JPS627865B2 - - Google Patents
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- JPS627865B2 JPS627865B2 JP57005341A JP534182A JPS627865B2 JP S627865 B2 JPS627865 B2 JP S627865B2 JP 57005341 A JP57005341 A JP 57005341A JP 534182 A JP534182 A JP 534182A JP S627865 B2 JPS627865 B2 JP S627865B2
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Landscapes
- Electrotherapy Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオン導入電子美顔器に関する。
従来、ビタミンＣ等の摂取が美顔を含めた美容
一般に有効であると喧伝されてきた。
一般に有効であると喧伝されてきた。
しかし、ビタミンＣまたはこれを含有するクリ
ーム等を皮膚に直接塗布したのでは、皮膚の吸収
率が低いことから、また経口投与したのでは、そ
の大部分が排泄させてしまうことから期待通りの
美顔効果を得ることは不可能とされている。
ーム等を皮膚に直接塗布したのでは、皮膚の吸収
率が低いことから、また経口投与したのでは、そ
の大部分が排泄させてしまうことから期待通りの
美顔効果を得ることは不可能とされている。
一方、直流、または負電流成分よりなる交番電
圧を皮膚に印加しながらイオン物質の導入を計
る、いわゆる、各種イオントホレーゼ法が発表さ
れているが前者では直流印加により皮膚に火傷
が、後者では疼痛の発生が不可避的であり、快適
かつ簡便な美顔術というにはほど遠い状況であつ
た。
圧を皮膚に印加しながらイオン物質の導入を計
る、いわゆる、各種イオントホレーゼ法が発表さ
れているが前者では直流印加により皮膚に火傷
が、後者では疼痛の発生が不可避的であり、快適
かつ簡便な美顔術というにはほど遠い状況であつ
た。
特開昭55−54961号公報には、正の直流電流と
負の直流電流の比較的短かいパルスとを重畳し、
溶液中で正に荷電する薬効成分を用いるイオン滲
透療法装置が開示されているけれども、このよう
な装置は、亜鉛イオンや銅イオンなどの正イオン
導入はできるけれども、例えば、ビタミンＣのよ
うに溶液中で負に荷電する薬効成分をイオン導入
することはできなかつた。
負の直流電流の比較的短かいパルスとを重畳し、
溶液中で正に荷電する薬効成分を用いるイオン滲
透療法装置が開示されているけれども、このよう
な装置は、亜鉛イオンや銅イオンなどの正イオン
導入はできるけれども、例えば、ビタミンＣのよ
うに溶液中で負に荷電する薬効成分をイオン導入
することはできなかつた。
本発明者は、これら従来法の課題を解決すべ
く、鋭意研究したところ、低周波交番電圧に直流
を重畳せしめて印加すれば、上記の課題がことご
とく解決するばかりか、その負の直流成分により
必要十分量のビタミンを破壊することなく、自由
自在に導入でき、しかも、同時に印加する交番電
圧が一定の快い刺激を皮膚に与え、イオントホレ
ーゼと電子式美顔の顕著な相剰効果が得られるこ
とを見い出して本発明を完成した。
く、鋭意研究したところ、低周波交番電圧に直流
を重畳せしめて印加すれば、上記の課題がことご
とく解決するばかりか、その負の直流成分により
必要十分量のビタミンを破壊することなく、自由
自在に導入でき、しかも、同時に印加する交番電
圧が一定の快い刺激を皮膚に与え、イオントホレ
ーゼと電子式美顔の顕著な相剰効果が得られるこ
とを見い出して本発明を完成した。
すなわち、本願発明は、溶液中で負に荷電する
薬効成分を含浸せしめた治療用導子と接地用導子
とを絶縁して設けた本体内に、矩形波電圧を発振
する低周波発振回路と電源電池を収容し、その低
周波発振回路の出力端にコンデンサーと分割用抵
抗とを直列に接続すると共に、その分割用抵抗の
分割点には、溶液中で負に荷電する成分を含浸せ
しめた治療用導子を、また電源電池の正極には接
地用導子に接続して治療用導子が接地用導子より
電位において低くなるようにし、治療用導子との
間に負荷が接続された時、前記コンデンサーより
の正負に交番する矩形波電圧と電源電池からの直
流電圧とが前記分割用抵抗の分割点により決定さ
れる任意の比にて重畳された負の交番電圧により
治療用導子に含浸せしめた薬効成分をイオン導入
することを特徴とするイオン導入電子美顔器の構
造を要旨とするものである。
薬効成分を含浸せしめた治療用導子と接地用導子
とを絶縁して設けた本体内に、矩形波電圧を発振
する低周波発振回路と電源電池を収容し、その低
周波発振回路の出力端にコンデンサーと分割用抵
抗とを直列に接続すると共に、その分割用抵抗の
分割点には、溶液中で負に荷電する成分を含浸せ
しめた治療用導子を、また電源電池の正極には接
地用導子に接続して治療用導子が接地用導子より
電位において低くなるようにし、治療用導子との
間に負荷が接続された時、前記コンデンサーより
の正負に交番する矩形波電圧と電源電池からの直
流電圧とが前記分割用抵抗の分割点により決定さ
れる任意の比にて重畳された負の交番電圧により
治療用導子に含浸せしめた薬効成分をイオン導入
することを特徴とするイオン導入電子美顔器の構
造を要旨とするものである。
次に、本発明を図示実施例に従つて詳細に説明
する。
する。
第１図には、本発明のイオン導入電子美顔器の
概略図を示す。その低周波発振回路１の出力は、
出力コンデンサーＣを経て抵抗R1及びR2からな
る分割抵抗回路に導かれ、その分割点には治療用
導子２が接続される。一方、治療用導子２と絶縁
された本体３若しくはその接地部４は、治療用導
子２と対をなし、発振回路用電源５の正極に接続
される。なお、本体３に低周波発振回路１などが
内装される。このような状態において、治療用導
子２と本体３若しくはその接地部４とを通じて皮
膚に印加される電圧波形は、第３図イに示すよう
に波形全体が負の領域にあり、しかも低周波発振
回路１の発振周波数により交番している。このよ
うな波形の交番電圧を皮膚に印加しながらイオン
トホレーゼを行えば、直流による火傷の心配も、
パルス性の交番電圧の負電流成分だけを印加する
際に生ずる疼痛の不安も皆無となる。この時、治
療用導子２と本体３若しくはその接地部４との間
に印加する電圧は、分割抵抗R1，R2の比により
適宜に調整すれば良い。
概略図を示す。その低周波発振回路１の出力は、
出力コンデンサーＣを経て抵抗R1及びR2からな
る分割抵抗回路に導かれ、その分割点には治療用
導子２が接続される。一方、治療用導子２と絶縁
された本体３若しくはその接地部４は、治療用導
子２と対をなし、発振回路用電源５の正極に接続
される。なお、本体３に低周波発振回路１などが
内装される。このような状態において、治療用導
子２と本体３若しくはその接地部４とを通じて皮
膚に印加される電圧波形は、第３図イに示すよう
に波形全体が負の領域にあり、しかも低周波発振
回路１の発振周波数により交番している。このよ
うな波形の交番電圧を皮膚に印加しながらイオン
トホレーゼを行えば、直流による火傷の心配も、
パルス性の交番電圧の負電流成分だけを印加する
際に生ずる疼痛の不安も皆無となる。この時、治
療用導子２と本体３若しくはその接地部４との間
に印加する電圧は、分割抵抗R1，R2の比により
適宜に調整すれば良い。
第２図には、本発明による携帯用イオン導入電
子美顔器の一例を示している。その低周波発振回
路１の出力電圧は、出力コンデンサーＣを経て分
割抵抗R3及びR4に導かれる。これら分割抵抗
R3，R4により分割された電圧は、治療用導子２
に印加される。一方、発振回路用電源５の正極は
低周波発振回路１と本体３の一部に設けられた接
地部４に接続される。そして、スイツチS1，S2，
S3は連動しており、その接点ａから接点ｂ，ｃ，
ｄに接続すると装置は作動状態となる。
子美顔器の一例を示している。その低周波発振回
路１の出力電圧は、出力コンデンサーＣを経て分
割抵抗R3及びR4に導かれる。これら分割抵抗
R3，R4により分割された電圧は、治療用導子２
に印加される。一方、発振回路用電源５の正極は
低周波発振回路１と本体３の一部に設けられた接
地部４に接続される。そして、スイツチS1，S2，
S3は連動しており、その接点ａから接点ｂ，ｃ，
ｄに接続すると装置は作動状態となる。
この低周波発振回路１の発振出力波形は、第３
図ハのように波形全体が負の領域にある矩形波で
あるが、スイツチＳを接点ｂに接続すると出力コ
ンデンサーＣを経た時点で、その出力波形は、第
３図ロのように正負に交番する矩形波となる。こ
の交番する矩形波に発振回路用電源５の直流が重
畳され、治療用導子２と本体３の接地部４との間
に印加されるが、人体の静電容量により最終的に
は第３図イに示すような波形電圧が皮膚から流入
することになる。
図ハのように波形全体が負の領域にある矩形波で
あるが、スイツチＳを接点ｂに接続すると出力コ
ンデンサーＣを経た時点で、その出力波形は、第
３図ロのように正負に交番する矩形波となる。こ
の交番する矩形波に発振回路用電源５の直流が重
畳され、治療用導子２と本体３の接地部４との間
に印加されるが、人体の静電容量により最終的に
は第３図イに示すような波形電圧が皮膚から流入
することになる。
また、この電子美顔器のスイツチＳを接点ｄに
接続すれば、負の電流成分だけからなる交番電圧
（第３図ハ）が、また接点ｃに接続すると正負に
交番する電圧（第３図ロ）が、治療用導子２と本
体３の接地部４との間に印加される。
接続すれば、負の電流成分だけからなる交番電圧
（第３図ハ）が、また接点ｃに接続すると正負に
交番する電圧（第３図ロ）が、治療用導子２と本
体３の接地部４との間に印加される。
このように電子美顔器が構成されており、ビタ
ミンＣ水溶液を治療用導子２に保持させ、スイツ
チＳを接点ｂ，ｃ，ｄに切り換えて一定期間イオ
ントホレーゼを行つたところ、本発明に該当する
スイツチＳに接点ｂに接続したときに、最大かつ
最も快適な美顔効果が認められた。なお、治療用
導子２は、ビタミンＣ水溶液を保持させるため
に、保水性のスポンジで構成するのが好ましい。
ミンＣ水溶液を治療用導子２に保持させ、スイツ
チＳを接点ｂ，ｃ，ｄに切り換えて一定期間イオ
ントホレーゼを行つたところ、本発明に該当する
スイツチＳに接点ｂに接続したときに、最大かつ
最も快適な美顔効果が認められた。なお、治療用
導子２は、ビタミンＣ水溶液を保持させるため
に、保水性のスポンジで構成するのが好ましい。
また、スイツチＳを接点ｂ，ｃ，ｄに切り換
え、接点ｂに接続するときは治療用導子２にビタ
ミンＣ水溶液を、接点ｃまたはｄに接続する時に
はその度ごとに水とビタミンＣ水溶液とを取り替
えて、後者によるイオントホレーゼ及び電子治療
を前者の場合における２倍期間継続したところ、
本発明に該当するスイツチＳを接点ｂに接続した
場合が何れよりも高い美顔効果が得られた。
え、接点ｂに接続するときは治療用導子２にビタ
ミンＣ水溶液を、接点ｃまたはｄに接続する時に
はその度ごとに水とビタミンＣ水溶液とを取り替
えて、後者によるイオントホレーゼ及び電子治療
を前者の場合における２倍期間継続したところ、
本発明に該当するスイツチＳを接点ｂに接続した
場合が何れよりも高い美顔効果が得られた。
これらの実験から、本発明によるイオン導入電
子治療の場合は、公知のイオントホレーゼ法、電
子美顔術の何れか、またはそれらを併用した場合
よりも明らかに大きな成果があり、いわゆる相剰
効果を生むものと考えられる。
子治療の場合は、公知のイオントホレーゼ法、電
子美顔術の何れか、またはそれらを併用した場合
よりも明らかに大きな成果があり、いわゆる相剰
効果を生むものと考えられる。
ビタミンＣ以外に、美容に有効とされている各
種の薬物を、１種または２種以上にみ合せて適宜
イオン導入し、患部の症状に合わせてきめの細か
い美顔術を行うことができる。特に、これまで各
種化粧品に配合されてきたある種のアミノビニル
系感光色素、例えば、２・2′〔3′−〔２−（３−ヘ
プチル−４−メチル−２−チアゾリン−２−イリ
デン）エチリデン〕プロペニレン〕ビス〔３−ヘ
プチル−４−メチル〕チアゾリニウム アイオダ
イド（商品名「プラトニン」または「感光素101
号」、日本感光色素株式会社製造）は、本発明の
装置により効率よくイオン導入され、シミ、ソバ
カスなどの治療に著効を示す。
種の薬物を、１種または２種以上にみ合せて適宜
イオン導入し、患部の症状に合わせてきめの細か
い美顔術を行うことができる。特に、これまで各
種化粧品に配合されてきたある種のアミノビニル
系感光色素、例えば、２・2′〔3′−〔２−（３−ヘ
プチル−４−メチル−２−チアゾリン−２−イリ
デン）エチリデン〕プロペニレン〕ビス〔３−ヘ
プチル−４−メチル〕チアゾリニウム アイオダ
イド（商品名「プラトニン」または「感光素101
号」、日本感光色素株式会社製造）は、本発明の
装置により効率よくイオン導入され、シミ、ソバ
カスなどの治療に著効を示す。
本発明のイオン導入電子美顔器は、簡単な構造
にも拘わらす、期待通りのイオン導入電子美顔術
を安全にしかも廉価に提供することのできる実益
を有する。
にも拘わらす、期待通りのイオン導入電子美顔術
を安全にしかも廉価に提供することのできる実益
を有する。
図は、本発明の実施例を示し、第１図はイオン
導入電子美顔器のブロツクダイヤグラム、第２図
は携帯用イオン導入電子美顔器のブロツクダイヤ
グラム、第３図は出力波形図である。 図中の符号を説明すれば、次の通りである。１
は低周波発振回路、２は治療用導子、３は本体、
４は接地部、５は発振回路用電源、Ｃは出力コン
デンサー、R1，R2，R3，R4は分割抵抗、Ｓはス
イツチ。
導入電子美顔器のブロツクダイヤグラム、第２図
は携帯用イオン導入電子美顔器のブロツクダイヤ
グラム、第３図は出力波形図である。 図中の符号を説明すれば、次の通りである。１
は低周波発振回路、２は治療用導子、３は本体、
４は接地部、５は発振回路用電源、Ｃは出力コン
デンサー、R1，R2，R3，R4は分割抵抗、Ｓはス
イツチ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 溶液中で負に荷電する薬効成分を含浸せしめ
た治療用導子と接地用導子とを絶縁して設けた本
体内に、矩形波電圧を発振する低周波発振回路と
電源電池を収容し、その低周波発振回路の出力端
にコンデンサーと分割用抵抗とを直列に接続する
と共に、その分割用抵抗の分割点には、溶液中で
負に荷電する成分を含浸せしめた治療用導子を、
また電源電池の正極には接地用導子に接続して治
療用導子が接地用導子より電位において低くなる
ようにし、治療用導子との間に負荷が接続された
時、前記コンデンサーよりの正負に交番する矩形
波電圧と電源電池からの直流電圧とが前記分割用
抵抗の分割点により決定される任意の比にて重畳
された負の交番電圧により治療用導子に含浸せし
めた薬効成分をイオン導入することを特徴とする
イオン導入電子美顔器。 ２ 薬効成分が２・2′〔3′−〔２−（３−ヘプチル
−４−メチル−２−チアゾリン−２−イリデン）
エチリデン〕プロペニレン〕ビス〔３−ヘプチル
−４−メチル〕チアゾリニウム アイオダイド若
しくはビタミンＣであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のイオン導入電子美顔器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP534182A JPS58124457A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | イオン導入電子美顔器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP534182A JPS58124457A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | イオン導入電子美顔器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58124457A JPS58124457A (ja) | 1983-07-25 |
| JPS627865B2 true JPS627865B2 (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=11608514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP534182A Granted JPS58124457A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | イオン導入電子美顔器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58124457A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH039745Y2 (ja) * | 1985-05-21 | 1991-03-11 | ||
| JPS6222662A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-30 | 林原 健 | イオン導入電子治療器 |
| US5042975A (en) * | 1986-07-25 | 1991-08-27 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Iontotherapeutic device and process and iontotherapeutic unit dose |
| JPH02243168A (ja) * | 1990-02-23 | 1990-09-27 | Advance Co Ltd | イオントフォレーゼ用デバイス |
| JP4444839B2 (ja) * | 2002-11-27 | 2010-03-31 | ヤーマン株式会社 | 電子トリートメント装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5554961A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-22 | Tapper Robert | Method that apply ion osmosis treatment method and its device |
-
1982
- 1982-01-19 JP JP534182A patent/JPS58124457A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5554961A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-22 | Tapper Robert | Method that apply ion osmosis treatment method and its device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58124457A (ja) | 1983-07-25 |
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