JPS6271039A - マスタ−スタンバ−の製造方法 - Google Patents

マスタ−スタンバ−の製造方法

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JPS6271039A
JPS6271039A JP20880185A JP20880185A JPS6271039A JP S6271039 A JPS6271039 A JP S6271039A JP 20880185 A JP20880185 A JP 20880185A JP 20880185 A JP20880185 A JP 20880185A JP S6271039 A JPS6271039 A JP S6271039A
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JP
Japan
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resist
layer
master
metal layer
resist layer
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Application number
JP20880185A
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English (en)
Inventor
Chikatoshi Satou
佐藤 周逸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6271039A publication Critical patent/JPS6271039A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、映像、音声等の情報信号が凹凸状に記録され
る複製体の製造や、トラック溝が形成される複製体の製
造に用いられるマスタースタンパーの製造方法に関する
〔従来技術とその問題点〕
従来、マスタースタンパ−を製造する方法は、光学研磨
し、洗浄されたガラスよりなる原盤上にフォトレジスト
を塗布し、変調された、もしくは連続し6た光ビームを
照射して露光し、現像処理により凹凸状の信号もしくは
トラック溝を形成し、さらに薄い第1の金属層を銀鏡法
、蒸着法、スパッタ法などにより形成し、この上に電解
メッキにより第1の金属層と同種もしくは異種の第2の
金属層を形成し、その後これらの金属層を原盤から剥離
し、表面に付着しているフォトレジスト層をレジスト溶
解液で洗い落して製造している。
以下図面を参照しながら、この従来法の工程について詳
しく説明する。第2図は従来法の工程図である。
まず、光学研磨されたガラスよりなる原盤(1)を洗浄
工程で清浄にし、その上に約tzsoXの厚さでレジス
ト層(2)を形成する。次に変調された、もしくは連続
した光ビーム、例えばアルゴンイオンレーザ光で露光し
、次いで現像して凹凸状の信号、もしくはトラック溝を
形成する。次に銀鏡法、蒸着法、スパッタ法等により、
凹凸状の信号もし、くけトラック溝の形成されたレジス
ト層(2′)を有する原盤の表面に約800λの厚さで
第1の金属層(4)(主に銀、′ニッケル、金)を形成
して電極付を行なう。その後ニッケル電解メッキを行な
りて、200〜400μmの厚さのニッケルからなる第
2の金属層(5)を形成する。次に、上記レジスト層(
2’) 。
第1の金属層(4)、第2の金属層15)を原盤<1)
7>kら剥離し、最後に剥離した金属層の表面に付着し
ているレジスト層(2つをレジスト溶解液で洗い落して
、マスタースタンパ−(6)を製造する。
以上に述べたこのような従来法では、次のような問題点
があった。
まず第1に、剥離工程においてレジスト層が破壊され、
原盤側と金属層側と(て分離する。さらに、溶剤への溶
解等により、形成した凹凸状の信号もしくは、トラック
溝が破壊され、複数枚のマスタースタンパ−を製造する
ことができない。第2に、マスタースタンパ−からマザ
ースタンパ−、スタンバ−と製造する過程において、工
程の途中で汚れ、キズ等が発生した場合、再度初めの工
程からやりなおさなければならない。第3に、凹凸状の
信号もしくはトラック溝を形成した原盤から1枚のマス
チースタンパ−しか製造できないので、多くのマザース
タンパ−を複製することができない。
第4に、スパッタ法、エレクトロンビーム真空蒸着法等
により第1の金属膜(4)を形成した場合、レジスト洗
浄工程において、マスタースタンパ・−の表面にレジス
ト溶解液に溶けないレジストが残り、凹凸状の信号、も
しくはトラック溝の寸法、及び形状に影響を与え、この
ようなマスタースタンパ−を用いて複製したマザースタ
ンパ−1樹脂成形体等の複製体の特性に著しく影響を与
える。第5゜K、よっ−ご剥離工程後に、マスタースタ
ンパ−の表面から残ったレジスト層を洗い落す必要があ
り、工程が繁雑である。第6に、上述したよじな理由か
らコスト高となり、経済的でない。等多くの問題点を有
していた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、現像工程後の凹凸状の信号もしくはト
ラック溝を形成した原盤から、複数枚のマスタースタン
パ−を製造することを可能にするとともに、凹凸状の信
号もしくはトラック溝の寸法や形状、複製体の特性に影
響を与えるマスタースタンパ−表面のレジスト残りをな
くして前述した従来法の種々の問題点を解決するマスタ
ースタンパ−の製造方法を提供することである。
〔発明の概要〕
本発明によるマスタースタンパ−の製造方法では、光学
研磨されたガラスよりなる原盤上にレジスト層を形成後
、その面上に凹凸状の信号もしくはトラック溝を形成し
、その凹凸状の信号もしくはトラック溝を形成したレジ
スト層に紫外線を照射してレジスト層を変質させた後、
その変質したレジスト層を有する原盤の表面上に第1の
金属層を形成し、さらにその第1の金属層上に同種もし
ぐは異種の第2の金属層を形成する。
こうしてレジスト全体を変質させることKより、レジス
ト層を強固にし、さらにレジスト溶解液(有機溶剤も含
む)に対しても不溶解性にし、さらに原盤を剥離する際
に原盤上にレジスト層が破壊されることなく密着して残
すことができ、これより再度の利用に対する原盤洗浄を
可能にしたものである。
すなわち本発明は、原盤上にレジスト層を形成する工程
と、前記レジスト層に凹凸状の信号もしくはトラック溝
を形成する工程と、凹凸状の信号もしくはトラック溝が
形成された前記レジスト層に紫外光線を照射して、レジ
スト層を変質させる工程と、前記変質したレジスト層を
有する原盤の表面に第1の金属層を形成する工程と、前
記第1の金属層−上に前記第1の金属層と同種もしくは
異種の第2の金属層を形成する工程と、前記第1の金属
層及び第2の金属層を原盤から剥離する工程と、からな
ることを特徴とするものである。
〔発明の実施例〕
次に実施例をあげて、本発明を具体的に説明するが、本
発明;まこれに限定されるものではない。
g l 図td、本発明におけるマスタースタンパ−の
製造方法の製造工程図である。
まず、光学研磨されたガラスよりなる原盤(1)を洗剤
、純水、有機溶媒中にてそれぞれ超音波洗浄を行う。次
にポジ型フォトレジスト例えばMP −1400(マイ
クロポジット社製)をスピンナーを用いて1250Aの
厚さで塗布し、レジスト層(2)を形成する。そして、
アルゴンイオンレーザを用いて露光を行い、次いで現像
し、レジスト層に凹凸状の信号もしくはトラック溝(2
つを形成する。
そのあと中圧水銀灯(波長3131m)を用い出力80
W/、照射時間5分間の照射条件でレジストCπ 変質層(3)を形成し、その上にスパッタ法によ抄ニッ
ケルよりなる第1の金属層(4)を厚さ600にで形成
して電極付を行なう。このニッケル金属層の上にスルフ
ァミン酸ニッケル溶を用いてニッケル電解メッキを行い
、厚さ約300μ7nのニッケル層を第2の金属層(5
)として形成する。これより原盤からの剥離工程では、
レジスト変質層(3)とWJlの金属層(4)との間を
、レジスト変質層(3)を破壊するととなく剥離できる
。こうした工程を経て1枚めのマスタースタンパ−(6
)を完成する。その後凹凸状の信号もしくは、トラック
溝を有したレジスト変質層(3)が密着して、電極付は
以前の状態にもどった原盤を純水 有機溶剤等で洗浄し
、再度電極付けの工程以降をくり返すことにより、2枚
め、3枚めのマスタースタンパ−(6)を完成する。
なお、本実施例では紫外線照射工程において、中圧水銀
灯を用いたが、その他の紫外線発生源、例えば、実用的
なものとしてメタルハライドランプ、低圧水銀灯、高圧
水銀灯、エキシマレーザ−等が使用可能である。ただし
、本発明における紫外線領域は200nm〜400pm
の波長が好ましく、さらに好ましくは254nm〜35
5 nm  である。
また、レジストとしてはノボラック系のポジ型フォトレ
ジストが好ましい。したがって、最適の紫外線照射時間
は、レジストの種類及び膜厚によって一定ではなく、さ
らに1紫外線発生光−源の分光エネルギー分布により異
なる。例えば、ポジ型レジストとして、MP−1400
(マイクロポジット社製)を用い、膜厚がxoooAの
とき、中圧水銀灯を用いた場合2分以上の照射で完全に
レジスト変質層が形成されるが、高圧水銀灯を用いた場
合5分以上の照射時間を必要とする。
また、紫外線を照射してレジスト変質を行った結果、収
縮によりレジスト膜厚が3%へ69g減少する。初めの
膜厚が10001の場合、減少量は30λ〜60^であ
るが、初めの塗布工程において、減少1分を上乗せして
塗布しておくことが望ましい。同時に、凹凸状の信号も
しくはトラック溝も、収縮により寸法が2に〜4に大き
くなるので、記録工程において適正1光以下のレーザ出
力で記録するか、現像工程において調整することが望ま
しい0 〔発明の効果〕 以上、本発明は、凹凸状の信号もしくはトラック溝を形
成したレジスト層に紫外線を照射し、レジスト全体を変
質させることによ:フ、レジスト層ケ強固にし、かつ耐
熱性を向上させ、さらにレジスト溶解液(有機溶剤を含
む)に対しでも不溶屏性になるので、剥離工程において
ガラスよりなる原盤上にレジスト層が破壊されることな
く密着し、て残る。そして有機溶剤での洗浄も可能なた
め、1度凹凸状の信号、もしくはトラック溝を形成した
原盤から複数枚のマスタースタンパ−を製造できる。そ
の結果、1枚のマスタースタンパ−が破損しても、再度
、最初から製作しなおす必要がない。また従来に比べ、
多くのマザースタンパ−が製造できる。
さらに、レジスト層が強固になっているため、剥離工程
でマスタースタンパ−の表面にレジストが残留しない。
したがって、レジスト洗浄工程を省略でき、工程が簡略
化される。その他にも、凹凸状の信号もしくはトラック
溝の転写性が向上し、寸法、形状の変形等影響がなく、
複製体の特性にも影響を与えないという効果が得られる
このような利点によりコストを大幅に低減することがで
きる。  (以下依色)
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示すマスタースタンパ−の製
造工程断面略図、第2図は従来のマスタースタンパ−の
製造工程断面略図である。 1・・・原盤 2・・・フォトレジスト層 2′・・・凹凸状の信号もしくはトラック溝の形成され
たレジスト層 3・・・レジスト変質層 4・・・第1の金属層 5・・・第2の金属層 6・・・マスタースタンパ− 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同    竹 花 喜久男 /      原(がLン先29ト 壷 と2Zとシー−とヲラ牙〜−2しジストイシ秒第  1
  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  原盤上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト
    層に凹凸状の信号もしくはトラック溝を形成する工程と
    、凹凸状の信号もしくはトラック溝が形成された前記レ
    ジスト層に紫外光線を照射して、レジスト層を変質させ
    る工程と、前記変質したレジスト層を有する原盤の表面
    に第1の金属層を形成する工程と、前記第1の金属層上
    に前記第1の金属層と同種もしくは異種の第2の金属層
    を形成する工程と、前記第1の金属層及び第2の金属層
    を原盤から剥離する工程と、からなることを特徴とする
    マスタースタンパーの製造方法。
JP20880185A 1985-09-24 1985-09-24 マスタ−スタンバ−の製造方法 Pending JPS6271039A (ja)

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