JPS6271566A - スピナ−回転テ−ブル - Google Patents
スピナ−回転テ−ブルInfo
- Publication number
- JPS6271566A JPS6271566A JP21194285A JP21194285A JPS6271566A JP S6271566 A JPS6271566 A JP S6271566A JP 21194285 A JP21194285 A JP 21194285A JP 21194285 A JP21194285 A JP 21194285A JP S6271566 A JPS6271566 A JP S6271566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotary table
- turn table
- liquid
- spinner
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/28—Moving reactors, e.g. rotary drums
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/001—Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
木光明は液体の塗布及び液体を使用した化学反応、乾燥
を回転によって処理するスピ回転テーブルプルに関する
ものである。
を回転によって処理するスピ回転テーブルプルに関する
ものである。
従来の技術
従来のスピナー回転テーブル（よ第１図に承りように構
成されでいる。叩ｔ）、スピナー回転テーブル１は駆動
し一ター２によって回転され、処理物３は中心孔がスピ
ナー回転テーブル１のセンターに設けたセンターボス４
に嵌合される。回転ｉ −プル１の上方に取イ・１けた
液滴下ノズル５より出た液体は回転している処理物３の
表面に浦−ト８れ、化学的処理を行なう。滴下された使
用演の液体は処理物３の外周へ遠心力で広がり、処理物
３の外周にり振り切られて離れる。ぞの後、高速回転に
より処理物３表面の乾燥を行く１つようになっている。
成されでいる。叩ｔ）、スピナー回転テーブル１は駆動
し一ター２によって回転され、処理物３は中心孔がスピ
ナー回転テーブル１のセンターに設けたセンターボス４
に嵌合される。回転ｉ −プル１の上方に取イ・１けた
液滴下ノズル５より出た液体は回転している処理物３の
表面に浦−ト８れ、化学的処理を行なう。滴下された使
用演の液体は処理物３の外周へ遠心力で広がり、処理物
３の外周にり振り切られて離れる。ぞの後、高速回転に
より処理物３表面の乾燥を行く１つようになっている。
発明が解決しようとする問題点
このような従来のスピナー回転テーブルでは、処理物３
の表面に液滴下ノズル５より滴下した液体が処理物３の
中心孔と回転テーブル１のセーフターボス４との間に入
り、液溜まりが発生する。この溜まった液体は遠心力に
より処理物３の中心孔を汚すと共に乾燥時において処理
物の表面を流れ汚染Ｊる。特に液体による化学的処哩攪
の高速回転による乾燥の際には、一度乾燥した表面に液
体が２！！即物中心の孔より流れ、処理物の表面を汚し
たり、多種類の液体による化学的処理の場合においても
異種の液体が流れ出て処理物の表面を汚染する問題があ
る。
の表面に液滴下ノズル５より滴下した液体が処理物３の
中心孔と回転テーブル１のセーフターボス４との間に入
り、液溜まりが発生する。この溜まった液体は遠心力に
より処理物３の中心孔を汚すと共に乾燥時において処理
物の表面を流れ汚染Ｊる。特に液体による化学的処哩攪
の高速回転による乾燥の際には、一度乾燥した表面に液
体が２！！即物中心の孔より流れ、処理物の表面を汚し
たり、多種類の液体による化学的処理の場合においても
異種の液体が流れ出て処理物の表面を汚染する問題があ
る。
本光明はこのような問題点を解決するもので、処理物の
中心孔と回転テーブルのけンターボスとの間に入った液
体を回転テーブルの中心より回転テーブルの裏側へ耕出
し、処理物の表側へ液体が流出ぜず、安定したスピナー
処理を行えるようにすることをト］的とするものである
。
中心孔と回転テーブルのけンターボスとの間に入った液
体を回転テーブルの中心より回転テーブルの裏側へ耕出
し、処理物の表側へ液体が流出ぜず、安定したスピナー
処理を行えるようにすることをト］的とするものである
。
問題点を解決するための手段
この問題点を解決ザるために木光明は、回転テーブルの
ピンク−７１スの側面及び回転テーブルの表面に互いに
連通ケる溝を形成し、前記回転７−プルに上下り向のｎ
通孔を設け、前記回転７−プル表面の満端部と前記０通
／ｌ、をｌｔいに連通させたものである。
ピンク−７１スの側面及び回転テーブルの表面に互いに
連通ケる溝を形成し、前記回転７−プルに上下り向のｎ
通孔を設け、前記回転７−プル表面の満端部と前記０通
／ｌ、をｌｔいに連通させたものである。
作用
この構成により、処理物の中心孔と回転ｊ°−プルのＣ
ンターボスとの間に入った液体はセンターボス及び回転
ｊ−プル人面に設【ノられた溝を通り、回転１−ゾルを
口通りる孔を軒て回転ｊ−Ｉル裏面へＩＩ出される。
ンターボスとの間に入った液体はセンターボス及び回転
ｊ−プル人面に設【ノられた溝を通り、回転１−ゾルを
口通りる孔を軒て回転ｊ−Ｉル裏面へＩＩ出される。
実施例
以下、木光明の実施例について、図面（第１図〜第３図
）に基づいて説明１Ｊる。
）に基づいて説明１Ｊる。
先ず第１実施例について、第１図及び第２図に基づき°
説明１Ｊる。図において、１１は回転テーブルで、この
ＩＥ！１転ｉ−プル１１の回転方向は処理物側より見て
時Ｂ１方向である。同転ｊ−−プル１１は駆動モーター
１２によって回転し、この回転テーブル１１上に４Ｘ１
！られる処理物１３は中心孔が回転テーブル１１のセン
ターに設けたセンターボス１４に嵌合され、回転テーブ
ル１１に固定される。１５は回転テーブル１１の−Ｌ方
に取イ１けた液滴下ノズルで、このノズル１５より出た
液体は回転テーブル１１に固定され回転している処理物
１３の表面に滴下され、化学的処理及び乾燥を行なう。
説明１Ｊる。図において、１１は回転テーブルで、この
ＩＥ！１転ｉ−プル１１の回転方向は処理物側より見て
時Ｂ１方向である。同転ｊ−−プル１１は駆動モーター
１２によって回転し、この回転テーブル１１上に４Ｘ１
！られる処理物１３は中心孔が回転テーブル１１のセン
ターに設けたセンターボス１４に嵌合され、回転テーブ
ル１１に固定される。１５は回転テーブル１１の−Ｌ方
に取イ１けた液滴下ノズルで、このノズル１５より出た
液体は回転テーブル１１に固定され回転している処理物
１３の表面に滴下され、化学的処理及び乾燥を行なう。
液滴下ノズル１５より出た液体の一部は処理物１３の表
面を経て処理物１３の中心孔と回転テーブル１１のセン
ターに設けたセンターボス１４との間に入る。入った液
体は、センターボス１４の先端が円錐状でその外周が処
理物１３の表面より低く形成８れていることによりセン
ターン１；ス１４の側面に形成された複数本の溝１４ａ
に導かれるようになっている。回転テーブル１１の表面
には前記溝１４ａの下端と連通ケる複数本の満１１ａが
放射状に形成され、曲射溝１４ａに入った液体は溝１１
ａに入る。前記溝１１８は外周に向って下降軸側してお
り、満１１ａに入った液体は回転による遠心力の作用に
より満１１ａの端部まで進行し、更に満１１ａの端部に
連通し」下端から外方に向って傾斜する上下方向の貫通
孔１１ｂを通り回転テーブル１１の裏面に排出される。
面を経て処理物１３の中心孔と回転テーブル１１のセン
ターに設けたセンターボス１４との間に入る。入った液
体は、センターボス１４の先端が円錐状でその外周が処
理物１３の表面より低く形成８れていることによりセン
ターン１；ス１４の側面に形成された複数本の溝１４ａ
に導かれるようになっている。回転テーブル１１の表面
には前記溝１４ａの下端と連通ケる複数本の満１１ａが
放射状に形成され、曲射溝１４ａに入った液体は溝１１
ａに入る。前記溝１１８は外周に向って下降軸側してお
り、満１１ａに入った液体は回転による遠心力の作用に
より満１１ａの端部まで進行し、更に満１１ａの端部に
連通し」下端から外方に向って傾斜する上下方向の貫通
孔１１ｂを通り回転テーブル１１の裏面に排出される。
尚、前記ｎ通孔１１ｂは第１図からもわかるようにＨ転
ｉ−−プル１１の回転り向とは反対方向にも傾いている
。ここで、回転テーブル１１の回転数が高速回転になる
につれて、遠心力の作用が名調１４ａ 、 １１ａ 、
貫通孔１１ｂに動く力が増大リーると共に、回転ｉ’
−−１ル１１の回転方向と反対方向に傾斜させた貫通孔
１１．ｂの下端ロイ・１近（・°は空気流体の作用によ
り回転チー１ル１１のセンターボス１４に設けた溝１４
ａの圧力Ｊ、りも負ＦＬと４メリ、センターボス１４の
満１４ａに入った液体を回転ノープル１１の裏面へ吸い
出リカがｙｔ生する。このＪ、うにして処理物１３の中
心孔と回転テーブル１１に設けたセンターボス１４との
間に入った液体は処理物１３の表面を汚すことなく回転
テーブル１１の大面に排出きれる。
ｉ−−プル１１の回転り向とは反対方向にも傾いている
。ここで、回転テーブル１１の回転数が高速回転になる
につれて、遠心力の作用が名調１４ａ 、 １１ａ 、
貫通孔１１ｂに動く力が増大リーると共に、回転ｉ’
−−１ル１１の回転方向と反対方向に傾斜させた貫通孔
１１．ｂの下端ロイ・１近（・°は空気流体の作用によ
り回転チー１ル１１のセンターボス１４に設けた溝１４
ａの圧力Ｊ、りも負ＦＬと４メリ、センターボス１４の
満１４ａに入った液体を回転ノープル１１の裏面へ吸い
出リカがｙｔ生する。このＪ、うにして処理物１３の中
心孔と回転テーブル１１に設けたセンターボス１４との
間に入った液体は処理物１３の表面を汚すことなく回転
テーブル１１の大面に排出きれる。
次に本発明の他の実施例について説明りる。第３図は他
の実施例を示しており、この実施例ではセンターボス１
４の２Ｍ１４ａ及び回転ｊ−−プル１１表面の満１１ａ
が回転テーブル１１の回転方向と反対方向に傾斜してお
り、処理物１３の中心孔とセンターボス１４との間に入
った液体が回転による遠心力でより一層円滑に流れやす
くなっている。
の実施例を示しており、この実施例ではセンターボス１
４の２Ｍ１４ａ及び回転ｊ−−プル１１表面の満１１ａ
が回転テーブル１１の回転方向と反対方向に傾斜してお
り、処理物１３の中心孔とセンターボス１４との間に入
った液体が回転による遠心力でより一層円滑に流れやす
くなっている。
発明の効果
以上のように本発明によれば、回転ｉ°−プルのセンタ
ーボスから回転テーブル裏面へ通ずる渦を設り、遠心力
と空気流体の作用により処理物の中心孔と回転テーブル
のセンターボスとの間に入った８に体を回転ｉ−プル裏
面へ導き排出することができ、中心からの汚染液が処理
物表面に流出Ｊることがなく、安定したスピナー処」Ｐ
ができる。
ーボスから回転テーブル裏面へ通ずる渦を設り、遠心力
と空気流体の作用により処理物の中心孔と回転テーブル
のセンターボスとの間に入った８に体を回転ｉ−プル裏
面へ導き排出することができ、中心からの汚染液が処理
物表面に流出Ｊることがなく、安定したスピナー処」Ｐ
ができる。
第１図は本発明の第１実施例における回転７−プルの平
面図、第２図は同断面図、第３図は木光明の他の実施例
における回転７“−プルの平面図、第４図は従来の回転
テーブルの断面図である。
面図、第２図は同断面図、第３図は木光明の他の実施例
における回転７“−プルの平面図、第４図は従来の回転
テーブルの断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転テーブルのセンターボスの側面及び回転テーブ
ルの表面に互いに連通する溝を形成し、前記回転テーブ
ルに上下方向のｎ通孔を設け、前記回転テーブル表面の
溝端部と前記貫通孔を互いに連通させたスピナー回転テ
ーブル。 ２、回転テーブルのセンターボスの先端は円錐形であつ
て、その外周は処理物の表面より低く形成された特許請
求の範囲第１項記載のスピナー回転テーブル。 ３、センターボスの側面及び回転テーブルの表面の溝を
回転テーブルの回転方向と反対方向へ傾斜させた特許請
求の範囲第１項記載のスピナー回転テーブル。 ４、貫通孔は上端から外方に向つて傾斜し、且つ回転テ
ーブルの回転方向と反対方向へ傾斜した特許請求の範囲
第１項記載のスピナー回転テーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21194285A JPH0634963B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | スピナ−回転テ−ブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21194285A JPH0634963B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | スピナ−回転テ−ブル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271566A true JPS6271566A (ja) | 1987-04-02 |
| JPH0634963B2 JPH0634963B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=16614241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21194285A Expired - Lifetime JPH0634963B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | スピナ−回転テ−ブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634963B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009190024A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-08-27 | Bayer Materialscience Ag | イソシアネートを第１アミンのホスゲン化によって製造するための方法および混合ユニット |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP21194285A patent/JPH0634963B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009190024A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-08-27 | Bayer Materialscience Ag | イソシアネートを第１アミンのホスゲン化によって製造するための方法および混合ユニット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0634963B2 (ja) | 1994-05-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0444216Y2 (ja) | ||
| KR930010972B1 (ko) | 회전기판의 표면상으로의 액제 도포장치 | |
| EP1052682B1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Flüssigkeitsbehandlung von scheibenförmigen Gegenständen | |
| JPH0468028B2 (ja) | ||
| JPH09257367A (ja) | 基板乾燥装置 | |
| US4350305A (en) | Micro-mill-mixer | |
| US4192250A (en) | Valve-centrifuge | |
| AT500984B1 (de) | Vorrichtung zur flüssigkeitsbehandlung von scheibenförmigen gegenständen | |
| JPS6271566A (ja) | スピナ−回転テ−ブル | |
| US4314523A (en) | Centrifuge rotor apparatus for preparing particle spreads | |
| US4289506A (en) | Scrubbing apparatus | |
| JPS5924356Y2 (ja) | 気体と液状体とを接触させる装置 | |
| JPH09122560A (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JPH05226242A (ja) | 現像装置及び現像方法 | |
| JPH0441975Y2 (ja) | ||
| JPS61176120A (ja) | フオトレジストの現像装置 | |
| SU933123A1 (ru) | Устройство дл центробежного распылени жидкости | |
| JPH0441977Y2 (ja) | ||
| JPH0615030B2 (ja) | 粉体処理装置 | |
| JP4025414B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JPS6011136A (ja) | 顕微鏡標本を染色する方法及び装置 | |
| JP2000237667A (ja) | スピン処理装置及びスピン処理方法 | |
| JP2688084B2 (ja) | 流体有転ノズル | |
| JP2000105076A (ja) | スピン処理装置 | |
| JPH01254277A (ja) | スピナー回転処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |