JPS6275921A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6275921A JPS6275921A JP21459785A JP21459785A JPS6275921A JP S6275921 A JPS6275921 A JP S6275921A JP 21459785 A JP21459785 A JP 21459785A JP 21459785 A JP21459785 A JP 21459785A JP S6275921 A JPS6275921 A JP S6275921A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- oxygen
- thin film
- magnetic head
- metal thin
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は磁気ヘッドに係り、特に磁性金属薄膜を非磁性
酸化物中間層を介して積層体により磁気コアの少なくと
も一部を構成するようにした磁気へ゛ンドの改良に関す
る。
酸化物中間層を介して積層体により磁気コアの少なくと
も一部を構成するようにした磁気へ゛ンドの改良に関す
る。
従来より磁気ヘッドとしては、磁性金属薄膜をセンダス
ト（Ｆ ｅ −Ｎ ｌ ）あるいはアモルファス（Ｎｉ
−Ｔａ−Ｎｂ）合金などの高透磁率、高飽和磁束密度の
材料にて構成し、高密度記録を可能にしたものが知られ
ている。これらの磁気ヘフ］゛にあっては、磁気コアの
全部ヌは−・部が、Ｅ１１性金属ｍ膜を非磁性酸化物中
間層を介して積層された積層体にて構成されており、Ｊ
口ｆｔ性斂化物中間層によって渦電流損失を減少させ磁
気特性の劣化を防止させているものである。
ト（Ｆ ｅ −Ｎ ｌ ）あるいはアモルファス（Ｎｉ
−Ｔａ−Ｎｂ）合金などの高透磁率、高飽和磁束密度の
材料にて構成し、高密度記録を可能にしたものが知られ
ている。これらの磁気ヘフ］゛にあっては、磁気コアの
全部ヌは−・部が、Ｅ１１性金属ｍ膜を非磁性酸化物中
間層を介して積層された積層体にて構成されており、Ｊ
口ｆｔ性斂化物中間層によって渦電流損失を減少させ磁
気特性の劣化を防止させているものである。
前記非磁性酸化物中間層の材質としては、二酸化ケイ素
（ＳＩＯＩ）、酸化アルミニウム（Ａｌｇｏ、）をその
代表としてＭ、ｎ、の式で表わされる金属および半導体
元素が使われている。（（！ＩＬ、鉛系酸化物は磁性金
属薄膜を侵すため用いられていない。） しかし乍ら、Ｓ Ｉ Ｏｘ 、 Ａ １ｘ Ｏｓ等の磁
性金属薄膜を侵さないという長所は、同時に磁性金属薄
膜との化学結合力、即ち接着力が弱いという短所でもあ
った。そのためこの種の積層体に切削。
（ＳＩＯＩ）、酸化アルミニウム（Ａｌｇｏ、）をその
代表としてＭ、ｎ、の式で表わされる金属および半導体
元素が使われている。（（！ＩＬ、鉛系酸化物は磁性金
属薄膜を侵すため用いられていない。） しかし乍ら、Ｓ Ｉ Ｏｘ 、 Ａ １ｘ Ｏｓ等の磁
性金属薄膜を侵さないという長所は、同時に磁性金属薄
膜との化学結合力、即ち接着力が弱いという短所でもあ
った。そのためこの種の積層体に切削。
切断、研琴といった加工を加えると、非磁性酸化物中間
層と磁性金属薄膜の界面で剥離を生し、積屠体の加「性
、ノを産性を低下させていた。またこのような積層体に
より磁気コアの一部又は全部を構成する磁気へ・ンドに
おいては、磁気コアを研摩。
層と磁性金属薄膜の界面で剥離を生し、積屠体の加「性
、ノを産性を低下させていた。またこのような積層体に
より磁気コアの一部又は全部を構成する磁気へ・ンドに
おいては、磁気コアを研摩。
研削した際に磁性薄膜が剥離するという問題がしばしば
発生していた。
発生していた。
本発明はに述した点に鑑みてなされたもので、磁性金属
薄膜と非磁性酸化物中間層との接着力を増加さ口、この
界面での剥離を防１）−１／、加工性。
薄膜と非磁性酸化物中間層との接着力を増加さ口、この
界面での剥離を防１）−１／、加工性。
生産性を向にさ・口た磁気ヘッドの１に供を目的として
いる。
いる。
この目的を達成するため、本発明は非磁性酸化物層との
界面およびその近傍の磁性金属薄膜に、磁性金属の構成
元素より酸素との親和力の強い元素を局在させたもので
、この元素と非磁性酸化物層の酸素との親和力により、
界面での結合力を向上さゼたことを特徴とし、ている。
界面およびその近傍の磁性金属薄膜に、磁性金属の構成
元素より酸素との親和力の強い元素を局在させたもので
、この元素と非磁性酸化物層の酸素との親和力により、
界面での結合力を向上さゼたことを特徴とし、ている。
第１図〜第３図に基づいて本発明の実施例を説−３＝
明する。
第１図は磁気ヘッドに用いられる積層体の拡大断面図で
あり、磁性金属薄膜１は非磁性酸化物層２を介して数層
〜数十層積層され°（いる。磁性金属薄膜はＦｅ−Ｎ１
からなるセンダスト合金あるいはＮｉ−Ｔａ−Ｎｂから
なるアモルファス合金などによって構成され、２５〜２
６μｍ程度の厚さを有し、非磁性酸化物層２はＳｉＯ，
、Ａρ２０、などによって構成され、厚さ２５００人程
度０ものである。
あり、磁性金属薄膜１は非磁性酸化物層２を介して数層
〜数十層積層され°（いる。磁性金属薄膜はＦｅ−Ｎ１
からなるセンダスト合金あるいはＮｉ−Ｔａ−Ｎｂから
なるアモルファス合金などによって構成され、２５〜２
６μｍ程度の厚さを有し、非磁性酸化物層２はＳｉＯ，
、Ａρ２０、などによって構成され、厚さ２５００人程
度０ものである。
非磁性酸化物層２との界面およびその近傍の磁性金属薄
膜１には、第１図に二重ハツチング部として示ず位置に
Ｚｎ、Ｓｂ、”ｒｌ、ＡＡなどの元素が１〜’ｌ （ｗ
ｔ％〕局在され、混在部分３を形成している。この混在
部分３の厚みは磁性金属薄膜ｌの１／１００〜１１５０
程度が好ましく、実施例では５００〜６００人である
。
膜１には、第１図に二重ハツチング部として示ず位置に
Ｚｎ、Ｓｂ、”ｒｌ、ＡＡなどの元素が１〜’ｌ （ｗ
ｔ％〕局在され、混在部分３を形成している。この混在
部分３の厚みは磁性金属薄膜ｌの１／１００〜１１５０
程度が好ましく、実施例では５００〜６００人である
。
第２図は局在するＺｎ、Ｓｂ、ＴＩ、Ａｊ！等により接
着力が増大する本発明の詳細な説明するもので、間中の
はＺｎ、Ｓｂ、ＴＩ、ＡＩ等の酸素との親和力の強い元
素を一括して示しており、［相］は磁性金属薄膜１の構
成元素、口は非磁性酸化物中間層２中の酸素、在は酸素
と結合している金属元素および半導体元素を表わしてい
る。
着力が増大する本発明の詳細な説明するもので、間中の
はＺｎ、Ｓｂ、ＴＩ、ＡＩ等の酸素との親和力の強い元
素を一括して示しており、［相］は磁性金属薄膜１の構
成元素、口は非磁性酸化物中間層２中の酸素、在は酸素
と結合している金属元素および半導体元素を表わしてい
る。
Ｚｎ、Ｓｂ、’ｌ’ｌ、Ａ１等の元素■は他ノ■オよび
磁性金属薄膜構成元素Ｏと金属結合によって強く結びつ
いているが、同時にその酸素との強い親和力によって酸
化物中の酸素同とも化学結合しており、これによる強い
接着力が磁性金属薄膜１と非磁性酸化物層２との界面４
での剥離を防止している。
磁性金属薄膜構成元素Ｏと金属結合によって強く結びつ
いているが、同時にその酸素との強い親和力によって酸
化物中の酸素同とも化学結合しており、これによる強い
接着力が磁性金属薄膜１と非磁性酸化物層２との界面４
での剥離を防止している。
第３図はこの積層体を用いて形成した磁気ヘッド構造を
示している。
示している。
磁気−・・ンド５は、積層体６を基体７上に設けた二つ
の磁気コア半体８ａ、８ｂをギャップ９で対向さセて接
合したものであり、基体７は磁性体又は非磁性体からな
り、上面にはガラスＩＯによる摺動面を形成している。
の磁気コア半体８ａ、８ｂをギャップ９で対向さセて接
合したものであり、基体７は磁性体又は非磁性体からな
り、上面にはガラスＩＯによる摺動面を形成している。
このような磁気ヘッド５の摺動面を成形する際には研摩
、研削加工が施される。その際従来では積層体６中の磁
性金属薄膜ｌが界面より剥離することがあったが、４本
実施例では−Ｌ述の如く磁性金属ｆ＃膜１と非磁性酸化
物層２との結合力が強く、剥離は著しく減少した。
、研削加工が施される。その際従来では積層体６中の磁
性金属薄膜ｌが界面より剥離することがあったが、４本
実施例では−Ｌ述の如く磁性金属ｆ＃膜１と非磁性酸化
物層２との結合力が強く、剥離は著しく減少した。
本発明は以上の如くであるから、本発明に依れば、磁性
金属薄膜中に局在させた酸素との親和力の強い元素によ
って、磁性金属薄膜と非磁性酸化物層との密着性が向上
し、界面におけるｌＪ前を防止し、積層体自身及び磁気
へ・ンドの加工性、生産性を向上させることができる。
金属薄膜中に局在させた酸素との親和力の強い元素によ
って、磁性金属薄膜と非磁性酸化物層との密着性が向上
し、界面におけるｌＪ前を防止し、積層体自身及び磁気
へ・ンドの加工性、生産性を向上させることができる。
しかも添加させる元素は量はさほど多いものではなく、
界面近傍にのみ存在させれば良いから、磁気ヘッドの特
性を良好に保つことができる。
界面近傍にのみ存在させれば良いから、磁気ヘッドの特
性を良好に保つことができる。
第１図は本発明に使用する積層体の部分拡大断面図、第
２図は本発明の詳細な説明する模式図、第３図は本発明
実施例の磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・・磁性金属薄膜、２・・・・非磁性酸化物中間
層、４・・・・界面、５・印磁気へ・ン１′、６・・・
・積層体。 第１図 ！：石柔・院金、」簿刀覧 ２：非石並・ｊ工昂臂り物甲聞層 ４：幕面 第２図
２図は本発明の詳細な説明する模式図、第３図は本発明
実施例の磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・・磁性金属薄膜、２・・・・非磁性酸化物中間
層、４・・・・界面、５・印磁気へ・ン１′、６・・・
・積層体。 第１図 ！：石柔・院金、」簿刀覧 ２：非石並・ｊ工昂臂り物甲聞層 ４：幕面 第２図
Claims (1)
- 複数の磁性金属薄膜を非磁性酸化物中間層を介して積層
した積層体により、磁気コアの少なくとも一部を構成し
てなる磁気ヘッドであって、磁性金属薄膜の非磁性酸化
物中間層との界面およびその近傍に、前記磁性金属の構
成元素より酸素との親和力の強い元素を局在せしめてな
ることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21459785A JPS6275921A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21459785A JPS6275921A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275921A true JPS6275921A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16658351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21459785A Pending JPS6275921A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0382244A2 (en) * | 1989-02-10 | 1990-08-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetic head and process for producing same |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21459785A patent/JPS6275921A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0382244A2 (en) * | 1989-02-10 | 1990-08-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetic head and process for producing same |
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