JPS6290615A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPS6290615A JPS6290615A JP60232026A JP23202685A JPS6290615A JP S6290615 A JPS6290615 A JP S6290615A JP 60232026 A JP60232026 A JP 60232026A JP 23202685 A JP23202685 A JP 23202685A JP S6290615 A JPS6290615 A JP S6290615A
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- polygon mirror
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の分野)
本発明は回転多面鏡に反射偏向された光ビームにより走
査面上を走査する光走査装置に関し、将に詳細には光ビ
ームを有効に使用することができるとともに1枚の走査
面に対する走査時間を短縮することの可能な光走査装置
に関するものでおる。
査面上を走査する光走査装置に関し、将に詳細には光ビ
ームを有効に使用することができるとともに1枚の走査
面に対する走査時間を短縮することの可能な光走査装置
に関するものでおる。
(発明の技術的背景および先行技術〉
近年、光ビームを用いて画像の読取りおよび、/または
記録を行なう光走査装置が種々開発されている。このよ
うな装置においては、光源から発せられた光ビームは光
偏向器によって反射偏向されて、一定速度で光ビームに
対して相対的に偏向方向と垂直な方向に送られる(副走
査される)走査面上を略一定の走査幅で主走査するよう
になっている。また前記光偏向器と疋査面の間には、光
偏向器により(偏向された光ビームを走査面上において
集束ざぜ、走査面上を直線状に等速で走査せしめる走査
レンズが設けられている。
記録を行なう光走査装置が種々開発されている。このよ
うな装置においては、光源から発せられた光ビームは光
偏向器によって反射偏向されて、一定速度で光ビームに
対して相対的に偏向方向と垂直な方向に送られる(副走
査される)走査面上を略一定の走査幅で主走査するよう
になっている。また前記光偏向器と疋査面の間には、光
偏向器により(偏向された光ビームを走査面上において
集束ざぜ、走査面上を直線状に等速で走査せしめる走査
レンズが設けられている。
ところで上記先走1k装置において、偏向器として回転
多面鏡を用いた場合には、光ビームの一部を走査面上を
走査する走査光として使用することかで汚ず、光ビーム
を有効に使用することができないという問題がある。す
なわち、回転多面鏡は同じく光停向器であるガルバノメ
ータミラー等と比べて光ビームの偏向角度が大きく、こ
のため、光ビームが回転多面鏡により反射幅向された後
に入射する前記走査レンズとして画角の大きいものが必
要となり、走査レンズ自体が大きなものとなる。また、
このような画角の大きいレンズはレンズ99計が非常に
難かしく、レンズ周辺部は必要な性能を満たすことがで
きずにレンズ周辺部を通った光ビームは走査光として用
いることができないという不都合が生ずる。また回転多
面鏡に入射する光ビームは所定のビーム径を有しており
、光ビームに対して回転多面鏡の反射面が切り換わる時
、すなわちあるビーム径の光ビームが2つの反射面にま
たがって入射する時には光ビームが偏向方向外に反射さ
れてしまうという問題があり、主走査方向の両端につい
ては光ビームにより良好な走査線を形成することができ
ないという不都合もある。
多面鏡を用いた場合には、光ビームの一部を走査面上を
走査する走査光として使用することかで汚ず、光ビーム
を有効に使用することができないという問題がある。す
なわち、回転多面鏡は同じく光停向器であるガルバノメ
ータミラー等と比べて光ビームの偏向角度が大きく、こ
のため、光ビームが回転多面鏡により反射幅向された後
に入射する前記走査レンズとして画角の大きいものが必
要となり、走査レンズ自体が大きなものとなる。また、
このような画角の大きいレンズはレンズ99計が非常に
難かしく、レンズ周辺部は必要な性能を満たすことがで
きずにレンズ周辺部を通った光ビームは走査光として用
いることができないという不都合が生ずる。また回転多
面鏡に入射する光ビームは所定のビーム径を有しており
、光ビームに対して回転多面鏡の反射面が切り換わる時
、すなわちあるビーム径の光ビームが2つの反射面にま
たがって入射する時には光ビームが偏向方向外に反射さ
れてしまうという問題があり、主走査方向の両端につい
ては光ビームにより良好な走査線を形成することができ
ないという不都合もある。
また、このため前述した回転多面鏡の偏向角度の大きざ
による問題を解消するために、反射面の数の多い、比較
的偏向角度の小さい回転多面鏡を用いても、反射面数の
多い回転多面鏡を用いる場合には、偏向方向外に反射さ
れてしまう光ビームの割合が相対的に増大してしまうの
で、光ビームの有効利用にはつながらないという問題も
生じる。
による問題を解消するために、反射面の数の多い、比較
的偏向角度の小さい回転多面鏡を用いても、反射面数の
多い回転多面鏡を用いる場合には、偏向方向外に反射さ
れてしまう光ビームの割合が相対的に増大してしまうの
で、光ビームの有効利用にはつながらないという問題も
生じる。
ところで上記光走査装置においては走査面に対する走査
を終了するまでに要する走査時間を短縮したいという要
請がある。前述のような、光ビームの一部が無駄になる
という問題を解消し、光ビームを漏れなく有効に走査光
として用いることができれば単位時間当たりに行なう走
査饅の増加につながるので結果として走査時間を短縮す
ることも可能となる。上記走査時間の短縮の要請は特に
光走査読取装置において大きく、従来の光走査読取装置
においては、走査時間を短縮するために、複数の光ビー
ムを合波して1本の光ビームとして用いるという方法等
が用いられている。すなわち、走査時間を短縮するため
には副走査速度を上げなければならず、副走査速度を上
げるためには走査線の間隔を保つために回転多面鏡の回
転速度を上げることによって主走査速度も上げる必要が
あるので、光ビームの主走査速度を上げても光ビームに
よる十分な読取りが行なうことができるように光ビーム
を合波して光ビームのパワーを増大させて走査を行なう
ものである。しかしながら、光ビームの合波は2次元方
向に精度よく行なう必要があるので、上記のような光ビ
ームの合波を行なう装置においては光ビーム合波のため
の手段の調整が難しいという問題が生じ、光走査装置全
体に適用可能であり、かつ複雑な調整が不要な方法によ
り走査速度を短縮することが望まれている。
を終了するまでに要する走査時間を短縮したいという要
請がある。前述のような、光ビームの一部が無駄になる
という問題を解消し、光ビームを漏れなく有効に走査光
として用いることができれば単位時間当たりに行なう走
査饅の増加につながるので結果として走査時間を短縮す
ることも可能となる。上記走査時間の短縮の要請は特に
光走査読取装置において大きく、従来の光走査読取装置
においては、走査時間を短縮するために、複数の光ビー
ムを合波して1本の光ビームとして用いるという方法等
が用いられている。すなわち、走査時間を短縮するため
には副走査速度を上げなければならず、副走査速度を上
げるためには走査線の間隔を保つために回転多面鏡の回
転速度を上げることによって主走査速度も上げる必要が
あるので、光ビームの主走査速度を上げても光ビームに
よる十分な読取りが行なうことができるように光ビーム
を合波して光ビームのパワーを増大させて走査を行なう
ものである。しかしながら、光ビームの合波は2次元方
向に精度よく行なう必要があるので、上記のような光ビ
ームの合波を行なう装置においては光ビーム合波のため
の手段の調整が難しいという問題が生じ、光走査装置全
体に適用可能であり、かつ複雑な調整が不要な方法によ
り走査速度を短縮することが望まれている。
(発明の目的)
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
り、回転多面鏡を備えた光走査装置において、光ビーム
を有効に使用した無駄のない走査を突環するとともに、
走査時間を短縮することの可能な光走査装置を提供する
ことを目的とするものである。
り、回転多面鏡を備えた光走査装置において、光ビーム
を有効に使用した無駄のない走査を突環するとともに、
走査時間を短縮することの可能な光走査装置を提供する
ことを目的とするものである。
(発明の構成)
本発明の光ビーム走査装置は、光ビームを反射幅向する
回転多面鏡が、互いの回転方向の位置が相対的に可変で
必るn個(nは2以上の自然数)の回転多面鏡が同軸に
重ねられてなる回転多面鏡体でおり、前記光ビームが、
同一の走査範囲を走査せしめられることの可能な方向か
ら前記n個の回転多面鏡にそれぞれ1本ずつ入射するn
本の光ビームであって、該n本の光ビームは、いずれか
1つの光ビームが前記走査範囲を走査するように選択的
に前記回転多面鏡体に入射せしめられるように交互に切
り換えられ、この光ビームの切り換えが前記回転多面鏡
の1つの反射面の偏向時間の1/n時間毎に行なわれる
ことを特徴とするものである。すなわち本発明の装置に
おいては、従来1つの回転多面鏡により1本の光ビーム
を反射偏向して主走査を一回行なわしめる間に、n本の
光ビームを交互に前記n個の回転多面鏡の1つに入射せ
しめて、各回転多面鏡により各光ビームを同−の走査範
囲を走査するように反射(偏向させるようになっている
ため、各々の光ビームの実質的な(偏向角度は従来の偏
向角度の1/nとなり、設計が容易で十分な性能を出す
ことができる画角の小さい走査レンズを用いることがで
きる。また、各光ビームは各反射面の中央部分のみに反
射され、反射面の端部には反射されないように各回転多
面鏡に入射されることができるので、光ビームが偏向方
向外に反射されるという不都合が生じなくなり、光ビー
ムをほぼ100%走査光として用いることができる。ま
た、前記回転多面鏡体のn個の回転多面鏡は互いの回転
方向の位置が可変となっているので各回転多面鏡の相対
的な位置を調節することにより、回転多面鏡に入射する
光ビームの光路を変更することができ、装置の設計自田
度が高いものとなる。なおここで各回転多面鏡の位置が
可変で必るとは、回転多面鏡体の製造時に任意の位置に
各回転多面鏡を位置決めし、使用時には固定される場合
と、使用中にも状況に応じて回転多面鏡相互の相対的な
位置を変えられる場合の両方を含むものとする。ざらに
、7に発明の装置においては走査面上に、単位時間当た
り従来のn倍の疋Mt4が形成されるので副走査速度を
従来のn倍に上げることができ、走査時間を大きく短縮
することもできる。なおここで]つの反射面の偏向時間
とは回転多面鏡が1回転するのに要する時間を反射面の
数で割った時間であり、回転多面鏡体の各回転多面鏡は
その反射面の数が全て等しいので各反射面の偏向時間も
等しくなる。
回転多面鏡が、互いの回転方向の位置が相対的に可変で
必るn個(nは2以上の自然数)の回転多面鏡が同軸に
重ねられてなる回転多面鏡体でおり、前記光ビームが、
同一の走査範囲を走査せしめられることの可能な方向か
ら前記n個の回転多面鏡にそれぞれ1本ずつ入射するn
本の光ビームであって、該n本の光ビームは、いずれか
1つの光ビームが前記走査範囲を走査するように選択的
に前記回転多面鏡体に入射せしめられるように交互に切
り換えられ、この光ビームの切り換えが前記回転多面鏡
の1つの反射面の偏向時間の1/n時間毎に行なわれる
ことを特徴とするものである。すなわち本発明の装置に
おいては、従来1つの回転多面鏡により1本の光ビーム
を反射偏向して主走査を一回行なわしめる間に、n本の
光ビームを交互に前記n個の回転多面鏡の1つに入射せ
しめて、各回転多面鏡により各光ビームを同−の走査範
囲を走査するように反射(偏向させるようになっている
ため、各々の光ビームの実質的な(偏向角度は従来の偏
向角度の1/nとなり、設計が容易で十分な性能を出す
ことができる画角の小さい走査レンズを用いることがで
きる。また、各光ビームは各反射面の中央部分のみに反
射され、反射面の端部には反射されないように各回転多
面鏡に入射されることができるので、光ビームが偏向方
向外に反射されるという不都合が生じなくなり、光ビー
ムをほぼ100%走査光として用いることができる。ま
た、前記回転多面鏡体のn個の回転多面鏡は互いの回転
方向の位置が可変となっているので各回転多面鏡の相対
的な位置を調節することにより、回転多面鏡に入射する
光ビームの光路を変更することができ、装置の設計自田
度が高いものとなる。なおここで各回転多面鏡の位置が
可変で必るとは、回転多面鏡体の製造時に任意の位置に
各回転多面鏡を位置決めし、使用時には固定される場合
と、使用中にも状況に応じて回転多面鏡相互の相対的な
位置を変えられる場合の両方を含むものとする。ざらに
、7に発明の装置においては走査面上に、単位時間当た
り従来のn倍の疋Mt4が形成されるので副走査速度を
従来のn倍に上げることができ、走査時間を大きく短縮
することもできる。なおここで]つの反射面の偏向時間
とは回転多面鏡が1回転するのに要する時間を反射面の
数で割った時間であり、回転多面鏡体の各回転多面鏡は
その反射面の数が全て等しいので各反射面の偏向時間も
等しくなる。
(実 施 態 様)
以下、図面を参照して本発明の実施態様について説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施態様による光走査装置を示す斜
視図でおる。
視図でおる。
第1のビーム光源]から発せられた第1の光ビーム2お
よび第2のビーム光源3から発せられた第2の光ビーム
4は上下方向に並んだ互いに平行な光ビームでおり、両
光ビームは矢印六方向に回転する回転多面鏡体5に交互
に切り換えられて入射する。前記回転多面鏡5は6枚の
反射面を有する下部回転多面境5Aと同じく6枚の反射
面を有する下部回転多面境5Bが同軸に重ねられて一体
に回転するものであり、上部回転多面鏡5Aと回転多面
iff 5 Bは、互いの反射面が平行な状態から30
’だけ相対的に位置をずらされたものとなっている。前
記第1の光ビーム2は上部回転多面鏡5Aに、前記第2
の光ビーム4は下部回転多面鏡5Bにそれぞれ入射せし
められ、各回転多面鏡により略同−の偏向範囲内に交互
に反射偏向される。
よび第2のビーム光源3から発せられた第2の光ビーム
4は上下方向に並んだ互いに平行な光ビームでおり、両
光ビームは矢印六方向に回転する回転多面鏡体5に交互
に切り換えられて入射する。前記回転多面鏡5は6枚の
反射面を有する下部回転多面境5Aと同じく6枚の反射
面を有する下部回転多面境5Bが同軸に重ねられて一体
に回転するものであり、上部回転多面鏡5Aと回転多面
iff 5 Bは、互いの反射面が平行な状態から30
’だけ相対的に位置をずらされたものとなっている。前
記第1の光ビーム2は上部回転多面鏡5Aに、前記第2
の光ビーム4は下部回転多面鏡5Bにそれぞれ入射せし
められ、各回転多面鏡により略同−の偏向範囲内に交互
に反射偏向される。
前記上部回転多面鏡5Aおよび下部回転多面鏡5Bは前
述のようにそれぞれ6枚の反射面を有してあり、各回転
多面鏡共、1本の光ビームが連続的に入射した場合には
、60’回転する間に光ビームを一回反射愕向し、その
場合の光ビームの偏向角度は120° となる。本実施
態様の装置における前記光ビーム2,4の切り換えは回
転多面鏡体5が30°回転する毎、すなわち1つの反射
面の4%向時間の1,72時間毎に交互に行なわれ、各
光ビーム2.4の実質的な偏向角度は60’ となる。
述のようにそれぞれ6枚の反射面を有してあり、各回転
多面鏡共、1本の光ビームが連続的に入射した場合には
、60’回転する間に光ビームを一回反射愕向し、その
場合の光ビームの偏向角度は120° となる。本実施
態様の装置における前記光ビーム2,4の切り換えは回
転多面鏡体5が30°回転する毎、すなわち1つの反射
面の4%向時間の1,72時間毎に交互に行なわれ、各
光ビーム2.4の実質的な偏向角度は60’ となる。
次に第2図以下の図面を参照して前記回転多面鏡体5に
よる第1の光ビーム2および第2の光ビーム4の反射偏
向について更に詳細に説明する。
よる第1の光ビーム2および第2の光ビーム4の反射偏
向について更に詳細に説明する。
前記第1の光ビーム2は上部回転多面鏡5 A jr1
第2図(a>に実線で示す位置に必る際によ部回転多面
鏡5Aの一反射面5aに入射を開始し、上部回転多面鏡
5△が第2図(a)に示す位置から矢印六方向に30°
回転する間、回転多面鏡5△に入射して反射偏向される
。すなわち第3図において、第2図(a)において示さ
れた前記反射面5aの位置は、図中実線で示される位置
9,1であり、光ビーム2は位置9.sにある反射面5
aにより、まず図中実線で示す光路d1に反射偏向され
る。反射面5aが位置免1から15°回転して図中一点
鎖線で示す位置9.zに至った時に光ビーム2は走査の
中央の位置である図中1点鎖線で示す光路d2に反則偏
向される。また光ビーム2は反射面5aが位首見2にめ
る時に反射面5aの略中央に入射するような方向から上
部回転多面115 Aに入射せしめられている。光ビー
ム2は反射面5aが位置免2からざらに15°回転して
図中破線で示す位置9J3に至るまで上部回転多面鏡5
Aに入射を続け、光ビーム2は位置必3にある反射面5
aにより図中破線で示す光路d3に反DA tQ向され
る。従って第1の光ビーム2の偏向範囲は図中実線で示
す光路dlから図中破線で示す光路d3までとなり、光
ビームの実質的な偏向角度は60°となる。
第2図(a>に実線で示す位置に必る際によ部回転多面
鏡5Aの一反射面5aに入射を開始し、上部回転多面鏡
5△が第2図(a)に示す位置から矢印六方向に30°
回転する間、回転多面鏡5△に入射して反射偏向される
。すなわち第3図において、第2図(a)において示さ
れた前記反射面5aの位置は、図中実線で示される位置
9,1であり、光ビーム2は位置9.sにある反射面5
aにより、まず図中実線で示す光路d1に反射偏向され
る。反射面5aが位置免1から15°回転して図中一点
鎖線で示す位置9.zに至った時に光ビーム2は走査の
中央の位置である図中1点鎖線で示す光路d2に反則偏
向される。また光ビーム2は反射面5aが位首見2にめ
る時に反射面5aの略中央に入射するような方向から上
部回転多面115 Aに入射せしめられている。光ビー
ム2は反射面5aが位置免2からざらに15°回転して
図中破線で示す位置9J3に至るまで上部回転多面鏡5
Aに入射を続け、光ビーム2は位置必3にある反射面5
aにより図中破線で示す光路d3に反DA tQ向され
る。従って第1の光ビーム2の偏向範囲は図中実線で示
す光路dlから図中破線で示す光路d3までとなり、光
ビームの実質的な偏向角度は60°となる。
上記のように反射面5aが位置9J3に至り、第1の光
ビーム2の回転多面鏡体5への入射が停止された時点で
第2図(b)に示すように下部回転多面鏡5Bの反射面
5bは前記上部回転多面鏡5Aの反射面5aが第1の光
ビーム2の反射偏向を開始した位置と同一平面上にある
位置に至り、第2の光ビーム4は上記位置にある反射面
5bに入射を開始し、反射面5bにより、反射面5bが
30”回転する間前記第1の光ビーム2と同一の偏向範
囲に反射偏向される。また第2の光ビーム4と第1の光
ビーム2は上下方向に並んだ平行な光ビームであるので
、第2の光ビーム4も反射面5bが偏向の中央の位置に
おる際に反射面5bの略中央に入射する。このように反
射面5bによる第2の光ビーム4の反射偏向が終了する
と、回転多面鏡体5に入射せしめられる光ビームは第2
の光ビーム4から再び第1の光ビーム2へと切り換えら
れ、第1の光ビーム2は前述した位置!2.1に至って
いる上部回転多面鏡5Aの次の反射面により反射偏向さ
れる。
ビーム2の回転多面鏡体5への入射が停止された時点で
第2図(b)に示すように下部回転多面鏡5Bの反射面
5bは前記上部回転多面鏡5Aの反射面5aが第1の光
ビーム2の反射偏向を開始した位置と同一平面上にある
位置に至り、第2の光ビーム4は上記位置にある反射面
5bに入射を開始し、反射面5bにより、反射面5bが
30”回転する間前記第1の光ビーム2と同一の偏向範
囲に反射偏向される。また第2の光ビーム4と第1の光
ビーム2は上下方向に並んだ平行な光ビームであるので
、第2の光ビーム4も反射面5bが偏向の中央の位置に
おる際に反射面5bの略中央に入射する。このように反
射面5bによる第2の光ビーム4の反射偏向が終了する
と、回転多面鏡体5に入射せしめられる光ビームは第2
の光ビーム4から再び第1の光ビーム2へと切り換えら
れ、第1の光ビーム2は前述した位置!2.1に至って
いる上部回転多面鏡5Aの次の反射面により反射偏向さ
れる。
このように本実施態様の装置においては上部回転多面鏡
5Aと下部回転多面鏡5Bからなる回転多面鏡体5によ
り、第1の光ビーム2および第2の光ビーム4は主走査
方向に略等しい範囲を交互に反射偏向され、両ビーム2
,4は第1図に示すように矢印B方向に搬送される(副
走査される)走査面6上を繰り返し交互に主走査する。
5Aと下部回転多面鏡5Bからなる回転多面鏡体5によ
り、第1の光ビーム2および第2の光ビーム4は主走査
方向に略等しい範囲を交互に反射偏向され、両ビーム2
,4は第1図に示すように矢印B方向に搬送される(副
走査される)走査面6上を繰り返し交互に主走査する。
また前記回転多面鏡体5と走査面6の間には、回転多面
鏡体5により略等角速度で偏向された光ビーム2゜4を
平坦な走査面6上において集束させ、略等速で走査せし
める走査レンズ7が設けられており、回転多面鏡体5に
より偏向された光ビーム2および光ビーム4の反射光は
互い(平行な光ビームであるので、両光ビーム2.4は
走査レンズ7により走査面6上の同一位置で集束せしめ
られ、同一走査範囲を交互に主走査する。従って走査面
6上には、図示のように光ビーム2による走査線2Aと
光ビーム4による走査線4Aが交互に形成され伝 ところで前記走査レンズ7の十分に性能を満足する画角
の大きざには実用上限界があり、従来のように1つの6
面の回転多面鏡により光ビームが120°の偏向角度で
偏向された場合には、走査レンズ7の周辺部に入射され
る、偏向された光ビームは必要な性能(例えば像面わん
曲、ビーム形状、fθ性等)を満たすことができないが
、本実施態様の装置においては光ビーム2,4の偏向角
度は共に60°でおるので小型で十分に性能のよい走査
レンズ7を用いることができ両光ビーム2,4とも略全
ての光ビームを漏れなく走査光として用いることができ
る。また、本装置においては前述のように2つの光ビー
ム2,4はそれぞれ上部回転多面鏡5Aおよび下部回転
多面鏡5Bの1つの反射面が30°回転する間に、各反
射面の中央部分のみにより反射(偏向されるので、光ビ
ーム2,4が2つの反射面にまたがって反射することが
なくなり、光ビームは全て偏向方向に正しく反射偏向さ
れ、全ての光ビームを無駄なく走査光として用いること
ができる。
鏡体5により略等角速度で偏向された光ビーム2゜4を
平坦な走査面6上において集束させ、略等速で走査せし
める走査レンズ7が設けられており、回転多面鏡体5に
より偏向された光ビーム2および光ビーム4の反射光は
互い(平行な光ビームであるので、両光ビーム2.4は
走査レンズ7により走査面6上の同一位置で集束せしめ
られ、同一走査範囲を交互に主走査する。従って走査面
6上には、図示のように光ビーム2による走査線2Aと
光ビーム4による走査線4Aが交互に形成され伝 ところで前記走査レンズ7の十分に性能を満足する画角
の大きざには実用上限界があり、従来のように1つの6
面の回転多面鏡により光ビームが120°の偏向角度で
偏向された場合には、走査レンズ7の周辺部に入射され
る、偏向された光ビームは必要な性能(例えば像面わん
曲、ビーム形状、fθ性等)を満たすことができないが
、本実施態様の装置においては光ビーム2,4の偏向角
度は共に60°でおるので小型で十分に性能のよい走査
レンズ7を用いることができ両光ビーム2,4とも略全
ての光ビームを漏れなく走査光として用いることができ
る。また、本装置においては前述のように2つの光ビー
ム2,4はそれぞれ上部回転多面鏡5Aおよび下部回転
多面鏡5Bの1つの反射面が30°回転する間に、各反
射面の中央部分のみにより反射(偏向されるので、光ビ
ーム2,4が2つの反射面にまたがって反射することが
なくなり、光ビームは全て偏向方向に正しく反射偏向さ
れ、全ての光ビームを無駄なく走査光として用いること
ができる。
ところで、本発明の装置においては、上述のように2つ
の光ビーム2,4を切り換えて交互に走査を行なわせる
ようにしたことにより、走査面6上に形成される走査線
の密度は1水の光ビームを連続して回転多面鏡に入射せ
しめる場合に比べ2倍となる。従って、走査面6の搬送
速度を従来の2倍にしても走査線の密度は変わらないの
で、走査面6に対して走査を行なう走査時間を従来の1
/2程度に短縮することができる。なお、本実施態様の
装置において、走査速度の短縮は、2本の光ビームを切
り換えて用いることにより達成することができるもので
あり、従来、走査速度を短縮するために光走査読取装置
などで実施される、複数の光ビームを1本の光ビームに
合波して走査ビームとして使用する方法に比べて光ビー
ムの位置調整が容易となる。すなわち、光ビームを合波
する場合には、各光ビームが合成されて走査面上の同一
位置を正確に走査するように、各光ビームの位置を2次
元方向に精密に調整する必要があるが、不実1Mg様の
装置においては、各光ビームは走査面上にあける副走査
方向の位置決めのみを高精度に行なえばよく、主走査方
向については従来より公知のグリッド等を用いた同期や
始点制御などにより別途調整を行なうことができるので
、その位置調整が格段に容易となる。
の光ビーム2,4を切り換えて交互に走査を行なわせる
ようにしたことにより、走査面6上に形成される走査線
の密度は1水の光ビームを連続して回転多面鏡に入射せ
しめる場合に比べ2倍となる。従って、走査面6の搬送
速度を従来の2倍にしても走査線の密度は変わらないの
で、走査面6に対して走査を行なう走査時間を従来の1
/2程度に短縮することができる。なお、本実施態様の
装置において、走査速度の短縮は、2本の光ビームを切
り換えて用いることにより達成することができるもので
あり、従来、走査速度を短縮するために光走査読取装置
などで実施される、複数の光ビームを1本の光ビームに
合波して走査ビームとして使用する方法に比べて光ビー
ムの位置調整が容易となる。すなわち、光ビームを合波
する場合には、各光ビームが合成されて走査面上の同一
位置を正確に走査するように、各光ビームの位置を2次
元方向に精密に調整する必要があるが、不実1Mg様の
装置においては、各光ビームは走査面上にあける副走査
方向の位置決めのみを高精度に行なえばよく、主走査方
向については従来より公知のグリッド等を用いた同期や
始点制御などにより別途調整を行なうことができるので
、その位置調整が格段に容易となる。
なお、本発明の装置における回転多面鏡体の回転多面鏡
の数は2つに限られるものではなく走査レンズの画角ヤ
必要な主走査幅等の種々の条件に応じて2個以上の任意
の個数で必ってよい。いずれの場合にも光ビームの数を
回転多面鏡の数と同数にして各回転多面鏡にそれぞれ入
射すればよい。
の数は2つに限られるものではなく走査レンズの画角ヤ
必要な主走査幅等の種々の条件に応じて2個以上の任意
の個数で必ってよい。いずれの場合にも光ビームの数を
回転多面鏡の数と同数にして各回転多面鏡にそれぞれ入
射すればよい。
また、回転多面鏡体の各回転多面鏡の回転方向にあける
相対的な位置関係および各光ビームの入射方向は上記実
施態様において示したものに限られるものではなく、各
光ビームが走査面上において同一走査範囲を走査するこ
とのできる範囲でめれば、装置の設計上の要請等に応じ
て任意に調整することかで゛きる。さらに光ビームを発
するビーム光源は、必ずしも装置に用いられる光ビーム
の数と同数設けられる必要はなく、例えば第4図に示す
ようにビーム光源11から発せられた光ビーム12をA
OM (音響光学式光変調器)18に入射せしめてO次
光12Aと1次光12Bとに分割させ、制御手段19に
よりO次光12Aと1次光12Bの光量の割合を一定周
期で変化ざぜてO次光12Aと1次光123の光量を交
互に切り換えるようにすれば同一のビーム光源から2本
の光ビームを取り出すことができる。AOMlBから交
互に射出されたO次光12A、1次光12Bは、−例と
して集束レンズ20により集束せしめた後、各々ミラー
21A、 22Bにより任意の方向に光路を変化させ、
ざらにコリメータレンズ22A、22Bをそれぞれ通過
させて平行光とした後、更にミラー等により光路を調整
して回転多面鏡体にそれぞれ所定の方向から入射せしめ
るようにすればよい。
相対的な位置関係および各光ビームの入射方向は上記実
施態様において示したものに限られるものではなく、各
光ビームが走査面上において同一走査範囲を走査するこ
とのできる範囲でめれば、装置の設計上の要請等に応じ
て任意に調整することかで゛きる。さらに光ビームを発
するビーム光源は、必ずしも装置に用いられる光ビーム
の数と同数設けられる必要はなく、例えば第4図に示す
ようにビーム光源11から発せられた光ビーム12をA
OM (音響光学式光変調器)18に入射せしめてO次
光12Aと1次光12Bとに分割させ、制御手段19に
よりO次光12Aと1次光12Bの光量の割合を一定周
期で変化ざぜてO次光12Aと1次光123の光量を交
互に切り換えるようにすれば同一のビーム光源から2本
の光ビームを取り出すことができる。AOMlBから交
互に射出されたO次光12A、1次光12Bは、−例と
して集束レンズ20により集束せしめた後、各々ミラー
21A、 22Bにより任意の方向に光路を変化させ、
ざらにコリメータレンズ22A、22Bをそれぞれ通過
させて平行光とした後、更にミラー等により光路を調整
して回転多面鏡体にそれぞれ所定の方向から入射せしめ
るようにすればよい。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明の光走査装置によれば、複
数の回転多面鏡を同軸に重ねてなる回転多面鏡体の各々
の回転多面鏡に複数の光ビームを交互に入射させること
により、回転多面鏡体に反射偏向される光ビームの実質
的な偏向角度を小ざくすることができ、実用上十分な性
能の得られる画角の小さな小型の走査レンズを用いるこ
とができる。また、各光ビームを反射面の中央部分のみ
により反射偏向ざぜることができるので、主走査の両端
においても光ビームが偏向方向外に反射されるという不
都合が生じなくなり、光ビームを有効に使った無駄のな
い走査を行なうことができる。
数の回転多面鏡を同軸に重ねてなる回転多面鏡体の各々
の回転多面鏡に複数の光ビームを交互に入射させること
により、回転多面鏡体に反射偏向される光ビームの実質
的な偏向角度を小ざくすることができ、実用上十分な性
能の得られる画角の小さな小型の走査レンズを用いるこ
とができる。また、各光ビームを反射面の中央部分のみ
により反射偏向ざぜることができるので、主走査の両端
においても光ビームが偏向方向外に反射されるという不
都合が生じなくなり、光ビームを有効に使った無駄のな
い走査を行なうことができる。
ざらに、本発明の装置においては、複数の光ビームを用
いて走査を行なうことにより、1本の光ビームを用いて
走査を行なう場合に比べて走査面上の単位面積当たりの
走査線の数が増加するので、副走査の速度を上げて各走
査面の走査速度を短縮することも可能となる。
いて走査を行なうことにより、1本の光ビームを用いて
走査を行なう場合に比べて走査面上の単位面積当たりの
走査線の数が増加するので、副走査の速度を上げて各走
査面の走査速度を短縮することも可能となる。
第1図は本発明の一実施態様による光走査装置を示す斜
視図、 第2図(a)、(b)および第3図は上2装置における
光ビームの反射偏向を説明する概略図、第4図は本発明
の伯の実施態様における光ビームの射出機構を示す概略
図である。 1・・・第1のビーム光源 2・・・第1の光ビーム
3・・・第2のビーム光源 4・・・第2の光ビーム
5・・・回転多面鏡体 5A・・・上部回転多面鏡 5B・・・下部回転多面鏡
視図、 第2図(a)、(b)および第3図は上2装置における
光ビームの反射偏向を説明する概略図、第4図は本発明
の伯の実施態様における光ビームの射出機構を示す概略
図である。 1・・・第1のビーム光源 2・・・第1の光ビーム
3・・・第2のビーム光源 4・・・第2の光ビーム
5・・・回転多面鏡体 5A・・・上部回転多面鏡 5B・・・下部回転多面鏡
Claims (1)
- 回転多面鏡により反射偏向された光ビームを主走査方向
に走査させる光ビーム走査装置において、前記回転多面
鏡が、反射面数の等しく互いの回転方向の位置が相対的
に可変であるn個(nは2以上の自然数)の回転多面鏡
が同軸に重ねられてなる回転多面鏡体であり、前記光ビ
ームが、同一の走査範囲を走査せしめられることの可能
な方向から前記n個の回転多面鏡にそれぞれ1本ずつ入
射するn本の光ビームであって、該n本の光ビームは、
いずれか1つの光ビームが前記走査範囲を走査するよう
に選択的に前記回転多面鏡体に入射せしめられるように
交互に切り換えられ、この光ビームの切り換えが前記回
転多面鏡の1つの反射面の傾向時間の1/n時間毎に行
なわれることを特徴とする光走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60232026A JPS6290615A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60232026A JPS6290615A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 光走査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6290615A true JPS6290615A (ja) | 1987-04-25 |
Family
ID=16932797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60232026A Pending JPS6290615A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 光走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6290615A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998047037A1 (en) * | 1997-04-17 | 1998-10-22 | Indigo N.V. | High duty cycle scanner for laser printer |
US6016356A (en) * | 1994-03-31 | 2000-01-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image superposition processing method |
EP1014147A2 (en) * | 1998-12-14 | 2000-06-28 | Xerox Corporation | Raster ouput scanner and printer |
US7132669B2 (en) | 1998-12-28 | 2006-11-07 | Hitachi, Ltd. | Method and equipment for detecting pattern defect |
CN100412608C (zh) * | 2004-10-15 | 2008-08-20 | 杨东佐 | 一种视频显示图像投影系统及其光工作方法 |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP60232026A patent/JPS6290615A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6016356A (en) * | 1994-03-31 | 2000-01-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image superposition processing method |
WO1998047037A1 (en) * | 1997-04-17 | 1998-10-22 | Indigo N.V. | High duty cycle scanner for laser printer |
US6222663B1 (en) | 1997-04-17 | 2001-04-24 | Indigo N.V. | High duty cycle scanner for laser printer |
EP1014147A2 (en) * | 1998-12-14 | 2000-06-28 | Xerox Corporation | Raster ouput scanner and printer |
EP1014147A3 (en) * | 1998-12-14 | 2001-04-25 | Xerox Corporation | Raster ouput scanner and printer |
US7132669B2 (en) | 1998-12-28 | 2006-11-07 | Hitachi, Ltd. | Method and equipment for detecting pattern defect |
US7456963B2 (en) | 1998-12-28 | 2008-11-25 | Hitachi, Ltd. | Method and equipment for detecting pattern defect |
US7791725B2 (en) | 1998-12-28 | 2010-09-07 | Hitachi, Ltd. | Method and equipment for detecting pattern defect |
US8553214B2 (en) | 1998-12-28 | 2013-10-08 | Hitachi, Ltd. | Method and equipment for detecting pattern defect |
CN100412608C (zh) * | 2004-10-15 | 2008-08-20 | 杨东佐 | 一种视频显示图像投影系统及其光工作方法 |
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