JPS58124457A - イオン導入電子美顔器 - Google Patents
イオン導入電子美顔器Info
- Publication number
- JPS58124457A JPS58124457A JP534182A JP534182A JPS58124457A JP S58124457 A JPS58124457 A JP S58124457A JP 534182 A JP534182 A JP 534182A JP 534182 A JP534182 A JP 534182A JP S58124457 A JPS58124457 A JP S58124457A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oscillation circuit
- main body
- therapeutic
- beauty device
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Electrotherapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオン導入電子美顔器に関する。
従来、ビタミンC等の摂取が美顔を含めた美容一般に有
効であると喧伝されてきた。。
効であると喧伝されてきた。。
しかし、ビタミンCまたはこれ全含有するクリーム等を
皮膚に直接塗布したのでは、皮膚の吸収率が低いことか
ら、また経口投与したのでは、その大部分が排泄されて
しまうことから期待通りの美顔効果を得ることはイ・用
能とされている一方、直流、または負電流成分よりなる
交に重圧を皮膚に印加しながらイオン物質の導入をdす
る。
皮膚に直接塗布したのでは、皮膚の吸収率が低いことか
ら、また経口投与したのでは、その大部分が排泄されて
しまうことから期待通りの美顔効果を得ることはイ・用
能とされている一方、直流、または負電流成分よりなる
交に重圧を皮膚に印加しながらイオン物質の導入をdす
る。
いわゆる、各種イオントホレーゼ法が発表されているが
前者では直流印加VCより皮膚に火傷が、後者では疼痛
の発生が不可避的であり、快適かつ簡便な美顔術という
にはほど遠い状況であった。
前者では直流印加VCより皮膚に火傷が、後者では疼痛
の発生が不可避的であり、快適かつ簡便な美顔術という
にはほど遠い状況であった。
本発明者は、これら従来法の課題を解決すべく、鋭意研
究したところ、低周波交番電圧に直#Lを重畳せしめて
印加すれば、上記の課題がことごとく解決するばかりか
1.その負の直流成分により必要十分蓋のビタミンを破
壊することなく、自由自在に導入できる。しかも、同時
に印加する交番電圧が一定の快い刺激を皮l−に与え、
イオントホレーゼと電子式美顔の顕著な相剰幼果が得ら
れることを見い出して本発明を冗成した、 すなわち、本発明は、低周波発振回路1発振回路用電源
、及びN3療用導子を内蔵する本体からなり、発振回路
の出力端に出力コンデンサーと複数の抵抗器からなる分
割抵抗回路を直列に接続し、その分割抵抗回路の分割点
を治療用導子に5発振回路用を源の正極を治療用導子と
絶縁した本体またはその接地部に接続し、発振回路の発
振出力に電源の直流成分を重畳せしめることを特徴とす
るイオン導入電子美顔器に関する。
究したところ、低周波交番電圧に直#Lを重畳せしめて
印加すれば、上記の課題がことごとく解決するばかりか
1.その負の直流成分により必要十分蓋のビタミンを破
壊することなく、自由自在に導入できる。しかも、同時
に印加する交番電圧が一定の快い刺激を皮l−に与え、
イオントホレーゼと電子式美顔の顕著な相剰幼果が得ら
れることを見い出して本発明を冗成した、 すなわち、本発明は、低周波発振回路1発振回路用電源
、及びN3療用導子を内蔵する本体からなり、発振回路
の出力端に出力コンデンサーと複数の抵抗器からなる分
割抵抗回路を直列に接続し、その分割抵抗回路の分割点
を治療用導子に5発振回路用を源の正極を治療用導子と
絶縁した本体またはその接地部に接続し、発振回路の発
振出力に電源の直流成分を重畳せしめることを特徴とす
るイオン導入電子美顔器に関する。
次に、本発明を図示実施例に従って詳細に説明する。
第1図には、本発明のイオン導入電子美顔器の概略図を
示す。その低周波発振回路(11の出力は。
示す。その低周波発振回路(11の出力は。
出力コンデンサーCを経て抵抗R1及びR2からなる分
割抵抗回路に導かれ、その分割点には治療用導子(2)
が接続される。一方、治療用導子(2)と絶縁された本
体(3)若しくはその接地部(4)は、治療用導子(2
)と対をなし1発振回路用′亀源(5)の正極に接続さ
れる7、なお、本体(3)に低周波発振回路(1)など
が内装される。このような状態において、治療用導子(
2)と本体(3)若しくはその接地部(4)とを通じて
皮膚に印加される電圧波形は、第8図イに示すように波
形全体が負の領域にあり、しかも低周波発振回路+11
の発振周波数により交番している。このような波形の交
番電Ftヲ皮膚に印υII t、なからイオ/トホレー
ゼを行えば、直流による火傷の心配も、ノくルス性の交
番電圧の負電流成分だけを印加する際に生ずる疼痛の不
安も皆無となる。この時、治療用導子(2)と本体(3
)若しくはその接地部(4)との間に印加する電圧は、
分割抵抗R1,R2の比により適宜に調整すれば良い。
割抵抗回路に導かれ、その分割点には治療用導子(2)
が接続される。一方、治療用導子(2)と絶縁された本
体(3)若しくはその接地部(4)は、治療用導子(2
)と対をなし1発振回路用′亀源(5)の正極に接続さ
れる7、なお、本体(3)に低周波発振回路(1)など
が内装される。このような状態において、治療用導子(
2)と本体(3)若しくはその接地部(4)とを通じて
皮膚に印加される電圧波形は、第8図イに示すように波
形全体が負の領域にあり、しかも低周波発振回路+11
の発振周波数により交番している。このような波形の交
番電Ftヲ皮膚に印υII t、なからイオ/トホレー
ゼを行えば、直流による火傷の心配も、ノくルス性の交
番電圧の負電流成分だけを印加する際に生ずる疼痛の不
安も皆無となる。この時、治療用導子(2)と本体(3
)若しくはその接地部(4)との間に印加する電圧は、
分割抵抗R1,R2の比により適宜に調整すれば良い。
第2図には、本発明による携帯用イオン導入電子美顔器
の一例を示している。その低周波発振回路(1)の出力
電圧は、出力コンデンサーCを経て分割抵抗R3及びR
4に導かれる。これら分割抵抗R3、R4により分割さ
れた電圧は、治療用導子(21に印加される。一方、発
振回路用電源(5)の正極は低周波発振回路(1)と本
体(3)の一部に設けられた接地部(4)に接続される
。そして、スイッチS1、S2、S3は連動しており、
その接点aから接点す、 c、 dに接続すると装置は
作動状態となる。。
の一例を示している。その低周波発振回路(1)の出力
電圧は、出力コンデンサーCを経て分割抵抗R3及びR
4に導かれる。これら分割抵抗R3、R4により分割さ
れた電圧は、治療用導子(21に印加される。一方、発
振回路用電源(5)の正極は低周波発振回路(1)と本
体(3)の一部に設けられた接地部(4)に接続される
。そして、スイッチS1、S2、S3は連動しており、
その接点aから接点す、 c、 dに接続すると装置は
作動状態となる。。
この低周波発振回路(1)の発掘出力波形は、第3図ハ
のように波形全体が負の領域にある矩形波であるが、ス
イッチSを接点すに接続すると出力コンデンサーCを経
た時点で、その出力波形は、第3図口のように正負に交
番する矩形波となる。この交番する矩形波に発振回路用
電源(5)の直流が重畳され、治療用導子(2)と本体
(3)の接地部(4)との間に印加されるが、人体の静
電容量により最終的には第3図イに示すような波形電圧
が皮膚から流入することになる。
のように波形全体が負の領域にある矩形波であるが、ス
イッチSを接点すに接続すると出力コンデンサーCを経
た時点で、その出力波形は、第3図口のように正負に交
番する矩形波となる。この交番する矩形波に発振回路用
電源(5)の直流が重畳され、治療用導子(2)と本体
(3)の接地部(4)との間に印加されるが、人体の静
電容量により最終的には第3図イに示すような波形電圧
が皮膚から流入することになる。
また、この電子美顔器のスイッチSを接点dに接続すれ
ば、負の電流成分だけからなる交番電圧(第3図・・)
が、′iた接点Cに接続すると正負に交番する電圧(第
3図口)が、治療用導子(2)と本体13)の接地部(
4)との間に印加される。
ば、負の電流成分だけからなる交番電圧(第3図・・)
が、′iた接点Cに接続すると正負に交番する電圧(第
3図口)が、治療用導子(2)と本体13)の接地部(
4)との間に印加される。
このように電子美顔器が構成されており、ビタミンC水
溶fe1.を治療用導子(2)に保持させ、スイッチS
を接点す、 c、 dに切り換えて一定期間イオントホ
レーゼを行ったところ、本発明に該当するスイッチSを
接点すに接続したときに、最大かつ最も快適な美顔効果
が認められた。なお、治療用導子+2H7j、ビタミン
C水溶at保持させるために。
溶fe1.を治療用導子(2)に保持させ、スイッチS
を接点す、 c、 dに切り換えて一定期間イオントホ
レーゼを行ったところ、本発明に該当するスイッチSを
接点すに接続したときに、最大かつ最も快適な美顔効果
が認められた。なお、治療用導子+2H7j、ビタミン
C水溶at保持させるために。
保水性のスポンジで構成するのが好ましい。
また、スイッチst接点す、 c、 dに切り候え、接
点すに接続するときは治療用導子(21にビタミンC水
溶液を、接点Cまたはdに接続する時にはその度ごとに
水とビタミンC水溶液とを取り替えて、に該当するスイ
ッチSを接点すに接続した場合が何れよりも高い美顔効
果が得られた。
点すに接続するときは治療用導子(21にビタミンC水
溶液を、接点Cまたはdに接続する時にはその度ごとに
水とビタミンC水溶液とを取り替えて、に該当するスイ
ッチSを接点すに接続した場合が何れよりも高い美顔効
果が得られた。
これらの実験から、本発明によるイオン導入電子治療の
場合は、公知のイオントホレーゼ法、電子美顔術の何れ
か、またはそれらを併用した場合よりも明らかに大きな
成果があり、いわゆる相剰効果を生むものと考えられる
。
場合は、公知のイオントホレーゼ法、電子美顔術の何れ
か、またはそれらを併用した場合よりも明らかに大きな
成果があり、いわゆる相剰効果を生むものと考えられる
。
本発明のイオン導入電子美顔器は、簡単な構造にも拘わ
らず、期待通りのイオン導入電子美顔術を安全にしかも
廉価に提供することのできる実益を有する。
らず、期待通りのイオン導入電子美顔術を安全にしかも
廉価に提供することのできる実益を有する。
図は、本発明の実施例kieL、第1図はイオン導入電
子美顔器のブロックダイヤグラム、第2図は携帯用イオ
ン導入電子美顔器のブロックダイヤグラム、第3図は出
力波形図である。 図中の符号を説明すれば、次の通りである。 tl)は低周波発振回路 (2)は治療用導子(3
)は本 体 (4)は接地部(5)は発振
回路用電源 Cは出力コンデンサーR1,R2、R3
、R4は分割抵抗 Sはスイッチ特許出願人 才 1111 381 手続補正書 昭和57年6月n日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1 事件の表示 昭和57年特許願第5341号 2、発明の名称 イオン導入電子美顔器 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 4 補正の対象 明細書における「発明の詳細な説明」の項5、補正の内
容 (1)明細書第2貞第13行記載の1導入できる。しか
も、」を1−導入でき、しかも、」に補正します。 (2)明細書第6頁第13行記載の「考えられる。」の
後に、人文を挿入します。 「ビタミンC以外に、美容に有効とされている各種の薬
物を、1種または2種以上組み合わせて適宜イオン導入
し、患部の症状に合わせてきめの細かい美顔術を行うこ
とができる。特に、これまで各種化粧品に配合されてき
たある種のアミノビニル系感光色素、例えば2.2
(3−(2−(3−へグチル−4−メチル−2−チアゾ
リン−2−イリデン)エチリデン〕プロピオフェニレン
〕ビス〔3−へブチル−4−メチルUチアゾリニウムロ
アイオダイド〕(商品名 プラトニンまたは感光素10
1号、日本感光色素株式会社製造)は、本発明の装置に
より効率よくイオン導入され、シミ、ソバカスなどの治
療に著効を示す。」
子美顔器のブロックダイヤグラム、第2図は携帯用イオ
ン導入電子美顔器のブロックダイヤグラム、第3図は出
力波形図である。 図中の符号を説明すれば、次の通りである。 tl)は低周波発振回路 (2)は治療用導子(3
)は本 体 (4)は接地部(5)は発振
回路用電源 Cは出力コンデンサーR1,R2、R3
、R4は分割抵抗 Sはスイッチ特許出願人 才 1111 381 手続補正書 昭和57年6月n日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1 事件の表示 昭和57年特許願第5341号 2、発明の名称 イオン導入電子美顔器 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 4 補正の対象 明細書における「発明の詳細な説明」の項5、補正の内
容 (1)明細書第2貞第13行記載の1導入できる。しか
も、」を1−導入でき、しかも、」に補正します。 (2)明細書第6頁第13行記載の「考えられる。」の
後に、人文を挿入します。 「ビタミンC以外に、美容に有効とされている各種の薬
物を、1種または2種以上組み合わせて適宜イオン導入
し、患部の症状に合わせてきめの細かい美顔術を行うこ
とができる。特に、これまで各種化粧品に配合されてき
たある種のアミノビニル系感光色素、例えば2.2
(3−(2−(3−へグチル−4−メチル−2−チアゾ
リン−2−イリデン)エチリデン〕プロピオフェニレン
〕ビス〔3−へブチル−4−メチルUチアゾリニウムロ
アイオダイド〕(商品名 プラトニンまたは感光素10
1号、日本感光色素株式会社製造)は、本発明の装置に
より効率よくイオン導入され、シミ、ソバカスなどの治
療に著効を示す。」
Claims (1)
- 低周波発掘回路、発振回路用電源、治療用導子及び本体
からなる電子美顔器において、発振回路の出力端に出力
コンデンサーと分割用抵抗を直列接続し、該分割抵抗の
分割点を治療用導子に、発振回路用電源の正極を治療用
導子と絶縁された本体またはその本体の一部に接続し、
発振回路の発掘出力に直流成分を重畳せしめることを特
徴とするイオン導入電子美顔器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP534182A JPS58124457A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | イオン導入電子美顔器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP534182A JPS58124457A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | イオン導入電子美顔器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58124457A true JPS58124457A (ja) | 1983-07-25 |
JPS627865B2 JPS627865B2 (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=11608514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP534182A Granted JPS58124457A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | イオン導入電子美顔器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58124457A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61191052U (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-28 | ||
JPS6222662A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-30 | 林原 健 | イオン導入電子治療器 |
JPH02500487A (ja) * | 1986-07-25 | 1990-02-22 | ラットガーズ,ザ・ステート・ユニバーシティ・オブ・ニュージャージー | 電離療法装置およびプロセスおよび投与装置 |
JPH02243168A (ja) * | 1990-02-23 | 1990-09-27 | Advance Co Ltd | イオントフォレーゼ用デバイス |
WO2004047915A1 (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-10 | Ya-Man Ltd. | 電子トリートメント装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5554961A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-22 | Tapper Robert | Method that apply ion osmosis treatment method and its device |
-
1982
- 1982-01-19 JP JP534182A patent/JPS58124457A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5554961A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-22 | Tapper Robert | Method that apply ion osmosis treatment method and its device |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61191052U (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-28 | ||
JPH039745Y2 (ja) * | 1985-05-21 | 1991-03-11 | ||
JPS6222662A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-30 | 林原 健 | イオン導入電子治療器 |
US4689039A (en) * | 1985-07-19 | 1987-08-25 | Ken Hayashibara | Electrotherapeutic apparatus for iontophoresis |
JPH0328226B2 (ja) * | 1985-07-19 | 1991-04-18 | Hayashibara Takeshi | |
JPH02500487A (ja) * | 1986-07-25 | 1990-02-22 | ラットガーズ,ザ・ステート・ユニバーシティ・オブ・ニュージャージー | 電離療法装置およびプロセスおよび投与装置 |
JPH02243168A (ja) * | 1990-02-23 | 1990-09-27 | Advance Co Ltd | イオントフォレーゼ用デバイス |
JPH0349589B2 (ja) * | 1990-02-23 | 1991-07-30 | Advance Kk | |
WO2004047915A1 (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-10 | Ya-Man Ltd. | 電子トリートメント装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS627865B2 (ja) | 1987-02-19 |
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