JPS6278746A - 光記録テ−プおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は新規な情報記録再生装置用記録媒体に係り、特
に光、熱エネルギーが与えられることにより金属又は合
金の結晶構造の変化にともなう分光反射率変化を利用し
た情報Ｊａ＠再生装置に使用する光記録テープに関する
。

〔発明の背景〕

近年、情報記録の高密度化、デジタル化が進むにつれて
種々の情報記録再生方式の開先が逆められている。特に
レーザの光エネルギーを情報の記録・消去・再生に利用
した光ディスクや光テープは従来の磁気ディスクや磁気
テープに比べ、高い記録密度が可能であり、分後の情報
記録の有力な方式とみられている。従来から大容量の記
録に関しては磁気的性質を利用した磁気テープの他に磁
気ドラムなどが一般的に知られている。

このうち、磁気テープはアクセスタイムは長いが、テー
プ長さに応じて膨大な記録容敏をとれるという利点があ
る。しかし、近年では各種デジタル信号処理装置や光ビ
デオディスクに見られるように２画像と音声、あるいは
その他の情報を多数に、しかも高速に長時間に渡って記
録再生するような必要が出ている。この点ではテープの
幅方向及び長さ方向に大きな記録密度を有する光記録テ
ープの実用化が望まれている６なお、従来から知られて
いるレーザ光の反射特性を利用した記録装置としてはコ
ンパクトディスクやビデオディスクがあるが、これらに
は、記録可能な方式には追記型と書き換え可能型の大き
く２つに分けられる。

前者は１回の書き込みのみが可能であり、消去はできな
い、後者はくり返しの記録、消去が可能な方式である追
記型の記録方法はレーザ光により記録部分の媒体を破壊
あるいは成形して凹凸をつけ、再生にはこの凹凸部分で
のレーザ光の干渉による光反射量の変化を利用する。こ
の記録媒体にはＴθやその合金を利用して、その溶解、
昇華による凹凸の成形が一般的に知られている。この種
の媒体では毒性など若干の問題に含んでいる。書き換え
可能型の記録媒体としては光磁気材料が主流である。こ
の方法は光エネルギーを利用してキュリ一点あるいは補
償点温度付近で媒体の局部的な磁気異方性を反転させ記
録し、その部分での偏光入射光の磁気ファラデー効果及
び磁気カー・効果による偏光面の回転量にて再生する。

この方法は卑き換え可能型の最も有望なものとして数年
後の実用化を目指し精力的な研究開発が進められている
。

しかし、現在のところ偏光面の回転量の大きな材流がな
く多層膜化などの種々の工夫をしてもＳ／Ｎ、Ｃ／Ｎな
どの出力レベルが小さいという太きな問題である。その
他の書き換え可能型方式として記録媒体の非晶質と結晶
質の可逆的相変化による反射率変化を利用したものであ
る。例えばＮａｔｉｏｒ＋ａｌ　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　
Ｒｅｏｏｒｔ　Ｖｏ　Ｑ　２９　Ｎａ　５（１９８３）
に記載Ｔ　ｅｏｘに少量のＧｅおよびＳｎを添加した合
金がある。

しかし、この方法は非晶質相の結晶化温度が低く、常温
における相の不安定さがディスクの信頼性が結びつく大
きな問題点である。

一方、色調変化による反射率差を利用した光ディスクと
しては、特開昭５７−１４０８４５号に開示したＣｕ−
ＡＱ−Ｎｉ系の合金膜や、特願昭５９−１１８９５６号
に開示したＡ　ｇ　−Ａ　ｎ系の合金膜を設けたものが
ある。

これらの色訓変化を用いた光ディスクは１例えば、特開
昭５７−１４０８４５号における合金膜では（１２〜１
５）ｗｔ％ＡＱ−（１〜５）ｗｔ％Ｎ１−残Ｃｕよりな
る合金で、マルテンサイト変態温度を境にして、赤から
黄金色に可逆的に変化することを利用したものである。

これらの可逆的反射率の変化についてその原理を第４図
を用いて説明する。図はＸ−Ｙ二元系合金の状態図であ
りα固溶体とβ、γ金属間化合物が存在する。Ａ゛組成
合金を例にとると、この合金は同相状態において、β単
相、（α＋γ）相及び（α＋γ）相がある。結晶構造は
α、β、γのそれぞれ単相状態で異なり、これを単独及
び混合相においてそれぞれ光学的性質、たとえば分光反
射率は異なる。このような合金はＴ１温度、一般的に室
温であるが、（α＋γ）相が安全である。

これをＴ４温度まで加熱急冷するとβ相がＴｌ温度まで
急冷する。この状態は（α＋γ）相とは異なるため、分
光反射率も異なってくる。この急冷β相合金をＴ、温度
以下のＴｚ湿温度で加熱冷却するとβ相は（α＋γ）相
に変態し、分光反射率は最初の状態に戻る。このような
２つの加熱冷却処理を繰返すことにより、分光反射率を
可逆的に変化させることが可能である。

以上、述べたように各種情報記録装置及び記録材料等が
知られているが、これらを応用した光記録テープ及び装
置については、現在のところ実用化に至っているものが
少ない。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、光エネルギーによって可逆的に相変態
を起し、その相変態に伴い分光反射率が変化する金属又
は合金を記録媒体とする光記録テープおよびその製造方
法を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は、光エネルギーの入射加熱によって情報を記録
する記録層を有する光記録テープにおいて、その記録層
として前述のとおりの相変態に伴い分光反射率が変化す
る分光反射率可変型金属又は合金を用いたことを特徴と
する光記録テープおよびその製造方法であって、更に好
ましくは、光エネルギーの入射による加熱によって情報
を記録する記録層を有する光記録テープにおいて、前記
記録層の光エネルギー入射側に該入射光エネルギーの干
渉層及び吸収層の少なくても一方が設けられていること
を特徴とする情報記録テープおよびその製造方法である
。

何らかの手段により、情報記録テープからの反射エネル
ギーを少なくできれば、記録層に入力する熱量が増加し
、記録層の温度が急速に上昇し、高速書込みが可能とな
るとともに、より少ない入射エネルギーで書込み又は消
去が可能となるため。

情報記録再生媒体の書込み感度又は消去感度が高くなる
０次に本゛発明において形成される各層について説明す
る。

（吸収層、干渉層） 第２図（ｂ）に示す如く、記録層１の入射エネルギー側
に入射エネルギーを吸収する物質からなる吸収層３を設
けると、入射エネルギーの多くの部分が、吸収層３にお
いて吸収されて熱エネルギーに変化し、吸収層３の温度
が急激に上昇する。

その結果、吸収層３から記録層１へ多くの熱エネルギー
が熱伝導により伝達され、記録層１の温度も、吸収層３
のない場合に比較して、急速にかつ高温度まで上昇する
。この吸収層３の厚さとしては情報記録テープの表面反
射率（反射エネルギー／入射エネルギーの比）が、５％
〜８０％となるような厚さが望ましい。反射率が５％未
満になると反射光の強度が小さくなるため、記録部分と
未記録部分の反射光強度を比較して記録信号を読取る記
録信号再生時の信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）が劣ｔしてし
まい不利である。また反射率が、８０％を越えると入射
エネルギーの多くが、吸収層３において熱エネルギーに
変わることなく反射されてしまうため、吸収層３の温度
が一１＝がらなくなる。

その結果、記＠ｌｌへの熱エネルギーの伝達がほとんど
なくなり、情報記録テープの書込感度又は消去感度の増
加は期待できない。吸収層として電磁波（例えば、レー
ザ光・光）を熱エネルギーに変換するものである。

情報記録テープの表面反射率を低減する手段として、入
射エネルギーの干渉効果を利用する方法がある。

酸化タンタル、アルミナ等の５０％以上のエネルギー透
過性の膜とするのが好ましい、その厚さは１０〜３００
ｎｍが好ましく、無色が好ましい。

たとえば、第２図（ａ）のように記録層１のエネルギー
入射側に適当な厚さの無色透明な干渉層２を設けると、
入射エネルギーの何割かは、この−１１渉層２の表面で
反射される。残りの入射エネルギーは、干渉層２の内部
まで入り込み、記録層１まで到達する。この到達した入
射エネルギーの何割かは記録層】の表面で反射されて、
干渉層２を逆に通過して干渉層２の表面に到達する。こ
の時、入射エネルギーが電磁波のようｂこ波動作を有し
て７いると前記の干渉層２の表面での反射エネルギーの
波と、記録層１の表面で反射してきたエネルギーの波が
干渉を起こす。前記２つのエネルギーの波の位相がエネ
ルギーの波の波長の半分だＵずれているとエネルギー波
の山と谷の部分が相殺し合って、エネルギー波の振幅が
、減少する。このことは、実質的に情報記録テープの表
面から反射して返ってくるエネルギーが減少することを
意味する。すなわち、干渉層２の厚さを適切な値にすれ
ば、エネルギー反射率を下げることができる。この場合
、干渉Ｍ２部分での光の吸収はきわめて少ないから、入
射エネルギーから反射エネルギーを差し引いた残りのエ
ネルギーは全て記録層１で吸収され、記録層１の温度は
干渉層２がない場合に比較して、より急速に高温度にま
で上昇する。

前記の最適な干渉層の厚さは、干渉の理論によって導か
れる次式によって定めることができる。

ｄ　＝　−（２ｍ　＋　１　）　　　　　　・・・（１
）ｎｌ （ｍ＝ｏ、１，２，３．・・・） ここで ｄ：干渉層の厚さ ｎ工：干渉層の屈折率 λ：エネルギー波の波長 又、干渉膜の屈折率の最適な値ｎ１は干渉の理論から同
様に導かれた次式で表わされる。

ｎｘ’＝ｆｉ　　　　　　　　　　・・・（２）ここで
、 ｎ２：記録Ｍ１の屈折率 前記した反射率を低減させる層は、入射エネルギー吸収
層又は干渉層として、単独の機能を有するものであった
が、１つの層に、干渉層としての機能と、吸収層として
の機能を同時に持たせることも可能である。

吸収層としては酸化チタン、酸化クロム、酸化銅、四三
酸化鉄等の薄膜を使用することができ。

半透過性が好ましい、特に、着色されたもので。

黒体となっているものが好ましく、光に対して。

１０〜３０％のエネルギー吸収性を有し、５０％前後の
透過性を有するものが好ましい。厚さは５０ｎｍ以下、
より好ましくは１５〜５０ｎｍである。

吸収層として着色を有するものを用いるときは情報の記
録側と反対側より再生することもよい。

このような干渉・吸収層２′を第２図（ｃ）の様に記録
層１のエネルギー入射側に形成すれば。

記録層１．のエネルギー吸収性に形成すれば、記録層１
への熱エネルギーの入力は増大し、情報記録テープの記
録感度を向上させることができる。

これまで、述べてきた反射防止膜は全て一層構造であっ
たが、第２図（ｄ）の様に吸収層３と干渉層２をそれぞ
れ別の層を用いる２層構造にすることも可能である。

これまで、記録層１の前面に反射防止層を形成し、実質
的に記録層１に入力する熱エネルギーを増加させること
により、記録層１の湿度を急速にかつ、高温度まで上昇
させ得ることを述べてきたが、さらに記録層の温度を増
加させ得る手段がある。それは、第３図（ａ）のように
記録層１を囲むように熱絶縁層５を形成する方法である
。一般に記録層は薄いためそれ自体では機械的強度が低
いから第３図（ｃ）のようにプラスチックのフィルムな
どの支持層７の上に形成することが多い。

このような構造の場合、記録層から支持層へ熱エネルギ
ーが流れて、支持層７が記録層１の冷却体として働く。

そのため、記録層１の温度が上がりにくくなる。この熱
エネルギーの流失を防止するためには、記録層と支持層
の間に熱絶縁層５を設けることが効果がある。又、熱エ
ネルギーは記録層から前記とは逆方向の支持層の反対側
にも流れるから、この流失も防止すれば、より効果があ
る。

記録層の上面に干渉層がある場合には、干渉層と記録層
を囲むように熱絶縁層を設ける。熱吸収層が記録層の上
面（エネルギー入射側）にある場合には、熱吸収層から
の熱エネルギーの流失を防止するために、第３図（ａ）
のように吸収層３のエネルギー入射側に熱絶縁層５を設
けたことが効果がある。熱絶縁層は熱をしゃへいするた
めのもので、５ｉＯｚガラス、アルミナ等の酸化物が好
ましい。

ところで、前記の記録層を支持する支持層は、エネルギ
ー入射側と反対側にあると考えたが、逆にエネルギー入
射側に支持層（基板）を設けることも可能である。この
ような構造の場合には、支持層は入射エネルギーを透過
する無色透明なフィルム、例えば、ポリイミドを用いる
。ところでこのような記録層とエネルギー入射面の間に
、透明層を設けることは別の効果がある。すなわち、情
報記録媒体は外気にさらされるため、空気中のちりが付
着したり、人間の指紋が付着することが多い、このよう
な状態で、記録したデータを再生すると雑音が多くなり
、Ｓ／Ｎ比が低下してしまう。

しかし、第１図（ｅ）のように０．５〜２．０ＩＩＩａ
＋８ｉ度の透明層４が記録層の上面にあると、ちりや、
指紋は（記録層１から離れた）透明層４の表面に付着す
る。情報記録再生媒体上の記録データを再生する装置は
、顕微鏡と同様な光学系を持ち記録層の微小領域をＩｌ
！察し、記録層１の場所による反射率の変化を観察して
、記録データを再生する。

この時、光学系の焦点を記録層１に結ぶと、透明Ｍ４の
表面のちりや、指紋は焦点深度の範囲外になるため、ボ
ケだ像となり、再生信号に悪影響を与えずＳ／Ｎ比の低
下もない。

上記のように支持層が、記録層のエネルギー入射側にあ
る場合には、記録層の下面（エネルギー入射面と反対側
）に熱絶縁層を設け、空気中への熱流失を防止する。又
、干渉層又は吸収層として熱絶縁性の高い物質を用いれ
ば、膜構成を簡易化できる。

フィルム状基体（テープ）としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボ
ネットのようなプラスチックベースが多く用いられる。

特殊な場合、金属テープであってもよい、なおこれらの
テープは無色透明であることが好ましい。

保護層６は記録層１の外部機器との接触によって生ずる
きすの形成を保護・記録層１上に付着するほこりから保
護するもので、シリコン樹脂のようなものをうずくスピ
ナーによってコーテングしておけば良いが、非常にうす
い膜であるならば、５ｉｆｔやＡ　ｎ　ｔ　Ｏｓなどの
酸化物であっても良い。

本発明の情報記録媒体は干渉層及び吸収層が設けられた
側にエネルギーを入射して記録再生又は消去することが
でき、更に再生を干渉層及び吸収層を設けた側とは反対
側から行うことができるにの反対側での再生に当っては
テープを前述の無色透明にものとすればよい、記録側と
反対側での再生に当って先に使用する場合は記録層に対
して無色透明なテープ保護膜等の膜で光透過性の高いも
のを選ぶべきである。

（記録層） 本発明の記録層は、固体状態で室温より高い第１の温度
（高温）及び第１の温度より低い温度（低温）状態で異
なった結晶構造を有し、前記高温からの急冷によって室
温で平衡相である結晶構造と異なる結晶構造を有する金
属又は合金が好ましい。

本発明に係る合金は高温の同相状態からの急冷により同
一温度で少なくとも２種の分光反射率を有し、可逆的に
分光反射率を変えることのできるものである。すなわち
、本発明に係る合金は同相状態で少なくとも２つの温度
領域で結晶構造の異なった相を有し、それらの内、高温
相を急冷した状態と非急冷の標準状態の低温和状態とで
分光反射率が異なり、高温和温度領域での加熱急冷と低
温和温度領域での加熱冷却により分光反射率が可逆的に
変化するものである。

本発明の記録層の合金例は次の通のである。銀を主成分
とし、亜鉛３０〜４６ｗｔ％、アルミニウム６〜１０ｗ
ｔ％の１種を含む合金、銅を主成分とし、アルミニウム
１０〜２０ｗｔ％、インジウム２０〜４０ｗｔ％、錫１
６〜３５ｗｔ％の１種を含む合金、金を主成分とし、ア
ルミニウム２．５〜５　ｗ　ｔ、％を含む合金、又はこ
れらの合金ニ少量の■、ｉｂ、ｎｂ、ｍｂ、ｒｖｂ、ｖ
ｂ。

ＶＩ　ａ　、■ａ族元索の１種以上を含むことができる
。

その含有量は好ましくは１０ｗｔ％以下である。

記録密度として、２０メガビツト／ｃＩｎ２以」二とな
るような微小面積での情報の製作には０．０１〜０．２
μｍの膜厚とするのがよい。記録層として気相あるいは
液相から直接急冷固化させて所定の形状にすることが有
効である。これらの方法にはＰＶＤ法（蒸着、イオンブ
レーティング法等）、ＣＶＤ法溶湯を高速回転する高熱
伝導性を有する部材からなる。特に金属ロール円周面上
に注湯して急冷凝固させる溶湯急冷法によるテープ、電
気メッキ、化学メッキ法等がある。粉末状の材料を利用
する場合、テープ上に塗布してテープ上に接着すること
が効果的である。塗布する場合、粉末を加熱しても反応
などを起こさないバインダーがよい、また、加熱による
材料の酸化等を防止するため、材料表面、テープ上に形
成した膜あるいは塗布層表面をコーティングすることも
有効である。

粉末は、溶湯を気体又は液体の冷媒とともに噴霧させて
水中に投入させて急冷するガスアトマイズ法によって形
成させることが好ましい。その粒径は０．１ｍ＋＋＋以
下が好ましく、特に粒径１μｍ以下の超微粉が好ましい
。

膜は前述の如く蒸着、イオンブレーティング。

ＣＶＤｔｆｔ気メッキ、気宇ツキキ等によって形成でき
る。特に、０．１μｍ以下の膜厚を形成するには蒸着や
イオンブレーティング法が好ましい、場合によってはス
パッタリング法も採用できるがその場合、テープの耐熱
性を考慮しなければならない。

本発明を光記録テープの記録媒体に使用した場合の記録
及び再生の原理の例は次の通りである。

先ず、記録媒体を局部的に加熱し該加熱後の急冷によっ
て高温度領域での結晶構造を低温度領域で保持させて所
定の情報を記録し、又は高温相をベースとして、局部的
に加熱して高温和中に局部的に低湿相によって記録し、
記録部分に光を照射して加熱部分を非加熱部分の光学的
特性の差を検出して情報を再生することができる。更に
情報として記録された部分を記録時の加熱温度により低
い温度又は高い温度で加熱し記録された情報を消去する
ことができる。光はレーザ光線が好ましく、特に短波長
レーザが好ましい０本発明の加熱部分と非加熱部分との
反射率が５００ｎｍ又は８００ｎｍ付近の波長において
最も大きいので、このような波長を有するレーザを再生
に用いるのが好ましい、記録、再生及び消去とも同じレ
ーザ源を用することができる。しかし、消去には記録の
ものよりエネルギー密度を小さくしたレーザ光を照射す
る必要があるため、更に別のレーザ源を用いるのが好ま
しい。

〔発明の実施例〕 （実施例１） Ａｇ−４０重量％Ｚｎ合金をＮ２ガス雰囲気でカーボン
ボート中で溶解し、約５０ｍｍφＸ５０ｔの蒸着用の母
合金を作製した。この母合金を蒸着源として蒸着して第
５図の（ａ）のような膜構成の光記録テープを作製した
。１０ｍｍ幅で１５μｍ厚さのポリイミドテープ上にＡ
ｇ−４０重量％Ｚｎ膜８を約３０ｎｍ真空蒸着した。容
器内は１０−’Ｔｏｒｒ程度まで真空排気後、抵抗加熱
法による蒸着を行った。更にこの合金膜の上に、レーザ
光の干渉層９として厚さ約５００ｎｍをＴａｚＯａをＥ
Ｂ蒸着した。このＴａｚＯδ蒸着には約５％の０２を導
入した。これらの蒸着装置の概略断面を第１６図に示す
、。

以上のようにして作製した光記録テープの表面は銀は銀
白金を呈した。このテープ表面に対し。

簡易的な色調記録の実験として、Ａｒイオンレーザのパ
ワーを１０〜１００ｍＷ、ビーム径を１〜５μｍの条件
で照射したところ、上記合金膜は銀白色からピンク色に
変化することが分かった。これはＡｇ−４０重量％Ｚｎ
のβ相がレーザによって急速加熱、急速冷却されてβ′
相に相変化しているためである。更にこの急冷された光
記録テープ上をデフォーカスしたＡｒレーザビームで約
２００℃に加熱したところ、ピンク色からもとの銀白色
に変化し、これはβ′から相に変化しているためである
。ちなみにレーザ光による記録、消去特性もこのことと
対応する。

第１１図の（ａ）、（ｂ）は、上記のような熱処理方法
により作製した記録媒体の分光反射特性を示す。第１１
図の（ｂ）が第５図の（ｂ）の干渉膜９　（Ｔａｘｅｓ
、２５０ｎｍ厚さ）を付加した膜構成における分光反射
特性であり、著しい干渉が生じていることが分かる。第
１１図の（ａ）はテープ１０の上にＡｇ−４０重量％Ｚ
ｎ合金膜８のみをスパッタ蒸着したもので記録部、未記
録部とも反射率が高い、これに対し、（ｂ）図は干渉の
谷を利用しているが、Ａｒレーザ（λ＾、＝４８８ｎｍ
）及び半導体レーザ（λｃ　＝＝８３０ｎｍ）の各波長
のところで著しく反射率が下がっていることが分かる。

すなわち、（ａ）図の干渉層なしの場合に比べて、レー
ザ光の投入エネルギーが記録用合金膜中に効率良く吸収
され、少ないパワーで記録、消去が達成されることを意
味する。なお、ここでは、干渉層９を高屈折率のＴａｚ
Ｏａとし。

２５０ｎｍとしている。同様に、このような光の干渉を
用いた他の例を第５図の（ｂ）へ（ｄ）に示す。干渉Ｍ
９としては屈折率が大で、透過性のあるものが望まし゛
い。（ｂ）はＡＱｚＯａを干渉層とした場合であり、膜
厚を干渉条件に合わせれば同様に反射率が下がる。（ｃ
）及び（ｄ）は記録合金膜をＣｕ−１４重量％ＡＱ−４
重量％Ｎｉ１２に置き換えた場合であり、第１２図の（
ａ）は干ｔｌＪＮ　９　ｆｔ　Ｌ、、（ｂ）は干渉膜（
Ｔ　ａ　ｚｏ＋ｓ、　５００ｎｍ厚さ）を付加した膜構
成における分光反射特性を示す。この場合も第１０図の
Ａｇ−４０重量％Ｚｎ合金膜８と同様にＡｒレーザ及び
半導体レーザの各波長のととろで反射率が著しく下がっ
ていることが分かる。半導体レーザにより１μｍ以下の
幅でデジタル、アナログの記録、再生ができることを確
認された。

（実施例２） 実施例１と同様に、第６図の（ａ）はテープ１０の上に
蒸着によりＡ　ｇ　−４０重量％Ｚｎ合金膜８（ｆｆｌ
厚３０ｎｍ）を設け、更にその上ニｃｒ・Ｏｘ（クロム
酸化物）１３を真空蒸着法により５〜１０ｎｍ設けた。

このＣｒ・Ｏｘは前記したように、反射率の高い金属情
報記録層上に熱吸収層として付加したものである。上述
した結晶−結晶の相変化合金膜においては、それ自身が
高い反射率を有するため、レーザ光の入射効率が悪い。

これをカバーするために記録層上にＣｒ・０ｘ１３を設
けているのである。第１３図は、熱吸収層がある場合と
、ない場合との分光反射特性を比較したものである。こ
の図から分かるように約３００〜１１０００ｎの波長域
において、熱吸収層付きの膜構成のものが反射率が下が
ることが分かる。更に、第６図の（ｂ）は記録層をＣｕ
−１４重量％。

Ａα−４重量％Ｎｉとし、同様にＣｒ−０ｘを付加した
ものである。この場合もやはり反射率を下げる効果があ
ることが分かった。又、（Ｑ）、（ｄ）は、熱吸収Ｍ１
３を他にＣｕ　ｚ○１４やＦ　ｅ　ａｏａ１５に置き換
えた場合であるが、同じように反射率を下げる効果がみ
られる。

（実施例３） 実施例１と同様に第７図は、テープ１ｏの上に蒸着によ
りＡｇ−４０重量％Ｚｎ合金膜８を約３０ｎｍ設け、更
にその上にＣｒ・Ｏｘを１０〜２０ｎｍ真空蒸着法によ
り設けた。このＣｒ・○Ｘは第１３図に示した熱吸収層
という性質を持たせる他に、更に厚さを増させて、同時
に干渉による反射率の低下も狙ったものである。このＣ
ｒ・Ｏｘは透過性を有するとともに屈折率が大きいため
、わずかの膜厚で大きな干渉効果が得られた。

第１４図は熱吸収及び干渉の両効果を狙った上記膜構成
の場合と、記録層８のみの場合との分光反射特性を示す
、この図から分かるように、５００〜１１０００ｎの波
長領域において干渉効果により反射率が著しく下がると
同時に、吸収効果もみられ。

全体の反射率が下がっていることが分かる。この点では
、ＴａｚＯｌｌと同様にＣｒ−０ｘも反射率を下げ、レ
ーザ光の入熱効率を増大させるのに適したものであり、
第７図のような膜構成は非常に実用的なものであると言
える。

（実施例４） 実施例１と同様に、第８図はテープ２０の上に蒸着によ
りＡに一４０重量％Ｚｎ合金膜８を約３０ｎｍ設け、更
にその上にＣｒ−０ｘを約５ｎｍ真空蒸着法により設け
、更に又、高速スパッタ蒸着を用いて、その上に５０μ
ｍの５ｉＯｚｌＯを設けた。この場合、Ｃｒ＝Ｏｘは実
施例２の熱吸収層に相当するものであるが、部厚く膜付
けした５ｉＯｚは透明保護層であり、記録媒体の保護の
効果以外に、ある程度の大きさを有するレーザ光が記録
膜上で急速にしぼられるため、再生時において、ある寸
法以下のゴミ、ホコリなどによるＳＮ低下を防ぐ効果を
有する。この透明保護層の別の構成としては、（ｂ）図
に示すように、記録膜８及び干渉層９の上に、更にテー
プ１０を接着する方法もある。すなわち、テープ板１０
（厚さ１．２ａｕｓ）自体が上記透明保護層としてＳＮ
比低下を防ぐ効果を発揮することができる。

（実施例５） 実施例１と同様に、第９図の（ａ）はテープ１０の上に
蒸着によりＡｇ−４０重量％Ｚｎ合金膜８を約３０ｎｍ
設け、その上に熱吸収層のＣｒ・０ｘ１３を約５ｎｍ真
空蒸着し、更にその上に干渉層のＴａｚＯｓ９を蒸着に
て約２５０ｎｍ設けたものである。この膜構成によれば
、干渉効果をＴａｚＯ＋ｓに分担させ、次に熱吸収効果
をＣｒ・Ｏｘに分担させることによって、記録層レーザ
光の投入エネルギーを効果良く伝えることが可能である
。（ｂ）図は、同様に、熱吸収層をＣｕｚＯ１４とし、
更に干渉層をＡＱｘＯｓｌｌとしたもので、やはり、互
いに熱吸収と干渉効果を分担し、レーザ光による入熱効
果を上げるのに役立つｉａ成である。

（実施例６） 実施例１と同様に、第１０図はテープ１７基板上に蒸着
により５ｉＯｚｌＯを約３０ｎｍ設け、その上にＡ　ｇ
　−４０重量％Ｚｎ８を約３０ｎｍ設け、更にその上に
熱吸収層のＣｒ・０ｘ１３を約５ｎｍ設け、この上にも
う一度５ｉＯｚｌＯを約３０ｎｍ設ける。すなわち、記
録層と熱吸収層を熱絶縁効果の高い５ｉＯｚｌＯによっ
てサンドイッチした膜構成である。この５ｉＯｚｌＯは
熱吸収層及び記録層内で発熱したエネルギーを分散さら
ないで、相変化に寄与する入熱分布をせまく、効率良く
しようとするものである。

（実施例７） 実施例と同様に、第１５図はポリイミドテープ７に蒸着
により、テープ両面に対し、記録層１、熱吸収層３及び
保、裏層６などを設けたものである。

すなわち、光記録テープにおいては、従来の磁気テープ
と異なり、テープの両面に情報を記録できるという利点
がある。なぜならば、光記録においては記録膜の反射特
性を利用していることから。

磁気記録のように厚さ方向の影響が少なくてすむからで
ある９本実施例では、テープ厚さが５０μｍで、その両
面にＡｆｃ−４０重曖％Ｚｎｌを約３０ｎｍ、熱吸収膜
Ｃｒｚ０８３を約１５ｎｍ、保護膜として透明レジスト
膜Ｃｒ：ｔＯｓ３を約１５ｎｍ。

保護膜として透明レジスト膜２０を設けた。なお、本実
施例では、テープ厚さが５０μｍで、その両面にＡ　ｇ
　−４０重量％Ｚｎｌを約３０ｎｍ、熱吸収膜Ｃｒｚ○
８３を約１５ｎｍ、保護膜として透明レジスト膜２０を
設けた。なお、本実施例では、蒸着膜とテープとの密着
性を良くするために第１７図のようなイオンブレーティ
ング法により各種膜付けを行った。

なお、基板として、２００〜５００℃の耐熱性を有する
可撓性プラスチックフィルムを選択すれば、レーザ光の
熱吸収性を高める各種の酸化物の蒸着膜をフィルムを加
熱しながら安定した膜付けが可能になり、この２００〜
５００℃加熱処理を施したフィルムは＃１１！でもレー
ザ光の吸収性が良く、記録用合金膜を色調変化を生じや
すくなり。

高性能の光記録テープを得ることができる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、特に結晶−結晶間の相変化による分光
反射率差を利用した光記録テープとしてエネルギーの利
用効率の高い膜構成が得られる効果があり、長時間の記
録テープとして利用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の情報記録用の光記録テープの部分断面
斜視図、第２図及び第３図は本発明の情報記録テープの
断面構成図、第４図は本発明の記録層に係る二元合金系
の平衡状態図、第５図〜第１０図は本発明の実施例に示
した情報記録テープテープ作製用の真空蒸着装置、第１
７図はイオンブレーティング装置の断面概略を示す。 １・・・記録層、２・・・干渉層、２′・・・干渉及び
吸収層、３・・・熱吸収層、４・・・透明層、５・・・
熱絶縁層、６・・・保護層、７・・・テープ、８・・・
Ａｇ　　４０Ｚｎ、９・・・ＴａｚＯａ、１Ｏ−８ｉＯ
ｚ　、１ｌ−ＡＱｚＯａ。 １２−Ｃｕ−１５％／１ｍ−４０％Ｎｉ合金。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、固体状態で、室温以上の第１の温度域と、該第１の
   温度域より低い第２の温度域とにおいて互に異なる結晶
   構造を呈し、かつ前記第１の温度から急冷された部分の
   みが、前記第２の温度における結晶構造と異なる結晶構
   造となり、他の部分が前記第２の温度における結晶構造
   として残存し、両部分が互に異なる分光反射率を呈する
   分光反射率可変型金属又は合金を光記録媒体とし、該光
   記録媒体が記録層としてテープ状に成形されていること
   を特徴とする光記録テープ。 ２、前記記録媒体における相変態が可逆的に行われるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光記録テー
   プ。 ３、前記第２の温度域における結晶構造が室温における
   平衡相であることを特徴とする特許請求の範囲第１項ま
   たは第２項のいずれか記載の光記録テープ。 ４、前記記録媒体における結晶構造の変化が、体積変化
   又は表面の凹凸変化を伴う相変態であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか記載の
   光記録テープ。 ５、前記記録媒体は、元素周期律表の I ・ｂ族からVI
   ・ｂ族およびVIII族から選ばれた少なくとも１種の遷移
   金属又はその合金であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項又は第２項記載の光記録テープ。 ６、前記記録層のエネルギー入射側に、該入射エネルギ
   ー干渉層および吸収層のいずれかが設けられていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第５項のいず
   れか記載の光記録テープ。 ７、前記干渉層が、酸化タンタル、酸化クロム、酸化チ
   タン、酸化ケイ素および酸化アルミニウムから選択され
   た物質よりなることを特徴とする特許請求の範囲第６項
   記載の光記録テープ。 ８、前記記録層のエネルギー入射側およびその反対側の
   少なくとも一方に熱絶縁層が設けられていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれか記
   載の光記録テープ。 ９、前記記録層の表面に光透過性で外気をしや断する保
   護層が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項ないし第２項のいずれか記載の記録テープ。 １０、固体状態で、室温以上の第１の温度域と、該第１
   の温度より低い第２の温度域とにおいて、互に異なる結
   晶構造を呈し、かつ前記第１の温度から急冷された部分
   のみで前記第２の温度域における結晶域と異なる結晶構
   造になり、他の部分が前記第２の温度域における結晶構
   造として残存し、両部分が互に異なる分光反射率を呈す
   る分光反射率可変型金属又は合金を記録構造とする光記
   録テープの製造方法において、前記分光反射率可変型金
   属又は合金を溶製し、該金属又は合金の溶湯を回転する
   高熱伝導性ロール表面又は一対のロール間に滴下して急
   冷凝固させることによつて、溶湯から直接金属テープを
   得ることを特徴とする光記録テープの製造方法。 １１、固体状態で、室温以上の第１の温度域と、該第１
   の温度より低い第２の温度域とにおいて、互に異なる結
   晶構造を呈し、かつ前記第１の温度から急冷された部分
   のみで前記第２の温度域における結晶域と異なる結晶構
   造となり、他の部分が前記第２の温度域における結晶構
   造として残存し、両部分が互に異なる合光反射率を呈す
   る分光反射率可変型金属又は合金を記録媒体とする光記
   録テープの製造方法において、可撓性テープ基板上に、
   前記分光反射率可変型金属又は合金をコーティングする
   ことを特徴とする光記録テープの製造方法。