JPS6269104A - エツジ検出装置 - Google Patents

エツジ検出装置

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JPS6269104A
JPS6269104A JP60210649A JP21064985A JPS6269104A JP S6269104 A JPS6269104 A JP S6269104A JP 60210649 A JP60210649 A JP 60210649A JP 21064985 A JP21064985 A JP 21064985A JP S6269104 A JPS6269104 A JP S6269104A
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slit
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slit plate
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laser spot
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欣也 加藤
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/028Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring lateral position of a boundary of the object

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は、レーザー光束で物体面を相対的に走査し、該
物体面玉のエツジか°2の反射光を検出してエツジの存
在を検出するエツジ検出装置に関する。
(発明の背景) 従来、この種のエツジ検出装置としては、例えば、集積
回路等の微小パターンのエツジを充電的に測定すること
により、該微小パターンの線幅を測定する第5図に示す
ような微小線幅alll装定がある。
第5図に示す微小線幅1111定装置は、レーザー光束
lをビームエキスパンダー2により拡幅してスリ  ッ
  ト 板 3 の ス リ  ッ  ト を d  
過 さ せ 、  a亥 ス リ  ッ  ト 板3を
通過したレーザー光束を対物レノズ4により集光させ、
移動ステージ511Zに載置されたマスク笠のパターン
6Lに細長いレーザースポット7を形成し、移動ステー
ジ5を移動することによって細長いレーザースポット7
でパターン6を走査し、該パターン6のエツジからの散
乱光を検出器8で検出すると共に該パターン6からの正
反射光を検出器9で検出することにより、パターンの座
標を光電的に測定するように構成したものである。
しかしながら、このような従来の微小線幅な11定芸置
では、前記パターントロに形成された細長いレーザース
ポット7の向きを変えるために、イメージローテータ1
0が集光光学系中に配置されているが、該イメーシロー
テータlOについてはある程度の製造誤差は避けること
ができず、この製造誤差等により該イメージローテータ
lOの軸がずれている場合には、該イメージローテータ
lOを回転したときに同転する細長いレーザースポット
7の中心が対物レンズ4の光軸からずれてしまい、この
ため移動ステージ5を移動して細長いレーザースポット
7を所定の位置に設定する際に誤差が生じ、これによっ
て測定誤差が生じてしまうという問題点があった。この
ような測定誤差の発生を避けるためには、該細長いレー
ザースポット7の中心か前記光軸からずれた15を補正
しなければならず、該イメージローテータ10を回転し
た1″?1度毎にこのずれ星を補正するのは非常に大変
であるという問題点があった。
(発明の目的) 本発明は、このような従来の問題点に着目して成された
もので、物体面りに形成された細長いレーザースポット
の向きを回転した際に、該細長いレーザースポットの中
心が移動することのないエツジ検出器+l’ffを提供
することを[1的としている。
(発明の顧問) かかる[1的を達成するための本発明の要旨は、レーザ
ー光栄で物体面を走査]7.該物体面からの反射光を検
出して物体面1−のエツジを検出する装置において、1
1’Aレ一ザー光束を物体面ヒに集光する集光光学系の
f行光束中に、細長いレーザースポットを物体面にに形
成するためのスリシトを有するスリット板を該集光光学
系の光軸にI■直な面内で回転可能に配置し、かつ1核
細長いレーザースポットの向きを前記スリット板により
回転された分だけ元に戻すだめの像回転光学部材を、前
記反射光を検出する検出光学系中に配置したことに存す
る。
そして、」二記エンシ検出装置では、前記スリ。
ト板は前記集光光学系のモ行光東中に配置されているの
で、該スリット板の回転中心か機械的な誤差でずれても
、該スリット板を通過したレーザー光束の集光点は変ら
ない。したがって、スリシトを回転することにより細長
いレーザースポットを回転させる際に、該細長いレーザ
ースポットの中心か移動しないように成っている。
(実施例) 以ド、図面にノSづいて未発明の一実施例を説明する。
第1図から第4図は本発明の−・実施例を示しており、
第1図は・実施例に係る微小線幅1111定装置を示す
概略的な光学系の配置図である。
第1図に示すように、エツジ検出装置としての微小線幅
/lil+定装置20は、直線偏光のレーザー光栄(P
偏光のレーザー光束)を発する偏光レーザー光源21と
、該偏光レーザー光源21からの直線偏光のレーザー光
栄を移動ステージ22hに・1配置されたマスク等のパ
ターン(物体面)234:に集光する集光光学系30と
、該集光光学系30のモ行光東中に配置され、細長いレ
ーザースポット24をバターy23J−に形成するだめ
のスリット板40 ト、パターン23のエソノからの散
乱光を検出する検出器25と、バター723からの正反
射光を検出する検出光学系50と、自動焦点検出系60
と、パターン23を観察するための観察光学系70とか
ら構成されている。
前記集光光学系30は、ミラー31.32.33と、ミ
ラー33で反射された直線偏光のレーザー光束の幅を拡
大するビームエキスパンダ34と、検出光学系50との
光路分岐(、札に配置され。
P偏光のレーザー光束を透過させると共にS偏光のレー
ザー光栄を反射させる偏光ビームスプリッタ35と、ミ
ラー36と、1/4波長板37と、観察光学系70との
光路分岐点に配置され、レーザー光束を透過させると共
に観察光学系70からのri!!察用照引用照明光させ
るグイクロイックミラー38と、対物レンズ39とから
構成されている。
第1図および第2図に示すように、前記スリット板40
はビーノ・エキスパンダ34と偏光ビームスプリッタ3
5との間の平行光束中にて1光軸に垂直な平面内で回転
可能に配置されている。
このスリット板40は、パターン23hに形成される細
長いレーザースポット24を回転可能にするために、集
光光学系30の光軸30aからずれた位置にある回転軸
40aを中心に回転可能となっている。
該スリット板40には3つのスリット41゜42および
43が形成されており、各スリ・ント41.42および
43は同じ大きさに形成されている。スリット42はス
リット41からほぼ90°ずれた位置に該スリブ)41
と同じ向きに形成されており、スリット43はスリット
42からほぼ90°ずれた位置に該スリット42に対し
て45°傾けて形成されている。スリ・ント板40を回
転することにより各スリット41.42および43が集
光光学系30の平行光束中に投入されるので、該スリッ
ト板4oの回転中心40aが機械的な誤差でずれても、
各スリブ)41.42および43を通過して形成される
細長いレーザースポット24の集光点は変らないように
成っている。
物体面り一に形成される細長いレーザースポットは、ス
リットの回折によって形成されるもので、スリットの長
手方向とレーザースポットのffl f=力方向光学的
に直交方向となっている。このことは1本願と同一・出
順人による特公昭59−26883号公報に詳述されて
いる。従って2 スリット板40を回転してスリットの
向きを変えることによって、物体面ヒでの細長いレーザ
ースポットの方向を変え、flll定しようとするパタ
ーンの伸長方向に合致させることが可能になる。
また、各スリット41.42および43と集光光学系3
0の光軸30aとの位置関係は、第2図に示すように、
スリット板40を回転することにより各スリット41.
42および43を集光光学系30の平行光束中に位置さ
せた際に、各スリット41.42および43か光軸30
aからずれた位置にくるように成っているつこのように
Wj或したのは、いわゆるバックトークを防出するため
である。すなわち、パターン23から反射され、1/4
波長板37を透過した直線偏光のレーザー光束(S偏光
のレーザー光束)は理想的には偏光ビームスプリッタ3
5で100%反射されるはずであるが、僅かではあるが
偏光ビームスプリッタ35を透過する光があり、この光
が偏光レーザー光源21に戻ると、レーザーの発振に悪
影響を及ぼし、測定誤差が生じてしまう、したがって、
僅かな光でも偏光レーザー光源21に戻るのを防+hす
るために、各スリット41.42および43を光軸30
aからずらした位置に配置しである。
第3図に示すように、前記検出′a25のド方には、パ
ターン23のエツジからの散乱光を検出器25に向けて
反射する輪体状の凹面反射鏡26が配置されている。
第1図に示すように、パターン23からの正反射光を検
出する前記検出光学系50は、偏光ビームスプリンタ3
5で反射されてくる平行なレーザー光束の幅を縮小する
ための逆ビームエキスパンダ51と、ミラー52と、像
回転光学部材とじての像回転プリズム53と、自動焦点
検出系60との光路分岐点に配置されたハーフミラ−5
4と、結像レンズ55と、瞳位置に配置され、縦長のス
リットを有するスリット板56と、該スリット板56の
後方に配置された不図示の光電検出器とから構成されて
いる。
前記像回転プリズム53は、細長いレーザースポットの
長り方向をスリット板56のスリ・ントの方向および前
記自動焦点検出系60の後述する格fスリットの格その
方向と ・致させるために、前記スリット板40により
回転した細長いレーザースポットの向きを元に戻すため
のものである。したがって、該像回転プリズム53はス
リット板40と連動して回転するように成っている。
第1図および第4図に示すように、前記自動焦点検出系
60は、ハーフミラ−54からの反射光を受ける振動ミ
ラー61と、ハーフミラ−62と、該ハーフミラ−62
の′r!liI!S光路中に配置された結像レンズ63
と、前記対物レンズ39の焦点面上共役な位置に配置さ
れ、縦長の格fを有する格子スリット64と、ハーフミ
ラ−62の反射光路中に配置されたミラー65と、結像
レンズ66と、ビームスプリッタ67と、ビームスプリ
ッタ67の透過光路中に配置され、対物レンズ39の焦
点面上共役な位置より前方(前ビン位置)に配置された
格rスリントロ8と、ビームスプリッタ67の反射光路
中に配置され、対物レンズ39の焦点面上共役な位置よ
り後方(後ピン位置)に配置された格rスリントロ9と
から構成されている。
各格子スリット64.68.69の後方には。
不図示の充電検出器が配置されている。
lti記観察光学系70は、前記グイクロイックミラー
38に観察用照明光束を送る照明系と、TTL観察のた
めの結像光学系とから構成されている。
該a察光学系7oの照明系は、五図示の光源からの観察
用照明光束を導くライトガイド71と、視野絞り72と
、集光レンズ73と、結像光学系との光路分岐点に配置
されたハーフミラ−74とから成り、1該集光レンズ7
3を透過した観察用照明光束は、ダイクロインクミラー
38に入射するように成っている。
、該観察光学系70の結像光学系は、ハーフミラ−74
の反射光路中に配置された集光レンズ75と、ミラー7
6と、焦点鏡77と、フィールドレンズ78と、リレー
レンズ79と、ミラー80と、ITV撮像而8面上から
構成されている。
以ド、L記構成を有する微小線@A測定装置20の作用
を説明する。
偏光レーザー光@t21より出た直線偏光のレーザー光
束(P偏光のレーザー光束)は、ミラー31.32.3
3で反射された後にビームエキスパンダ34により幅を
拡大されてスリット板40に入射する。このとき、スリ
ット板40のスリット41が第1図に示すように集光光
学系30の平行光束中に配置されているものとする。
ビームエキスパンダ34によってその幅を拡大された直
線偏光のレーザー光栄は、スリット板40のスリット4
1を通過した後に偏光ビームスプリンタ35を透過し、
ミラー36で反射され、1/4波長板37およびグイク
ロイックミラー38を透過し、対物レンズ39によって
パターン23Fに図に示す向きに延びた細長いレーザー
スボント24として集光される。
ここで、移動ステージ22を移動することにより該細長
いレーザースボント24がパターン23を走査する。
パターン23のエツジからの細長いレーザースポット2
4の散乱光は1輪体状の凹面反射鏡26で反射されて検
出器25に入射し、該検出器25によってパターン23
の線幅が測定される。
一方、パターン23からの細長いレーザースボント24
の正反射光は、対物レンズ39を透過し、ダイクロイン
クミラー38で反射されずに該タイクロイックミラー3
8を透過する。ダイクロインクミラー38を透過した正
反射光(細長いレーザースポット)は、I/4波長板3
7を透過することにより、S偏光のレーザー光束となり
、ミラー36で反射された後に偏光ビームスプリッタ3
5で反射される。
ここで、S偏光のレーザー光栄は理想的には偏光ビーム
スプリ、り35で100%反射されるはずであるが、該
S偏光のレーザー光束が僅かでも偏光ビームスプリンタ
35を透過したとしても。
上述したようにスリット41は集光光学系30の光軸3
0aからずれているので、偏光ビームスプリッタ35を
透過した僅かなS偏光のレーザー光束はスリット板40
によってカットされ、偏光レーザー光?A21に到達し
ない。したがって、前記バンクトークが防[卜されてい
る。
偏光ビームスプリッタ35で反射された正反射光は、逆
ビームエキスパンダ5工を通過し、ミラー52で反射さ
れ、像回転プリズム53で像回転作用を受けてハーフミ
ラ−54に入射する。ここで、像回転プリズム53は、
細長いレーザースポットのi+力方向スリット板56の
スリットの方向および格子スリット64.68.69の
各格rの方向と一致させるような向きとなっている。
ハーフミラ−54を透過した正反射光は、結像レンズ5
5によってスリット板56hに集光され、該スリット板
56の背後に配置された不図示の光電検出器に入る。該
光゛面検出器により物体面の明暗の差C反射率の差)に
応じた信号が得られ、これに基づいて微小線幅測定のた
めの適切なスライスレベルが設定され、前記検出器25
によるパターン23の線幅測定が成される。
ハーフミラ−54で反射された正反射光は、ミラー61
で反射されてハーフミラ−62に入射する。
該ハーフミラー62で反射された正反射光は、ミラー6
5で反射され、結像レンズ66により集光されてビーム
スプリンタ67に入る。ビームスプリッタ67を透過し
た正反射光は格子スリット68に入射し、ビームスプリ
ンタ67で反射した正反射光は格子スリントロ9に入射
する。
一方、ハーフミラ−62を透過した正反射光は、結像レ
ンズ63により集光されて格子スリントロ4に入射する
前記自動焦点検出系60では、格子スリット68、格子
スリットロ9の各々の背後に配置された不図示の光゛1
[検出器からの信号によって弘1物レンズ39の自動合
焦の粗、J!I整が成され、格子スリントロ4の背後に
配置された不図示の光電検出器からの信号によって該自
動合焦の微調整が成される。
さらに、前記観察光学系70の観察用照明光束は、ライ
トカイI”71により導かれた後、視野絞り72.集光
し/スフ3およびハーフミラ−74を透過し、グイクロ
イックミラー38で反射され、対物レンズ39によって
パターン23L、に導かれる。
該パターン23で反射された観察用照明光束は、対物レ
ンズ39を透過後にグイクロイックミラー38で反射さ
れてハーフミラ−74に向けられる。ハーフミラ−74
で反射された観察用照明光束は、集光レンズ75により
集光され、ミラー76で反射されて焦1.5、鏡771
−に・U−結像される。
焦点鏡771−に結像された観察用照明光束は、フィー
ルドレンズ78、リレーレンズ79およびミラー80を
介してITV撮像面81ヒに結像され、該ITV撮像面
81上でパターン23の観察が可能となる。
つぎに、細長いレーザースポット24の向きを第1図の
位置から90°回転したい場合には、スリット板40を
第1図の位置から時計方向に90°回転すればよい。こ
の回転により、スリー2トスリツト42が集光光学系3
0の上行光束中に位置し、これによってパターン23−
Lに形成される細長いレーザースポット24の向きが第
1図の位置から90’回転する・ このとき、スリット板40の回転に連動して像回転プリ
ズム53も回転する。これによって該像回転プリズム5
3は、スリット板40の回転によって回転したIB長い
レーザースポットの向きを元に戻し、前記スリット板5
6および格子スリ7)64.68.69に入射する細長
いレーザースポットの長r方向を該スリット板56のス
リットの方向および格子スリット64.68.69の各
格子の長り方向と ・致させるように成っている。スリ
、ト板40の回転と像回転プリズム53との連動は、機
械的な連動であるのみならず、電気的にそれぞれの位置
を検出して連動するように構成してもよい。
また、スリット板40のスリ、ト43が集光光学系30
の乎行光東中に位置させることにより、パターン23七
に形成される細長いレーザースポット24の向きを45
°の状TEへとさらに変更することができる。
このようにして、スリ、1・板40を回転することによ
り、パターン23」二に形成される細長いレーザースポ
ット24の向きを任意の111度に向けることができる
なお、ヒ記実施例では、スリット板40に3つのスリッ
トを設けたか、このスリフトの数は3つに限定されるも
のではない。
さらに、本発明は1−記実施例で示した微小線幅測定装
設に限られるものではなく、物体面上−に設けられた所
定のパターンを検出することによって、いわゆるアライ
メント装置にも適用できることは言うまでもない。
(発明の効果) 本発明に係るエツジ検出装置によれば、回転スリット板
を集光光学系のモ行光東中に回転可能に配置したので、
該回転スリット板の回転中心が機械的な誤差でずれても
、該回転スリット板を通過したレーザー光束の集光点は
変らず、したがって、従来のごとく回転スリシトを回転
することにより物体面りに形成される/lB長いレーザ
ースポットを回転させる際に、該細長いレーザースポッ
トの中心が移動することがなく、測定精度が向]−する
また、第1図に示した実施例の構成においては、集光光
学系30と検出光学系50とを偏光ヒームスプリ、り3
5と1/4波長板37とで合成しているため、九清の損
失が少なく効率が良く、その結果レーザー光源21の出
力を小さくすることができる。また、検出光学系には光
束径を縮小するための逆ヒームエキスバング51か配置
されているため、後続の光学素子を小さくでき装置全体
としても小型に構成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第4図は未発明の−・実施例を示しており、
第1図は−・実施例に係る微小線幅測定装着を示す概略
的な光学系の配置図、第2図は回転スリットの拡大モ面
図、第3図は第1図の光学系の・部を示した説明図、第
4図は自動焦点検出部を示す光学系の配置図、第5図は
従来の微小線幅Jlll定装置を示す概略的な光学系の
配置図である。 20・・・微小線幅測定装置(エツジ検出装置)23・
・・マスク等のパターン(物体面)24・・・細長いレ
ーザースポット 30・・・集光光学系    40・・・スリント板5
0・・・検出光学系 第3図 第4図 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザー光束で物体面を走査し、該物体面からの反射光
    を検出して物体面上のエッジを検出する装置において、
    該レーザー光束を物体面上に集光する集光光学系の平行
    光束中に、細長いレーザースポットを物体面上に形成す
    るためのスリットを有するスリット板を該集光光学系の
    光軸に垂直な面内で回転可能に配置し、かつ該細長いレ
    ーザースポットの向きを前記スリット板により回転され
    た分だけ元に戻すための像回転光学部材を、前記反射光
    を検出する検出光学系中に配置したことを特徴とするエ
    ッジ検出装置。
JP60210649A 1985-09-24 1985-09-24 エツジ検出装置 Expired - Lifetime JPH0641848B2 (ja)

Priority Applications (2)

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JP60210649A JPH0641848B2 (ja) 1985-09-24 1985-09-24 エツジ検出装置
US06/909,211 US4739158A (en) 1985-09-24 1986-09-19 Apparatus for the detection of pattern edges

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