JPS6275916A - 複合形磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
複合形磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6275916A JPS6275916A JP21447585A JP21447585A JPS6275916A JP S6275916 A JPS6275916 A JP S6275916A JP 21447585 A JP21447585 A JP 21447585A JP 21447585 A JP21447585 A JP 21447585A JP S6275916 A JPS6275916 A JP S6275916A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- alloy
- composite film
- magnetic
- electroless plating
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は高密度磁気記録を実現するため、記録再生ギャ
ップ部に本体より飽和磁束密度の小さい低飽和磁束密度
材膜を形成した複合形磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
ップ部に本体より飽和磁束密度の小さい低飽和磁束密度
材膜を形成した複合形磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
（従来の技術）
現在、磁気記録装置、特にフロッピーディスクドライブ
装置に使用さｎているリング型磁気ヘッドは、生産コス
トや装置の簡素化等の有利性から、再生と記録を一つの
磁気ヘッドで行なう記録再生兼用の磁気ヘッドが主流と
なっている。
装置に使用さｎているリング型磁気ヘッドは、生産コス
トや装置の簡素化等の有利性から、再生と記録を一つの
磁気ヘッドで行なう記録再生兼用の磁気ヘッドが主流と
なっている。
ここで記録用磁気ヘッドと再生用磁気ヘッド音別々に見
た場合、記録用磁気ヘッドの空隙長は記録性能の点から
ある程度大きくした方が良く、再生用ａ気ヘッドの場合
は再生周波数特性の点から逆に小さくした万が良い。そ
のため、従来の記録再生兼用磁気ヘッドの空隙長は結局
６専用磁気ヘッドの中間！度に設定されている。
た場合、記録用磁気ヘッドの空隙長は記録性能の点から
ある程度大きくした方が良く、再生用ａ気ヘッドの場合
は再生周波数特性の点から逆に小さくした万が良い。そ
のため、従来の記録再生兼用磁気ヘッドの空隙長は結局
６専用磁気ヘッドの中間！度に設定されている。
従って、従来の記録再生兼用磁気ヘッドは、記録再生兼
用磁気ヘッドを使う場合にくらべ％特性が劣るという問
題点があった。
用磁気ヘッドを使う場合にくらべ％特性が劣るという問
題点があった。
そして、この兼用ヘッドと専用ヘッドとの差は、記録密
度の高ｍＩｆ化とそれに伴なう媒体の高抗磁力化等によ
り大きくなる傾向がある。
度の高ｍＩｆ化とそれに伴なう媒体の高抗磁力化等によ
り大きくなる傾向がある。
上記問題点を解決し、高ｆｆｉ度記録？実現する為に、
磁性材料として、飽和磁束＠度７００〜１５００Ｇ１抗
磁力５００ｅ以下の範囲からなるｔｉ和磁束密度材ｌｒ
、複合膜とした複合形磁気ヘッドが提案されている。（
特公昭６０−６６３１０号公報参照） この複合膜を形成する方法としてＹ−Ｆｅ系のガーネッ
ト膜上スパッタリングし、次いで高温加熱することによ
Ｖ実現することが提案されている。
磁性材料として、飽和磁束＠度７００〜１５００Ｇ１抗
磁力５００ｅ以下の範囲からなるｔｉ和磁束密度材ｌｒ
、複合膜とした複合形磁気ヘッドが提案されている。（
特公昭６０−６６３１０号公報参照） この複合膜を形成する方法としてＹ−Ｆｅ系のガーネッ
ト膜上スパッタリングし、次いで高温加熱することによ
Ｖ実現することが提案されている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところが、複合膜（ｉ７Ｙ−Ｆｅ系ガーネットで作製す
る上記の方法は、作製工程に高温加熱工程が入るため、
ヘッドコア材として周波数特性の良好なＭ ｎ −Ｚ
ｎフェライトが使用できないという問題がある。
る上記の方法は、作製工程に高温加熱工程が入るため、
ヘッドコア材として周波数特性の良好なＭ ｎ −Ｚ
ｎフェライトが使用できないという問題がある。
即ち％Ｍ ｎ −Ｚ ｎフェライトは高温加熱されると
。
。
その表面に過酸化現象を起し、α−Ｐｅｓｏｓ ’ｌ：
含んだＩ［−形成して磁性が劣化してしまう。
含んだＩ［−形成して磁性が劣化してしまう。
また、スパッタリング法は付着速度が数＋Ａ１５）と比
較的遅く生産性に劣るという問題がある。
較的遅く生産性に劣るという問題がある。
そこで本発明に従来法の如＠磁性劣化が見られず、しか
も生産性の高い製造万ＩＳ！ｌｉ−全提案しよりとする
ものである。
も生産性の高い製造万ＩＳ！ｌｉ−全提案しよりとする
ものである。
（問題点を解決するための手段〉
本発明に布望復合膜全得るのに高温加熱工程とスパッタ
リング法と？採らずに新しい方法により上記の問題を解
決したものである。
リング法と？採らずに新しい方法により上記の問題を解
決したものである。
即ち、本発明は複合形磁気ヘッドの複合膜茫Ｐを５％〜
８チ含むＮｉ合金？無電屏めっきした後、２８０℃〜３
２０℃の低温加熱を行うよりにしたものである。
８チ含むＮｉ合金？無電屏めっきした後、２８０℃〜３
２０℃の低温加熱を行うよりにしたものである。
（作用）
この方法によると、本俸のへラドコア材料としてＭｎ−
Ｚｎフェライトの使用が可能となシ、また無電解めっき
は付層速度が数千Ｎ７分と速いので生産性が従来法より
著しく同上させることができる。
Ｚｎフェライトの使用が可能となシ、また無電解めっき
は付層速度が数千Ｎ７分と速いので生産性が従来法より
著しく同上させることができる。
（実施例）
本発明による低飽７Ｖ′０磁束密度材の磁気特性を調べ
るため、ガラス基板に無電解めつ＠ ＩＶｉ’ｒ形成し
、それ全２１０℃〜３３０℃で加熱しｆ？−後、磁気特
性全測定した。
るため、ガラス基板に無電解めつ＠ ＩＶｉ’ｒ形成し
、それ全２１０℃〜３３０℃で加熱しｆ？−後、磁気特
性全測定した。
ガラス基板にアルカリ脱脂液に浸漬後、超音彼洗浄し且
つ純水で洗浄したもの全使用した。
つ純水で洗浄したもの全使用した。
無電解めっき前処理は鋭敏化剤として（８ｎＯｔ２゜２
ＨｘＯ＋ＨＯ６）からなる水溶液に室温で１分間浸漬後
納水洗浄し、次いで活性化処理として（Ｐｄ（３７４＋
ＨＯ１）に５０℃の状態で１分間浸漬した。
ＨｘＯ＋ＨＯ６）からなる水溶液に室温で１分間浸漬後
納水洗浄し、次いで活性化処理として（Ｐｄ（３７４＋
ＨＯ１）に５０℃の状態で１分間浸漬した。
このガラス基板を９４℃に加熱後１次亜燐酸ソーダと硫
酸ニッケル、荷性ソーダからなる水溶液に９４℃に浸漬
して無電解めっきを毎分０．４μｍの付層速度で行った
。
酸ニッケル、荷性ソーダからなる水溶液に９４℃に浸漬
して無電解めっきを毎分０．４μｍの付層速度で行った
。
こ＼で鍍層するＮｉ−Ｐ合金の組成はめつき浴の組成を
変えることにより変化させた。
変えることにより変化させた。
この後、２７０℃〜３３０℃の間で加熱した後、振動試
料型磁力計で磁気特性音調べた。
料型磁力計で磁気特性音調べた。
加熱時間は５分以上で、時間による特性の影響は与られ
なかった。
なかった。
各組成における憬気特性金示すと第１表の通ｐである。
第 １ 表
Ｎｉ−Ｐ＠気特性
第１表よシ明らかなように％Ｐ＃度５〜８チ、加熱条件
２８０〜３２０℃のＮｉ−Ｐ合金が複合膜条件Ｂｓニア
００Ｇ〜１５００Ｇ、Ｈｃ：５００ｅ 以下の範囲に入
り、積台形磁気ヘッドに適用可能であることがわかる。
２８０〜３２０℃のＮｉ−Ｐ合金が複合膜条件Ｂｓニア
００Ｇ〜１５００Ｇ、Ｈｃ：５００ｅ 以下の範囲に入
り、積台形磁気ヘッドに適用可能であることがわかる。
Ｎｉ中のＰ含有量が多くなると非磁性であるＮｉ５Ｐが
多くな、６ｆｃ、め飽和磁化が減少し、８．５チ以上で
要求特性を満足しなくなる。
多くな、６ｆｃ、め飽和磁化が減少し、８．５チ以上で
要求特性を満足しなくなる。
Ｎｉ−Ｐ無電解めつき膜はアモルファスに近い構造を有
するもので、このような膜は磁性會示名ないが、高温で
加熱すると、結晶化が起り、磁性全ボすよつになる。こ
の温度が２８０℃以上でるる。
するもので、このような膜は磁性會示名ないが、高温で
加熱すると、結晶化が起り、磁性全ボすよつになる。こ
の温度が２８０℃以上でるる。
ところが３３０℃以上になるとＮｉ５Ｐの析出が起り、
抗磁力が増加するため要求特性を満足しなくなる。
抗磁力が増加するため要求特性を満足しなくなる。
磁気ヘッドに本発明にか＼る低飽和磁束密度材全形成す
るには、一般にこの種の磁気ヘッドはコイル全巻回する
ために組立ｍ遺を採っているので。
るには、一般にこの種の磁気ヘッドはコイル全巻回する
ために組立ｍ遺を採っているので。
低飽和磁束密度材全形成しエラとすゐピースの端面？無
電解めっきし、そのピース全２８０〜３２０℃に刀日熱
すればよい。
電解めっきし、そのピース全２８０〜３２０℃に刀日熱
すればよい。
（発明の効果）
１） を飽和磁束密度材？使用した複合形磁気ヘッド
の複会膜勿高温加熱せずに必要条件範囲で作製できる為
、ヘッドコア材として、周彼数特性の優れたＭｎ−Ｚｎ
フェライトが使用できる。
の複会膜勿高温加熱せずに必要条件範囲で作製できる為
、ヘッドコア材として、周彼数特性の優れたＭｎ−Ｚｎ
フェライトが使用できる。
２）従来低飽和磁束密度材として提案されているＹ−Ｆ
ｅ系ガーネットのスパッタリングに比べ本発明の無電解
めっきによる複合膜に付層速度が１００倍糧運くなり生
型性全向上する上において有利となる。
ｅ系ガーネットのスパッタリングに比べ本発明の無電解
めっきによる複合膜に付層速度が１００倍糧運くなり生
型性全向上する上において有利となる。
Claims (1)
- 記録再生ギャップ部に本体より飽和磁束密度の小さい物
質を付加した複合形磁気ヘッドの製造方法において、先
ず前記本体に無電解めつきによりＰ濃度が５〜８％であ
るＮｉ−Ｐ合金を施し、次いで２８０〜３２０℃の温度
で加熱することにより、前記低飽和磁束密度材を形成す
ることを特徴とする複合形磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21447585A JPS6275916A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 複合形磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21447585A JPS6275916A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 複合形磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275916A true JPS6275916A (ja) | 1987-04-07 |
| JPH043562B2 JPH043562B2 (ja) | 1992-01-23 |
Family
ID=16656335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21447585A Granted JPS6275916A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 複合形磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275916A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5100204A (en) * | 1989-11-15 | 1992-03-31 | Toyo Seat Co., Ltd. | Blow molded seat frame having embedded mounting member |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21447585A patent/JPS6275916A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5100204A (en) * | 1989-11-15 | 1992-03-31 | Toyo Seat Co., Ltd. | Blow molded seat frame having embedded mounting member |
| DE4036462C2 (de) * | 1989-11-15 | 2003-12-04 | Toyo Seat Co Ltd | Sitzrahmen-Aufbau für einen Fahrzeugsitz |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH043562B2 (ja) | 1992-01-23 |
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