JPS626793A - はんだペ−スト用Pb合金粉末 - Google Patents

はんだペ−スト用Pb合金粉末

Info

Publication number
JPS626793A
JPS626793A JP14597985A JP14597985A JPS626793A JP S626793 A JPS626793 A JP S626793A JP 14597985 A JP14597985 A JP 14597985A JP 14597985 A JP14597985 A JP 14597985A JP S626793 A JPS626793 A JP S626793A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
radioactive
solder
content
solder paste
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14597985A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoyuki Hosoda
細田 直之
Naoki Uchiyama
直樹 内山
Akira Hayashi
明 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Metal Corp
Original Assignee
Mitsubishi Metal Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Metal Corp filed Critical Mitsubishi Metal Corp
Priority to JP14597985A priority Critical patent/JPS626793A/ja
Publication of JPS626793A publication Critical patent/JPS626793A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、通常のトランジスタや(Cは勿論のこと、
人容最メモリー素子である64KDRAMや256 K
’D RA Mなどのメモリー、ざらに信頼性が特に要
求される各種のLSIや超LSIなどの半導体装置の組
立てに際して、構造部材の接合に用いられているはんだ
ペーストのはんだ粉末として使用するのに適したPb合
金粉末に関するものである。
〔従来の技術〕
一般に、半導体装置の1つとして、第1図に概略縦断面
図で示されるICセラミック・パッケージが知られてい
る。
このICセラミック・パッケージは、主として所定のキ
ャビティをもったセラミックケース1と、このキャビテ
ィの底部にはんだベース]−を用いてはんだ付けされた
Siチップなどの半導体素子2と、AuあるいはA2な
どの極細線からなるボンディングワイヤ3と、セラミッ
クケース1の上面に、同様にはんだペース1〜を用いて
はんだ付けされた到着板4と、セラミックケース1には
lυだ付けされたリード材5で構成されている。
このようにICセラミック・パッケージにおいては、半
導体素子のヒラミックケースのキャビティ底部へのはん
だ付け、並びに封着板のセラミックケース上面へのはん
だ付け、さらに別の構造を有するICプラスチック・パ
ッケージにおいては、半導体素子のリードフレームへの
はんだ付けに、はんだペーストが用いられている。
また、このはんだペーストは、通常、基本的には、はん
だ粉末と、塗布性を付与し、かつはんだ粉末をはんだ付
はランドにはんだ付は時まで一時的に固着させるロジン
などの樹脂成分と、塗布のだめの流動性を付L′J−J
−る溶剤からなり、必要に応じてはんだ粉末やはんだ付
はランドの表面を還元し、活性化する活性剤などを含有
する場合がある。
従来、上記はんだペーストにおけるはんだ粉末としては
、AU粉末やAu合金粉末が用いられている。
(発明が解決しようとする問題点〕 しかし、はんだ粉末としてのAL+粉末やAu合金粉末
は高価であるために、近年、これを安価なPb合金粉末
に代替する試みもなされたが、はんだ粉末としてpb合
金粉末を配合したはんだペーストを用いて半導体装置を
組立てた場合、実用に際して前記半導体装置にメモリー
エラーが発生し、信頼性の点で実用に供することができ
ないものであった。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで、本発明者等は、上述のような観点から、半導体
装置の組立て用はんだペーストのはんだ粉末として使用
するのに適し、かつ安価なはんだ粉末を開発すべく研究
を行なった結果、型口%で(以下%は重量%を示す)、 SnおよびInのうちの1種または2種=1〜65%。
を含右し、さらに必要に応じて、 Ao:1〜10%。
を含右し、残りがpbと不可避不純物からなる組成を右
し、かつ不可避不純物としての放射性同位元素(D 含
ti吊ヲ50 ppb  (i’ppb ハ10 ta
分(7) 1 )未満として、放射性α粒子のカウント
数を0.50PH(カウント/時)/cIi以下とした
Pb合金粉末は、AllおよびAu合金粉末に比して一
段と安価で、かつこれを半導体装置の組立て用はんだペ
ーストのはんだ粉末として使用した場合、良好なぬれ性
と接着強度を示し、かつメモリーエラーの発生がなく、
きわめて高い信頼性が得られるという知見を得たのであ
る。
この発明は、上記知見にもとづいてなされたものであっ
て、以下に上記Pb合金粉末の成分組成を上記の通りに
限定した理由を説明する。
(a)SnおJ:びIn これらの成分には、ぬれ性を向上させ、かつ接着強度を
高める作用があるが、その含有aが1%未満では前記作
用に所望の効果が得られず、一方65%を越えて含有さ
せても前記作用により一層の向上効果が得られず、ui
性を考慮して、その含有ωを1〜65%と定めた。
(b)A。
へ〇成分には、3nおよびつinとの共存において、さ
らに一段とぬれ性および接着強度を向上させる作用があ
るので、必要に応じて含有されるが、その含有量が1%
未満では前記作用に所望の向上効果が得られず、一方1
0%を越えて含有させてもより一層の向上効果が得られ
ず、経済性を考慮して、その含有量を1〜10%と定め
た。
(C)不可避不純物としての放射性同位元素通常の製錬
法にて!!J 31aされたPb中には、U。
Thなどの放射性同僚元素が50 ppb以上も含右し
、これは放射性α粒子のカウント数で数カラントル数1
00 CP H/ c#iに相当し、このように放射性
同位元素の含有量が高いPbを主成分とするpb合金粉
末を、半導体装置の組立て用はんだペーストに使用する
と、この放射性同位元素が原因で前記半導体装置にはメ
モリーエラーが発生するようになって信頼性のないもの
となるのであ7て、したがって、不可避不純物としての
放射性同位元素の含有σを501)l)b未満として、
放射性α粒子のカウント数を0.5CPH/cm2以下
とすることによって、前記放射性同位元素による影響を
皆無とする必要があるのである。
〔実施例〕
つぎに、この発明のはんだペースト用Pb合金粉末を実
施例により具体的に説明する。
原材料として、通常の製錬法にて製造されたpb材、並
びにこのpb材に精製処理を施して放射性同位元素の含
有mを低減せしめた高純度pb材、さらに3n材、In
材、およびAIJ材を用意し、これら原材料を所定の割
合に配合し、溶製して、それぞれ第1表に示される成分
組成をもったpb金合金し、これを通常の粉末!34法
にて250〜300 meshの範囲内の平均粒径を有
する粉末とすることによって、本発明pb合金粉末1〜
12および比較Pb合金粉末1〜12をそれぞれ¥J造
した。
ついで、この結果得られた本発明pb合金粉末1〜12
および比較Pb合金粉末1〜12をそれぞれはんだ粉末
として用い、 はんだ粉末:30%。
軟化点:約70℃のロジン二68%。
アニリン塩酸塩:2%。
からなる配合のはんだペーストを製造し、これらのはん
だペーストを、それぞれ第1表に示されるICセラミッ
ク・パッケージにおける半導体晃子2のセラミックケー
ス1の底部へのはんだ付けに用い、はんだ付は部の放射
性α粒子のカウント数を測定すると共に、これをICに
組立て、実機に装着してメモリーエラーの有無を測定し
た。これらの結果を第1表に合せて示した。
〔発明の効果〕
第1表に示される結果から明らかなように、はんだ粉末
として本発明pb合金粉末1〜12を用いた場合には、
いずれも放射性同位元素の8@ム1が50 ppb未満
なので、放射性α粒子のカラン1へ数も0.5CPH/
cm2以下となっており、はんだ粉末が原因のメモリー
エラーの発生は全く見られなかったのに対して、いずれ
も放射性同位元素の含有量がこの発明の上限値を越えて
高い比較Pb合金粉末1〜12をはんだ粉末として用い
た場合には、放射性α粒子のカウント数が0.5CP 
I−1/ ciを越えて高くなり、メモリーエラーの発
生が見られるものであった。
なお、いずれのPb合金粉末においても、すぐれたぬれ
性を示し、かつ乙い接着強度を示すものであった。
上述のように、この発明のPb合金粉末は、はんだペー
ストのはんだ粉末として用いた場合に、すぐれたぬれ性
と接着強度を示し、かつ放射性α粒子のカウント数も0
.5CPH/aA以下ときわめて低いので、半導体装貿
の組立てに用いるのに適し、しかも安価である。
【図面の簡単な説明】
第1図はICセラミック・パッケージの概略断面図であ
る。 1・・・セラミックケース、  2・・・半導体素子。 3・・・ボンディングワイヤ、 4・・・封着板。 5・・・リード材。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)SnおよびInのうちの1種または2種:1〜6
    5%、 を含有し、残りがPbと不可避不純物からなる組成(以
    上重量%)を有し、かつ不可避不純物としての放射性同
    位元素の含有量を50ppb未満として、放射性α粒子
    のカウント数を0.5CPH/cm^2以下としたこと
    を特徴とする半導体装置の組立てに用いられるはんだペ
    ースト用Pb合金粉末。
  2. (2)SnおよびInのうちの1種または2種:1〜6
    5%。 を含有し、さらに、 Ag:1〜10%、 を含有し、残りがPbと不可避不純物からなる組成(以
    上重量%)を右し、かつ不可避不純物としての放射性同
    位元素の含有量を50ppb未満として、放射性α粒子
    のカウント数を0.5CPH/cm^2以下としたこと
    を特徴とする半導体装置の組立てに用いられるはんだペ
    ースト用Pb合金粉末。
JP14597985A 1985-07-03 1985-07-03 はんだペ−スト用Pb合金粉末 Pending JPS626793A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14597985A JPS626793A (ja) 1985-07-03 1985-07-03 はんだペ−スト用Pb合金粉末

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14597985A JPS626793A (ja) 1985-07-03 1985-07-03 はんだペ−スト用Pb合金粉末

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS626793A true JPS626793A (ja) 1987-01-13

Family

ID=15397390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14597985A Pending JPS626793A (ja) 1985-07-03 1985-07-03 はんだペ−スト用Pb合金粉末

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS626793A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250485A (ja) * 1987-04-04 1988-10-18 Mitsubishi Metal Corp ハンダ用メッキ液の製造方法
USRE33313E (en) * 1987-09-21 1990-08-28 Cominco Ltd. Method for making low alpha count lead
US6873837B1 (en) * 1999-02-03 2005-03-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Emergency reporting system and terminal apparatus therein

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58151037A (ja) * 1982-03-02 1983-09-08 Mitsubishi Metal Corp 半導体装置用pb合金ろう材

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58151037A (ja) * 1982-03-02 1983-09-08 Mitsubishi Metal Corp 半導体装置用pb合金ろう材

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250485A (ja) * 1987-04-04 1988-10-18 Mitsubishi Metal Corp ハンダ用メッキ液の製造方法
USRE33313E (en) * 1987-09-21 1990-08-28 Cominco Ltd. Method for making low alpha count lead
US6873837B1 (en) * 1999-02-03 2005-03-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Emergency reporting system and terminal apparatus therein

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4487638A (en) Semiconductor die-attach technique and composition therefor
US4436785A (en) Silver-filled glass
US5071619A (en) Fine gold alloy wire for bonding of a semiconductor device
US4512950A (en) Lead alloy soft solder containing radioactive particles used to make more reliable semiconductor devices
US5145803A (en) Glass sealant containing lead borate glass and fillers of mullite and cordierite
JP4130508B2 (ja) 半田接合方法及び電子装置の製造方法
CN101243546B (zh) 半导体装置及其制造方法以及基板
JP3227851B2 (ja) 低α線Pb合金はんだ材およびはんだ膜
JPS626793A (ja) はんだペ−スト用Pb合金粉末
JPS60204637A (ja) 低融点封着用組成物
US4604642A (en) Fe-Ni-Cu leadframe
JP2656236B2 (ja) 半導体装置
US4453977A (en) Low silver containing dental amalgam alloys
JPH11330678A (ja) 半田接合方法及び回路基板並びにその回路基板を用いた電子装置
JPS59125635A (ja) 半導体装置
JPS5970490A (ja) 半導体装置の製造法
JPS6159760A (ja) 半導体装置の結線用Al合金極細線
JPS61222142A (ja) Pb合金ろう材の製造に用いられる高純度Pb材
JPS6254598B2 (ja)
JPS62261161A (ja) 樹脂封止形半導体装置
JPH01321094A (ja) 半導体装置組立て用Pb合金ろう材の製造に用いられる高純度Pb材
JPH03138096A (ja) エレクトロマイグレーション防止性ろう材及び外部リードをろう付けした電子部品
JPH0717976B2 (ja) 半導体装置
JPS59119752A (ja) 半導体素子用ボンデイング金線
JP2656238B2 (ja) 半導体装置