JPS6265353A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS6265353A
JPS6265353A JP20422385A JP20422385A JPS6265353A JP S6265353 A JPS6265353 A JP S6265353A JP 20422385 A JP20422385 A JP 20422385A JP 20422385 A JP20422385 A JP 20422385A JP S6265353 A JPS6265353 A JP S6265353A
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JP
Japan
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heat
package
radiating
heat dissipation
semiconductor device
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JP20422385A
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Kazuo Shimizu
一男 清水
Shigeru Ishii
滋 石井
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49568Lead-frames or other flat leads specifically adapted to facilitate heat dissipation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に半導体集積回路の放熱
効果を向上せしめる際に利用して有効な技術に関するも
のである。
〔背景技術〕
半導体集積回路(以下においてICという)において、
半導体チップから発生する熱の放熱は極めて重要なこと
であり、このため種々の工夫がなされている。
第11図及び第12図は、本出願人らが検討したICI
から発生する熱の放熱を示す斜視図である。先ず第11
図について放熱状況金述べると、ICIの四側面に設け
られた各放熱板2はそれぞれ下方に折曲げられ、プリン
ト基板3に形成された放熱用パターン4に半田付は等に
よシ接続されている。なお、パッケージ5の側面に設け
られた多数の外部接続ビン6は、プリント基板3の背面
に形成された回路パターン(図示せず)にそれぞれ接続
されている。
上記構成によると、ICチップ(図示せず)から発生し
た熱は、タブと一体に形成された上記放熱板2を介して
放熱パターン4に伝導し、空気中に放熱される。従って
、放熱効果を高めるためには、上記放熱板2、ならびに
放熱パターン4は大きい方がよい。しかし、放熱板2は
、本願出願人Kかかる実開昭53−56767号公報に
示す如きリードフレーム構造からなっているので、放熱
板2を大きくすると外部接続ピン6の数が限定されるこ
とになり、ICの集積度が低下する一因になる。また、
プリント基板3の上面には、抵抗等の回路部品がマウン
トされるので、回路パターン4の形状、大きさともに制
約があり、放熱効果にも限界がある。
第12図に示す構造は、放熱板2に柱状の放熱部材71
!−接続したものである。この場合、放熱部材7の高さ
を大にすれば、放熱面積が大になシ、放熱効果が向上す
る。しかし、各種電子機器への実装を考えると、放熱部
材7の高さを大にした場合、筺体に組込める枚数が低減
するので、実装密度が低下する。
一方、ICIは極めて多目的に使用されるものでろって
、通信衛星、原子力発電所内の制御機器、ロボット等に
使用される場合もあシ、ICIにはα線、β線、γ線等
の放射組が照射されるが、これらの放射線が照射される
と、ICI内のトランジスタの電流増幅率hfe等が変
動することが本発明者らの検討であきらかとなった。
特に、ICIが通信衛星に使用された場合全想定すると
、真空中の場合は空気中への放熱ができないのであるか
ら、熱を吸収するにたる容量を有する放熱部材が必要で
ある。しかし、放熱用回路パターンは銅箔などのうすい
ものであシ、しかも上記制約を有することから、通信衛
星への使用が困難になる。
更に、上記構造では、ICと放熱部材との着脱が半田付
け、半田付けの取外し等のため面倒であることも判明し
た。
本発明者等の検討によると、上記放熱板の構造では、放
熱効果につき上述の如き問題点を有しているうえに、上
記放射線についてはまったく無防備であることが判明し
た。
そこで本発明者等は、上記問題点を解決すべく技術的検
討を重ね、本発明を提案するに至りた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、放熱効果を向上し得るとともに、耐放
射線特性の良好な半導体装置を提供することKある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかKなるであろう
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に述べれば、下記のとおりである。
すなわち、半導体集積回路の外周側面から突出し丸飲熱
板の先端部を、パッケージの上側面又は下側面と面一構
造となし、上記パッケージの上側面又は下側面に放熱部
材を密着せしめた状態で放熱板にて固定し、放熱効果を
向上せしめると同時に放熱部材の選択によシ耐放射線特
性を良好にする、という本発明の目的を達成するもので
ある。
〔実施例−1〕 以下、第1図〜第4図を参照して本発明を適用した半導
体装置の第1実施例を説明する。なお・第1図はICの
外形を示す斜視図、第2図はICに放熱板に放熱用部材
を取付けた状態を示す側面図、第3図は放熱板を取付け
た状態の平面図、第4図は放熱状況を示す断面図を示す
ものである。
本実施例の特徴は、ICE設けられ丸飲熱板の先端部分
をICの一側面(上側面)と面一となし、ICの上側面
に密着した状態で放熱用部材を固定したことにある。
ICI 1の外周囲の四側面には、バクケージ12から
放熱板(あるいは放熱フィン)13が突出している。各
放熱板13は、パッケージ12の西側面からバクケージ
12の上側面に平行に突出し、一旦上方に折シ曲けられ
、更に上側面と面一になるように折り曲げられているに
の折り曲げ形状は、第2図及び第4図に示されている。
なお、14はICI 1の外部接続ビンを示すものであ
る。
上記ICI 1のプリント基板15へのマウントは、第
2図に示すように各外部接続ピン14をプリント基板1
5に開孔された挿通孔(図示せず)に挿通し、回路パタ
ーン(図示せず)K半田付けすることによって行われる
ここで注目すべきは、放熱板13と放熱部材18との関
係である。
すなわち、第2図〜第4図に示すように、放熱板13と
放熱部材18とは、取付はネジ19によって固定される
。放熱部材18の厚さは数n以上であってよく、その材
質は放射線を遮断し得る鉛板等であってよい。
そして、各放熱板13の各先端部とパッケージ12の上
側面とは面一になされているので、IC11と放熱部材
18とは重ね合せられることになる。この結果、プリン
ト基板15の下側面と放熱部材18の上側面との間、言
い換えれば全体の高さhはICIIの厚さと放熱部材1
8の厚さとで決定されることになり、上記第12図につ
いて述べた場合に比較し、実装密度を向上させることが
できる。
また、工C11の使用時においては、第4図に示すIC
チップ21から熱が発生するが、その熱は矢印人に示す
ようパッケージ12内を上方ニ伝達すると同時に、その
先端が放熱板13となるタブ吊りリード22を介して矢
印Bで示すように伝達する。タブ吊りリード22による
熱の伝達は、第3図に示すように4方向において行われ
る。
なお、第3図においては、図示の便宜のため放熱部材1
8.取付はネジ19等全仮想線で示し、ICテップ21
.タブ吊りリード22等を点線で示し、ICI 1と放
熱部材18との関連を示す。
第4図に示すようK、パッケージ12の上側面と放熱部
材18の下側面との間には、シリコングリース23が介
在している。シリコングリース23は、熱伝導の良好な
溶剤であって、乾燥により両者を同着するものである。
このシリコングリース23を介在せしめることによシ、
矢印A方向に放熱する熱は、パッケージ12.シリコン
グリース23を介して放熱部材18に効率よく吸収され
る。
上記放電構造によれば、工C11に比較して放電部材1
8が大であるため、ICチップ21から発生した熱の吸
収、ついで表面からの放熱が極めて良好に行われる。ま
た、放電部材18はネジ止めであるから、ICI nプ
リント基板15から外づすことなしに、簡単に着脱する
ことができる。
ところで、ICI 1は既述のように通信衛星において
使用されることがある。通信衛星内が真空である場合、
放熱部材18の表面からの放熱を期待することはできな
い。この場合、放熱部材18の形状を更に大にすること
により、ICチップ21から発生した熱を放熱部材18
自体に吸収することができる。
更に、上記通信衛星内はもとより、原子力発電所内等に
おいて放射線が照射されることがある。
この場合、第2図及び第4図の少なくとも上方から照射
される放射線は、放熱部材18によって遮断されること
になる。従って、ICI 1の放射線に起因する特性変
化が低減され、安定した回路動作を行うことができる。
〔実施例−2〕 次に、第5図〜第7図を参照して本発明の第2実施例を
説明する。なお、第5図はデュアルインライン型ICの
外形を示す斜視図であり、第6図は上記ICと放熱部材
との取付状況を示す側面図。
第7図は放熱部材の取付は状態の平面図である。
本実施例の特徴は、デュアルインライン型ICに設けた
放熱板の先端部をパッケージの上面と面一に形成したこ
とにある。
31はデュアルインライン型ICであり、パッケージ3
2の長手方向の両端部には、2個の放熱板33が設けら
れている。なお、34fi外部接続ピンを示すものであ
る。
上記2個の放熱板33は、それぞれパッケージ32の側
面から突出し、一旦パッケージ32の上方に折り曲げら
れ、更に上側面と面一になるように折り曲げられている
。上記折り曲げ形状は、第6図に示されている。
そして、IC31のプリント基板35への取付けは、第
6図に示すように各外部接続ピン34をプリント基板3
5に開孔された挿通孔(図示せず)に挿通し、回路パタ
ーン(図示せず)に半田付けすることKよって行われる
放熱板33の上方には、IC31と重ね合せるようにし
て鉛板で形成された放熱部材36がネジ37によりて固
定される。そして、パッケージ32の上側面と放熱部材
36の下側面との間にはシリコングリース38が介在し
、パッケージ32から放熱部材36への熱伝導を容易な
らしめている。
第7図に示すICチップ39から発生した熱は、上記第
1実施例で述べ庚ように矢印A方向、B方向に伝達する
が、このうちA方向に伝達する熱は上記のようにシリコ
ングリース38を介して効率よく放熱部材36に伝達さ
れる。
一方、B方向に伝達する熱は、第7図に示すようにタブ
吊りリードを伝達し、その先端部である放熱板33を介
して放熱部材36に吸収される。
そして、矢印A、 B方向から放熱部材36に吸収され
た熱は、放熱部材36の嚢内から空気中に放熱される。
ところで、上述の如き真空中では、ICチップ39から
発生した熱は、放熱部材36に吸収される。そして、空
気中への放熱が低減する分、放熱部材36を大にすれば
、ICテップ39の放熱を効率よく行うことができる。
〔実施例−3〕 次に、第8図及び第9図を参照して本発明の第3実施例
を説明する。なお、第8図はICのプリント基板への取
付は状況を示す側面図、第9図は平面図である。
本実施例の特徴は、上記第1及びM2実施例の如く形成
された放熱板をプリント基板に固定し、プリント基板を
放熱部材として利用したことにおる。
第8図に示すように、IC41のパッケージ42の2側
面に放熱板43が形成されている。放熱板43は、パッ
ケージ42の下方に一旦折シ曲げられ、更にパッケージ
42の下側面と面一になるようKFrり曲げられている
。そして、放熱板43は、取付ネジ44によってプリン
ト基板45に直接固定されている。なお、46は外部接
続端子であり、プリント基板45に開孔された挿通孔(
図示せず)K挿通され、回路パターン(図示せず)に半
田付けされている。
そして、パッケージ42の下側面とプリント基板45と
の間にはシリコングリース47が介在し、ICチップ(
図示せず)から発生した熱を放熱板43を介してプリン
ト基板45に吸収せしめるとともに、シリコングリース
47を介してプリント基板45に吸収させる。
本実施例によれば、上述した矢印入方向に伝達する熱は
、パッケージ42の上側面等から空気中に放熱される。
そして、放熱板43の上記構造によれば、プリント基板
45が放熱部材としての機能を有するようになるので、
上記各実施例で述べた鉛板を用い友放熱部材は不要にな
る。
従って、IC41’iプリント基板45に取付けた場合
の高さhは、第8図に示すようにIC41の高さKはぼ
一致することになり、上記第1及び第2実施例に比較し
て高さhi小にすることができる。
また・放熱部材が不要になることから、IC41の外周
囲に近接して高さ制限のない空間ができることになシ、
第9図に示すようにIC41の近傍に抵抗等の回路部品
がマウントできるようになる。
従って本実施例に示す放熱板構造では、設計の自由度が
向上するうえに電子機器への実装密度を著しく向上させ
ることができる。
ところで、ICのパッケージは多種類に及ぶものであり
、レジンモールドに比較してセラミックパッケージは熱
伝導率が高いものである。従って、セラきツクパッケー
ジを用い九工Cで、特に発熱量が少ない場合は、上記放
熱板を特に設けなくてもよい場合がある。以下の実施例
は、セラミックパッケージを用いたICの放熱構造を示
すものである。
〔実施例−4〕 次K、第10図金診照して本発明の第4実施例金説明す
る。
なお、第10図はセラミックパッケージを用いたICの
放熱構造を示す要部の断面図である。
第10図に示すIC51の一般にキャップと呼ばれる上
パッケージ52aと一般にベースと呼ばれる下パッケー
ジ52bとは、セラミックにて形成されている。53F
iI Cチップであり、ICチップ53上に形成された
タブ(図示せず)と外部接続ビン54とはワイヤボンデ
ィングされている。
ICチップ53は、下パッケージ52b上の所定位置に
固着され、その下部には通気孔55が開孔されている、 そして、下パッケージ52bの下側面とプリント基板5
6の上側面との間にはシリコングリース57が介在し、
ICチップ52から発生した熱をプリント基板561C
吸収せしめるようになされている。
上記構成によれば、特に放熱板を用いることなく、セラ
ミックパッケージの特質全利用してICチップ52から
発生する熱全放熱させることができる。
〔効果〕
(1)  半導体集積回路に設けた放熱板を上記半導体
集積回路のパッケージの上側面又は下側面と面一に形成
し、この放熱板と上記パッケージの上側面又は下側面と
金利用して放熱部材を固定することにより、半導体集積
回路の放熱効果を向上させる、という効果が得られる。
(2)上記(1)に示す放熱部材を鉛板にて構成するこ
とにより、半導体集積回路を照射する放射線を低減する
ことができるので、多量の放射線が照射される環境であ
っても半導体集積回路の特性変化全低減し得る、という
効果が得られる。
(3)上記(1)により、放熱部材とパッケージとの接
触面積が大になり、両者の間にシリコングリース全介在
せしめることにより、パッケージを介して半導体集積回
路の放熱を効率よく行うことができる、という効果が得
られる。
(4)上記(1)により、平板状の放熱部材を用いるこ
とができるので、実装時の高さを低減することができ、
電子機器に組込む際の実装密度を高めることができる、
という効果が得られる。
(5)上記(1)により、プリント基板全体を放熱部材
として利用できるので、特に放熱部材を用いることなく
半導体集積回路の放熱を効率的に行ない得る、という効
果が得られる。
以上に、本発明者等によってなされた発明を実施例にも
とづき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
例えば、第1実施例では4個の放熱板が示されているが
、2個に削減し外部接続端子数を増すようにしてもよい
また、第2実施例に示す放熱板の形成位置は、長手方向
の端部に限定されず、他の側面に形成してもよい。
更に、第4実施例に示す如きセラミックパッケージを用
いたICでろワても、上記各実施例に示tような放熱板
全形成してもよい。
〔利用分野〕
以上の説明では、主として本発明者等によってなされた
発明をその背景となった利用分野である半導体集積回路
の放熱に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、例えば低熱抵抗プラスチックパッ
ケージの半導体装置に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用した半導体装置の第1実施例を示
すICの斜視図、 第2図は上記ICへの放熱部材、プリント基板への取付
状態全示す側面図、 第3図は上記ICに放熱部材を取付けた状態の平面図、 第4図は放熱状況を示す要部の断面図、第5図は本発明
の第2実施例を示すデエアルインライン型ICの斜視図
、 第6図は上記ICと放熱部材との取付は状況を示す側面
図、 第7図は放熱部材の取付は状況を示す平面図、第8図は
本発明の第3実施例を示すICのプリント基板への取付
は状況を説明する側面図、第9図は上記取付は状況を示
す平面図、第10図は本発明の第4実施例を示すセラミ
ックパッケージ?用いたICの要部断面図、第11図は
本発明に先立って検討されたICの放熱の一例を示す斜
視図、 第12図は本発明に先立って検討されたICの放熱の他
の例を示す斜視図を示すものである。 11.31,41.51・・・半導体集積回路、18.
36・・・放熱部材、13,33,43・・・放熱板、
21,39.52・・・ICチップ、12,32゜42
.52a、52b・・・パッケージ、19,37゜44
・・・取付はネジ、14,34,46,54・・・外部
接続ビン、15,35,45,56・・・プリント基板
、23.38,47.57・・・シリコングリース。 第  1  図 第  2  図 第  3  図 第  4  図 第  5  図 J)4 第  6  図 第   7  図 第  9  図 第1O¥A 、タノ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(1)半導体装置のパッケージ外側面に設けられ、
    その先端部が上記パッケージの他の外側面の平面部に対
    し面一に形成された放熱板と、 (2)上記放熱板と、この放熱板と面一になるパッケー
    ジの上記他の外側面とに接触するように固定され、上記
    半導体装置の放熱を行う放熱部材と、をそれぞれ具備し
    、上記半導体装置から発生する熱を上記放熱板及びパッ
    ケージを介して放熱部材に伝達し、放熱効果を向上せし
    めることを特徴とする半導体装置。 2、上記放熱部材が鉛板にて構成されていることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、上記放熱部材が上記半導体装置が実装されるプリン
    ト基板であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の半導体装置。
JP20422385A 1985-09-18 1985-09-18 半導体装置 Pending JPS6265353A (ja)

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