JPH0634963B2 - スピナ−回転テ−ブル - Google Patents
スピナ−回転テ−ブルInfo
- Publication number
- JPH0634963B2 JPH0634963B2 JP21194285A JP21194285A JPH0634963B2 JP H0634963 B2 JPH0634963 B2 JP H0634963B2 JP 21194285 A JP21194285 A JP 21194285A JP 21194285 A JP21194285 A JP 21194285A JP H0634963 B2 JPH0634963 B2 JP H0634963B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotary table
- liquid
- center
- hole
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/28—Moving reactors, e.g. rotary drums
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/001—Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は液体の塗布及び液体を使用した化学反応、乾燥
を回転によって処理するスピナー回転テーブルに関する
ものである。
を回転によって処理するスピナー回転テーブルに関する
ものである。
従来の技術 従来のスピナー回転テーブルは第４図に示すように構成
されている。即ち、スピナー回転テーブル１は駆動モー
ター２によって回転され、処理物３は中心孔がスピナー
回転テーブル１のセンターに設けたセンターボス４に嵌
合される。回転テーブル１の上方に取付けた液滴下ノズ
ル５より出た液体は回転している処理物３の表面に滴下
され、化学的処理を行なう。滴下された使用済の液体は
処理物３の外周へ遠心力で広がり、処理物３の外周より
振り切られて離れる。その後、高速回転により処理物３
表面の乾燥を行なうようになっている。
されている。即ち、スピナー回転テーブル１は駆動モー
ター２によって回転され、処理物３は中心孔がスピナー
回転テーブル１のセンターに設けたセンターボス４に嵌
合される。回転テーブル１の上方に取付けた液滴下ノズ
ル５より出た液体は回転している処理物３の表面に滴下
され、化学的処理を行なう。滴下された使用済の液体は
処理物３の外周へ遠心力で広がり、処理物３の外周より
振り切られて離れる。その後、高速回転により処理物３
表面の乾燥を行なうようになっている。
発明が解決しようとする問題点 このような従来のスピナー回転テーブルでは、処理物３
の表面に液滴下ノズル５より滴下した液体が処理物３の
中心孔と回転テーブル１のセンターボス４との間に入
り、液溜まりが発生する。この溜まった液体は遠心力に
より処理物３の中心孔を汚すと共に乾燥時において処理
物の表面を流れ汚染する。特に液体による化学的処理後
の高速回転による乾燥の際には、一度乾燥した表面に液
体が処理物中心の孔より流れ、処理物の表面を汚した
り、多種類の液体による化学的処理の場合においても異
種の液体が流れ出て処理物の表面を汚染する問題があ
る。
の表面に液滴下ノズル５より滴下した液体が処理物３の
中心孔と回転テーブル１のセンターボス４との間に入
り、液溜まりが発生する。この溜まった液体は遠心力に
より処理物３の中心孔を汚すと共に乾燥時において処理
物の表面を流れ汚染する。特に液体による化学的処理後
の高速回転による乾燥の際には、一度乾燥した表面に液
体が処理物中心の孔より流れ、処理物の表面を汚した
り、多種類の液体による化学的処理の場合においても異
種の液体が流れ出て処理物の表面を汚染する問題があ
る。
本発明はこのような問題点を解決するもので、処理物の
中心孔と回転テーブルのセンターボスとの間に入った液
体を回転テーブルの中心より回転テーブルの裏側へ排出
し、処理物の表側へ液体が流出せず、安定したスピナー
処理を行えるようにすることを目的とするものである。
中心孔と回転テーブルのセンターボスとの間に入った液
体を回転テーブルの中心より回転テーブルの裏側へ排出
し、処理物の表側へ液体が流出せず、安定したスピナー
処理を行えるようにすることを目的とするものである。
問題点を解決するための手段 この問題点を解決するために本発明は、回転テーブルの
センターボスの側面及び回転テーブルの表面に互いに連
通する溝を形成し、前記回転テーブルに上下方向の貫通
孔を設け、前記回転テーブル表面の溝端部と前記貫通孔
を互いに連通させたものである。
センターボスの側面及び回転テーブルの表面に互いに連
通する溝を形成し、前記回転テーブルに上下方向の貫通
孔を設け、前記回転テーブル表面の溝端部と前記貫通孔
を互いに連通させたものである。
作用 この構成により、処理物の中心孔と回転テーブルのセン
ターボスとの間に入った液体はセンターボス及び回転テ
ーブル表面に設けられた溝を通り、回転テーブルを貫通
する孔を経て回転テーブル裏面へ排出される。
ターボスとの間に入った液体はセンターボス及び回転テ
ーブル表面に設けられた溝を通り、回転テーブルを貫通
する孔を経て回転テーブル裏面へ排出される。
実施例 以下、本発明の実施例について、図面（第１図〜第３
図）に基づいて説明する。
図）に基づいて説明する。
先ず第１実施例について、第１図及び第２図に基づき説
明する。図において、11は回転テーブルで、この回転テ
ーブル11の回転方向は処理物側より見て時計方向であ
る。回転テーブル11は駆動モーター12によって回転し、
この回転テーブル11上に載せられる処理物13は中心孔が
回転テーブル11のセンターに設けたセンターボス14に嵌
合され、回転テーブル11に固定される。15は回転テーブ
ル11の上方に取付けた液滴下ノズルで、このノズル15よ
り出た液体は回転テーブル11に固定され回転している処
理物13の表面に滴下され、化学的処理及び乾燥を行な
う。液滴下ノズル15より出た液体の一部は処理物13の表
面を経て処理物13の中心孔と回転テーブル11のセンター
に設けたセンターボス14との間に入る。入った液体は、
センターボス14の先端が円錐状でその外周が処理物13の
表面より低く形成されていることによりセンターボス14
の側面に形成された複数本の溝14a に導かれるようにな
っている。回転テーブル11の表面には前記溝14a の下端
と連通する複数本の溝11a が放射状に形成され、前記溝
14a に入った液体は溝11a に入る。前記溝11a は外周に
向って下降傾斜しており、溝11a に入った液体は回転に
よる遠心力の作用により溝11a の端部まで進行し、更に
溝11a の端部に連通し上端から外方に向って傾斜する上
下方向の貫通孔11b を通り回転テーブル11の裏面に排出
される。尚、前記貫通孔11b は第１図からもわかるよう
に回転テーブル11の回転方向とは反対方向にも傾いてい
る。ここで、回転テーブル11の回転数が高速回転になる
につれて、遠心力の作用が各溝14a ，11a 、貫通孔11b
に働く力が増大すると共に、回転テーブル11の回転方向
と反対方向に傾斜させた貫通孔11b の下端口付近では空
気流体の作用により回転テーブル11のセンターボス14に
設けた溝14a の圧力よりも負圧となり、センターボス14
の溝14a に入った液体を回転テーブル11の裏面へ吸い出
す力が発生する。このようにして処理物13の中心孔と回
転テーブル11に設けたセンターボス14との間に入った液
体は処理物13の表面を汚すことなく回転テーブル11の裏
面に排出される。
明する。図において、11は回転テーブルで、この回転テ
ーブル11の回転方向は処理物側より見て時計方向であ
る。回転テーブル11は駆動モーター12によって回転し、
この回転テーブル11上に載せられる処理物13は中心孔が
回転テーブル11のセンターに設けたセンターボス14に嵌
合され、回転テーブル11に固定される。15は回転テーブ
ル11の上方に取付けた液滴下ノズルで、このノズル15よ
り出た液体は回転テーブル11に固定され回転している処
理物13の表面に滴下され、化学的処理及び乾燥を行な
う。液滴下ノズル15より出た液体の一部は処理物13の表
面を経て処理物13の中心孔と回転テーブル11のセンター
に設けたセンターボス14との間に入る。入った液体は、
センターボス14の先端が円錐状でその外周が処理物13の
表面より低く形成されていることによりセンターボス14
の側面に形成された複数本の溝14a に導かれるようにな
っている。回転テーブル11の表面には前記溝14a の下端
と連通する複数本の溝11a が放射状に形成され、前記溝
14a に入った液体は溝11a に入る。前記溝11a は外周に
向って下降傾斜しており、溝11a に入った液体は回転に
よる遠心力の作用により溝11a の端部まで進行し、更に
溝11a の端部に連通し上端から外方に向って傾斜する上
下方向の貫通孔11b を通り回転テーブル11の裏面に排出
される。尚、前記貫通孔11b は第１図からもわかるよう
に回転テーブル11の回転方向とは反対方向にも傾いてい
る。ここで、回転テーブル11の回転数が高速回転になる
につれて、遠心力の作用が各溝14a ，11a 、貫通孔11b
に働く力が増大すると共に、回転テーブル11の回転方向
と反対方向に傾斜させた貫通孔11b の下端口付近では空
気流体の作用により回転テーブル11のセンターボス14に
設けた溝14a の圧力よりも負圧となり、センターボス14
の溝14a に入った液体を回転テーブル11の裏面へ吸い出
す力が発生する。このようにして処理物13の中心孔と回
転テーブル11に設けたセンターボス14との間に入った液
体は処理物13の表面を汚すことなく回転テーブル11の裏
面に排出される。
次に本発明の他の実施例について説明する。第３図は他
の実施例を示しており、この実施例ではセンターボス14
の溝14a 及び回転テーブル11表面の溝11a が回転テーブ
ル11の回転方向と反対方向に傾斜しており、処理物13の
中心孔とセンターボス14との間に入った液体が回転によ
る遠心力でより一層円滑に流れやすくなっている。
の実施例を示しており、この実施例ではセンターボス14
の溝14a 及び回転テーブル11表面の溝11a が回転テーブ
ル11の回転方向と反対方向に傾斜しており、処理物13の
中心孔とセンターボス14との間に入った液体が回転によ
る遠心力でより一層円滑に流れやすくなっている。
発明の効果 以上のように本発明によれば、回転テーブルのセンター
ボスから回転テーブル裏面へ通ずる溝を設け、遠心力と
空気流体の作用により処理物の中心孔と回転テーブルの
センターボスとの間に入った液体を回転テーブル裏面へ
導き排出することができ、中心からの汚染液が処理物表
面に流出することがなく、安定したスピナー処理ができ
る。
ボスから回転テーブル裏面へ通ずる溝を設け、遠心力と
空気流体の作用により処理物の中心孔と回転テーブルの
センターボスとの間に入った液体を回転テーブル裏面へ
導き排出することができ、中心からの汚染液が処理物表
面に流出することがなく、安定したスピナー処理ができ
る。
第１図は本発明の第１実施例における回転テーブルの平
面図、第２図は同断面図、第３図は本発明の他の実施例
における回転テーブルの平面図、第４図は従来の回転テ
ーブルの断面図である。 11……回転テーブル、11a ……溝、11b ……貫通孔、12
……駆動モーター、13……処理物、14……センターボ
ス、14a ……溝、15……液滴下ノズル
面図、第２図は同断面図、第３図は本発明の他の実施例
における回転テーブルの平面図、第４図は従来の回転テ
ーブルの断面図である。 11……回転テーブル、11a ……溝、11b ……貫通孔、12
……駆動モーター、13……処理物、14……センターボ
ス、14a ……溝、15……液滴下ノズル
Claims (4)
- 【請求項１】回転テーブルのセンターボスの側面及び回
転テーブルの表面に互いに連通する溝を形成し、前記回
転テーブルに上下方向の貫通孔を設け、前記回転テーブ
ル表面の溝端部と前記貫通孔を互いに連通させたスピナ
ー回転テーブル。 - 【請求項２】回転テーブルのセンターボスの先端は円錐
形であって、その外周は処理物の表面より低く形成され
た特許請求の範囲第１項記載のスピナー回転テーブル。 - 【請求項３】センターボスの側面及び回転テーブルの表
面の溝を回転テーブルの回転方向と反対方向へ傾斜させ
た特許請求の範囲第１項記載のスピナー回転テーブル。 - 【請求項４】貫通孔は上端から外方に向って傾斜し、且
つ回転テーブルの回転方向と反対方向へ傾斜した特許請
求の範囲第１項記載のスピナー回転テーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21194285A JPH0634963B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | スピナ−回転テ−ブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21194285A JPH0634963B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | スピナ−回転テ−ブル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271566A JPS6271566A (ja) | 1987-04-02 |
| JPH0634963B2 true JPH0634963B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=16614241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21194285A Expired - Lifetime JPH0634963B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | スピナ−回転テ−ブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634963B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007061688A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren und Mischaggregat zur Herstellung von Isocyanaten durch Phosgenierung primärer Amine |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP21194285A patent/JPH0634963B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6271566A (ja) | 1987-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |