステップ３１〜３４の動作を繰り
返す。、即ち、位置合せ動作を反復する。一方、Ｃがゼ
ロであれば位置合せを終了する（ステップ３５）。ここ
で、位置合せ終了に達するのは粗動系としてのパルスモ
ータ３の駆動−がゼＯの場合であるから、Ｚステージ６
の位置合せは最終的には微動系としてのピエゾ５の駆動
精度で実施されていることになる。従って、従来、粗動
系に依存し低い精度で行なわれていた位置合せは、常に
、より精度の高い微動系の駆動精度で実施することがで
きる。また、駆動精度が保証されるので、駆動後エアセ
ンサによりウェハまでの距離を再度測定する必要もなく
、投影焼付装置としてのスループットの低下も回避でき
る。
理の流れについて説明する。位置合せが開始（ステップ
３０）されると、まずエアセンサによりウェハ面までの
距離を測定する（ステップ３１）。実際に測定している
のは、ウェハ７の表面とエアセンサノズル１２〜１５の
間の距離である。この測定により得られた値からウェハ
７の駆動量Δｄがわかる。この駆動量Δｄはパルスモー
タ３の駆動量Ｃとピエゾ５の駆動量Ｆに Δｄ−Ｃ＋Ｆ なる関係を満足するように割当てられる（ステップ３２
）。このとき、Ｆはピエゾの最大ストＯ−りによって制
約される。即ち、 Ｆ＜（最大ストローク値） でなければならない。次に、パルスモータ３およびピエ
ゾ５を割当てた駆動量ＣおよびＦで駆動する（ステップ
３３）。さらに、前記Ｃの値即ち粗動系としてのパルス
モータの駆動量がゼロであるか否かを判定しくステップ
３４）、駆動ｍＣがゼロでなければステップ３１の測距
の処理にもどって再びステップ３１〜３４の動作を繰り
返す。、即ち、位置合せ動作を反復する。一方、Ｃがゼ
ロであれば位置合せを終了する（ステップ３５）。ここ
で、位置合せ終了に達するのは粗動系としてのパルスモ
ータ３の駆動−がゼＯの場合であるから、Ｚステージ６
の位置合せは最終的には微動系としてのピエゾ５の駆動
精度で実施されていることになる。従って、従来、粗動
系に依存し低い精度で行なわれていた位置合せは、常に
、より精度の高い微動系の駆動精度で実施することがで
きる。また、駆動精度が保証されるので、駆動後エアセ
ンサによりウェハまでの距離を再度測定する必要もなく
、投影焼付装置としてのスループットの低下も回避でき
る。
なお、第３図におけるパルスモータ３の代わりにＤＣモ
ータやストロークの長いピエゾを、またピエゾの代わり
に駆動精度のより高いパルスモータ等を、それぞれ用い
ても同様な効果が得られることは明白である。また、第
２図のフローチャートのステップ３４の判定において、
パルスモータ３の駆動ｌＣとゼロとを比較する代わりに
２ステージの駆動量Δｄの大きさを用いて Δｄ≧（ピエゾの最大ストローク値） 等の条件で判定しても同様な効果が得られることは明白
である。
ータやストロークの長いピエゾを、またピエゾの代わり
に駆動精度のより高いパルスモータ等を、それぞれ用い
ても同様な効果が得られることは明白である。また、第
２図のフローチャートのステップ３４の判定において、
パルスモータ３の駆動ｌＣとゼロとを比較する代わりに
２ステージの駆動量Δｄの大きさを用いて Δｄ≧（ピエゾの最大ストローク値） 等の条件で判定しても同様な効果が得られることは明白
である。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、ウェハ等の平板
状物体までの距離を測定した測定値を基にして、それら
の物体の駆動時に精度の低い粗動系を使用したかそれと
も粗動系は使用せず精度の高い微動系により駆動したか
を判別し、その判別結果に応じて位置合せの動作を反復
するか終了するかを判定しているため、常に駆動位置合
せ精度の＾い微動系によってのみ位置合せが終了する。
状物体までの距離を測定した測定値を基にして、それら
の物体の駆動時に精度の低い粗動系を使用したかそれと
も粗動系は使用せず精度の高い微動系により駆動したか
を判別し、その判別結果に応じて位置合せの動作を反復
するか終了するかを判定しているため、常に駆動位置合
せ精度の＾い微動系によってのみ位置合せが終了する。
従って、常に高い位置合せ精度を確保することができる
。
。
また、位置合せが終了したときの精度が保証されるため
、駆動した後に平板状物体までの距離を再測定する必要
がなく、投影焼付装置としての著しいスループットの低
下も回避することができる。
、駆動した後に平板状物体までの距離を再測定する必要
がなく、投影焼付装置としての著しいスループットの低
下も回避することができる。
第１図は、本発明の一実施例に係る自動焦点合せ装置の
システムブロック図、 第２図は、第１図の装置における処理手順を示すフロー
チャート、 第３図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の縮小投影レンズおよびエアセンサ部分の断
面図、 第４図は、縮小投影レンズとエアセンサのノズルおよび
ウェハの上面図、 第５図は、ウェハ上のショットレイアウト並びに縮小投
影レンズおよびエアセンサノズルの配置を示す図である
。 １・・・縮小投影レンズ、 ２．１２〜１５・・・エアセンサノズル、３・・・パル
スモータ、４・・・駆動力伝達機構、５・・・ピエゾ、
６・・・Ｚステージ、７・・・ウェハ、２１・・・コン
ソール、２２・・・本体制御系。 第２図
システムブロック図、 第２図は、第１図の装置における処理手順を示すフロー
チャート、 第３図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の縮小投影レンズおよびエアセンサ部分の断
面図、 第４図は、縮小投影レンズとエアセンサのノズルおよび
ウェハの上面図、 第５図は、ウェハ上のショットレイアウト並びに縮小投
影レンズおよびエアセンサノズルの配置を示す図である
。 １・・・縮小投影レンズ、 ２．１２〜１５・・・エアセンサノズル、３・・・パル
スモータ、４・・・駆動力伝達機構、５・・・ピエゾ、
６・・・Ｚステージ、７・・・ウェハ、２１・・・コン
ソール、２２・・・本体制御系。 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、平板状物体を水平方向にステップ移動させる移動手
段と、投影光学系の結像面と上記物体面との距離を測定
する位置検知手段と、該位置検知手段の測定値出力から
算出される位置情報を設定駆動量として上記物体および
投影光学系を光軸方向に相対的に駆動する駆動手段とを
備え、各ステップ移動後、該物体面の各領域を順次投影
光学系の結像面に一致することを可能とする自動焦点合
せ装置であって、 上記駆動手段が、上記物体または投影光学系を相対的に
粗略に駆動する粗動手段と、上記物体または投影光学系
を相対的に微細に駆動する微動手段と、各ステップ毎に
、位置合せの動作を反復するか終了するかを上記位置情
報を基に判定する手段とを具備することを特徴とする自
動焦点合せ装置。 ２、前記位置情報が、前記粗動手段による粗動量と前記
微動手段による微動量との和として算出されるものであ
り、前記判定手段は、上記粗動量が零であるか否かに従
つて位置合せの終了および反復を判定する特許請求の範
囲第１項記載の自動焦点合せ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60130859A JPS61289629A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 位置合せ方法およびその方法を用いた自動焦点合せ装置 |
| US06/843,392 US4714331A (en) | 1985-03-25 | 1986-03-24 | Method and apparatus for automatic focusing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60130859A JPS61289629A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 位置合せ方法およびその方法を用いた自動焦点合せ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61289629A true JPS61289629A (ja) | 1986-12-19 |
| JPH0149008B2 JPH0149008B2 (ja) | 1989-10-23 |
Family
ID=15044364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60130859A Granted JPS61289629A (ja) | 1985-03-25 | 1985-06-18 | 位置合せ方法およびその方法を用いた自動焦点合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61289629A (ja) |
-
1985
- 1985-06-18 JP JP60130859A patent/JPS61289629A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0149008B2 (ja) | 1989-10-23 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |