JPS626300B2 - - Google Patents
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- JPS626300B2 JPS626300B2 JP53147927A JP14792778A JPS626300B2 JP S626300 B2 JPS626300 B2 JP S626300B2 JP 53147927 A JP53147927 A JP 53147927A JP 14792778 A JP14792778 A JP 14792778A JP S626300 B2 JPS626300 B2 JP S626300B2
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- JP
- Japan
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- electron beam
- sample
- deflection
- objective lens
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- Prior art date
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- Expired
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 29
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/295—Electron or ion diffraction tubes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子顕微鏡の観察視野移動装置、特に
電気的な手段による電子顕微鏡の観察視野移動装
置に関する。
電気的な手段による電子顕微鏡の観察視野移動装
置に関する。
観察を目的とする視野を螢光板の中心に出すた
めには通常、機械的に試料を動かす試料微動装置
が用いられる。例えば、観察倍率が50万倍の場
合、通常直径100mm程度の螢光板の端から中央ま
で50mm視野を動かすとき、試料としては1μm動
かすだけでよい。しかし、機械的な試料微動装置
ではガタ等が必らずあり、このような微少量を精
度良く動かすことは極めて困難である。
めには通常、機械的に試料を動かす試料微動装置
が用いられる。例えば、観察倍率が50万倍の場
合、通常直径100mm程度の螢光板の端から中央ま
で50mm視野を動かすとき、試料としては1μm動
かすだけでよい。しかし、機械的な試料微動装置
ではガタ等が必らずあり、このような微少量を精
度良く動かすことは極めて困難である。
他方、機械的に試料を動かさずに、第1図に示
したような電子線偏向手段による視野移動装置も
ある。第1図において、対物レンズ3の下に光軸
1に沿つてx方向y方向の2つの偏向コイル6か
らなる1段の偏向手段が設けられており、これに
基準電圧源8で制御された電流が偏向コイル電源
7よりそれぞれ供給される。このような構成で光
軸1を通る電子線をθだけ偏向することで透過電
子線像5をΔxだけ移動させることができる。
したような電子線偏向手段による視野移動装置も
ある。第1図において、対物レンズ3の下に光軸
1に沿つてx方向y方向の2つの偏向コイル6か
らなる1段の偏向手段が設けられており、これに
基準電圧源8で制御された電流が偏向コイル電源
7よりそれぞれ供給される。このような構成で光
軸1を通る電子線をθだけ偏向することで透過電
子線像5をΔxだけ移動させることができる。
電子線偏向手段を使えば、移動量が電気的に制
御できるので、ガタあるいはバツクラツシユ等の
影響のない精度の良い観察視野の移動ができる。
しかし、この場合には、第1図に示したように対
物レンズ3の後焦点Fが、見かけ上F′に移動し
てしまう。これは、電子顕微鏡で試料2の回折像
を見たとき、回折像もまた移動してしまうことを
意味する。電子顕微鏡で試料2を観察する場合に
試料の透過電子線像とその回折像とを交互に対比
することが、頻繁に行われ、回折像が動いてしま
つては、電子顕微鏡の機能の半分が失われるとい
つても過言ではない。
御できるので、ガタあるいはバツクラツシユ等の
影響のない精度の良い観察視野の移動ができる。
しかし、この場合には、第1図に示したように対
物レンズ3の後焦点Fが、見かけ上F′に移動し
てしまう。これは、電子顕微鏡で試料2の回折像
を見たとき、回折像もまた移動してしまうことを
意味する。電子顕微鏡で試料2を観察する場合に
試料の透過電子線像とその回折像とを交互に対比
することが、頻繁に行われ、回折像が動いてしま
つては、電子顕微鏡の機能の半分が失われるとい
つても過言ではない。
回折像を固定し、透過電子線像だけを移動する
には、偏向手段を対物レンズ3の後焦点F面内に
設ければ良いが、通常後焦点Fは、対物レンズポ
ールピース内にあるので、この位置に偏向手段を
設けることは機械的に実際上困難である。
には、偏向手段を対物レンズ3の後焦点F面内に
設ければ良いが、通常後焦点Fは、対物レンズポ
ールピース内にあるので、この位置に偏向手段を
設けることは機械的に実際上困難である。
本発明の目的は、上記困難を克服しつつ試料の
回折像を移動させずに透過電子線像だけを精度よ
く移動することができ、かつ視野選択時の明るさ
の逃げを防止することができる電子顕微鏡の観察
視野移動装置を提供するにある。
回折像を移動させずに透過電子線像だけを精度よ
く移動することができ、かつ視野選択時の明るさ
の逃げを防止することができる電子顕微鏡の観察
視野移動装置を提供するにある。
第2図は本発明の一実施例である。同図におい
て、試料2の透過電子線像5は対物レンズ3によ
りその像面に形成される。対物レンズ3の下方に
は、それぞれx方向、y方向の偏向コイルからな
る第1偏向手段6と第2偏向手段7が設けられ、
各偏向コイルには、基準電圧源9で制御された電
流が偏向電源8から供給される。このような構成
で透過電子像を移動する場合、まず第1偏向手段
6で角度θ1だけ電子線を偏向し、つぎに第2偏
向手段7で角度θ2だけ振戻す。いま、対物レン
ズ3の後焦点Fと第1偏向手段6の距離をl1、第
1偏向手段6と第2偏向手段7との距離をl2とし
たとき、 θ1/θ2=l1+l2/l1 (1) の関係を満たすようにθ1,θ2を決めると、電
子線の偏向支点は、見かけ上、対物レンズの後焦
点Fと一致する。Fでの偏向角θ3は θ3=θ1−θ2 (2) であり、透過電子線像の移動量Δxは、 Δx=Lθ3=L・l2/l1+l2θ1 (3) となる。
て、試料2の透過電子線像5は対物レンズ3によ
りその像面に形成される。対物レンズ3の下方に
は、それぞれx方向、y方向の偏向コイルからな
る第1偏向手段6と第2偏向手段7が設けられ、
各偏向コイルには、基準電圧源9で制御された電
流が偏向電源8から供給される。このような構成
で透過電子像を移動する場合、まず第1偏向手段
6で角度θ1だけ電子線を偏向し、つぎに第2偏
向手段7で角度θ2だけ振戻す。いま、対物レン
ズ3の後焦点Fと第1偏向手段6の距離をl1、第
1偏向手段6と第2偏向手段7との距離をl2とし
たとき、 θ1/θ2=l1+l2/l1 (1) の関係を満たすようにθ1,θ2を決めると、電
子線の偏向支点は、見かけ上、対物レンズの後焦
点Fと一致する。Fでの偏向角θ3は θ3=θ1−θ2 (2) であり、透過電子線像の移動量Δxは、 Δx=Lθ3=L・l2/l1+l2θ1 (3) となる。
このようにして、見かけ上の偏向支点を対物レ
ンズの後焦点Fに一致させると、視野をΔxだけ
移動しても、回折像(対物レンズの後焦点Fの
像)が移動することはない。
ンズの後焦点Fに一致させると、視野をΔxだけ
移動しても、回折像(対物レンズの後焦点Fの
像)が移動することはない。
一般に偏向角θは、コイルの電流iとターン数
nに比例するので、コイルに窓面積を一定とした
とき第1および第2の偏向手段の偏向コイルのタ
ーン数n1,n2を n1/n2=l1+l2/l1 (4) を満足するよう決めれば、第1、第2の偏向手段
の偏向コイルを直列に接続して、任意のコイル電
流に対して式(1)を満たすことができる。
nに比例するので、コイルに窓面積を一定とした
とき第1および第2の偏向手段の偏向コイルのタ
ーン数n1,n2を n1/n2=l1+l2/l1 (4) を満足するよう決めれば、第1、第2の偏向手段
の偏向コイルを直列に接続して、任意のコイル電
流に対して式(1)を満たすことができる。
このように本実施例によれば、視野の移動量Δ
xが電気的に調整できるので、その移動を精度良
く行うことができ、しかも回折像が逃げることも
ない。もちろん、第1および第2の偏向手段6お
よび7は対物レンズ3の後焦点面および像面間に
配置されるのであるから、対物レンズ3の後焦点
距離が短い場合でも第1および第2の偏向手段6
および7の配置上の困難さは特に生じない。
xが電気的に調整できるので、その移動を精度良
く行うことができ、しかも回折像が逃げることも
ない。もちろん、第1および第2の偏向手段6お
よび7は対物レンズ3の後焦点面および像面間に
配置されるのであるから、対物レンズ3の後焦点
距離が短い場合でも第1および第2の偏向手段6
および7の配置上の困難さは特に生じない。
なお、偏向手段としては、偏向コイルに限る訳
ではなく、例えば、偏向電極を用いても、同一の
効果を生じさせることができる。
ではなく、例えば、偏向電極を用いても、同一の
効果を生じさせることができる。
第3図は本発明のもう一つのポイントを説明す
るための観察視野移動装置の他の実施例である。
同図においては、第2図で述べた実施例と同じ
く、対物レンズ3により試料2の像が対物レンズ
3の像面に結像され、この像は2段の偏向手段
6,7により電子線を第2図の場合と同じく対物
レンズ3の後焦点Fが偏向支点となるように偏向
することによつて移動させることができる。しか
し、試料2を照射する電子線のビーム径を、像の
移動量より小さくした場合を考えてみると、試料
2の透過電子線は4aに示した光路を通り像面の
中心から大きくそれてしまい、ついには像面上に
は明るさが全く現れなくなることも考えられる。
すなわち、一般に試料を照射する電子線のビーム
径は倍率が非常に高い場合は数ミクロン程度に小
さいから、このような場合像の移動量をあまり大
きくすると試料の電子線照射部以外の部分が視野
選択されることになつて像面上には像が現れなく
なり、したがつて像面上から明るさが消えてしま
う(いわゆる明るさの逃げである)。
るための観察視野移動装置の他の実施例である。
同図においては、第2図で述べた実施例と同じ
く、対物レンズ3により試料2の像が対物レンズ
3の像面に結像され、この像は2段の偏向手段
6,7により電子線を第2図の場合と同じく対物
レンズ3の後焦点Fが偏向支点となるように偏向
することによつて移動させることができる。しか
し、試料2を照射する電子線のビーム径を、像の
移動量より小さくした場合を考えてみると、試料
2の透過電子線は4aに示した光路を通り像面の
中心から大きくそれてしまい、ついには像面上に
は明るさが全く現れなくなることも考えられる。
すなわち、一般に試料を照射する電子線のビーム
径は倍率が非常に高い場合は数ミクロン程度に小
さいから、このような場合像の移動量をあまり大
きくすると試料の電子線照射部以外の部分が視野
選択されることになつて像面上には像が現れなく
なり、したがつて像面上から明るさが消えてしま
う(いわゆる明るさの逃げである)。
このような欠点を除くために、第3図の実施例
では、偏向コイル10とそのための偏向電源8b
および基準電圧源9bが設けられている。即ち、
第1偏向手段6、第2偏向手段7の2段で偏向さ
れた透過電子線の移動量と明るさの逃げ量とは当
然のことながら一致するので、基準電圧源9aに
連動して基準電圧源9bを制御することにより視
野の移動量θに比例するように偏向手段10によ
る電子線の偏向量を調整すれば電子線は4bの
光路を通り明るさは常に像面の中心にある。
では、偏向コイル10とそのための偏向電源8b
および基準電圧源9bが設けられている。即ち、
第1偏向手段6、第2偏向手段7の2段で偏向さ
れた透過電子線の移動量と明るさの逃げ量とは当
然のことながら一致するので、基準電圧源9aに
連動して基準電圧源9bを制御することにより視
野の移動量θに比例するように偏向手段10によ
る電子線の偏向量を調整すれば電子線は4bの
光路を通り明るさは常に像面の中心にある。
このように、基準電圧源9aに連動させて、基
準電圧源9bを変化されば、像面の中心に常に明
るさを固定できる訳であるが、偏向手段10とし
ては、従来の透過形電子顕微鏡に常に設けられて
いる明るさ移動用の偏向手段を用いればよい。
準電圧源9bを変化されば、像面の中心に常に明
るさを固定できる訳であるが、偏向手段10とし
ては、従来の透過形電子顕微鏡に常に設けられて
いる明るさ移動用の偏向手段を用いればよい。
以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば偏向手段の配置上の困難さを克服しつつ試料の
回折像を移動させずに透過電子線像だけを精度よ
く移動することができるとともに、視野選択時の
明るさの逃げを防止することができる。
ば偏向手段の配置上の困難さを克服しつつ試料の
回折像を移動させずに透過電子線像だけを精度よ
く移動することができるとともに、視野選択時の
明るさの逃げを防止することができる。
第1図は従来の電子顕微鏡の観察視野移動装置
の概念図、第2図は本発明の一つのポイントを説
明するための一実施例を示す電子顕微鏡の観察視
野移動装置の概念図、第3図は本発明のもう一つ
のポイントを説明するための一実施例を示す電子
顕微鏡の観察視野移動装置の概念図である。 2……試料、3……対物レンズ、5……透過電
子線像、6,7,10……偏向手段、8……偏向
電源、9……基準電圧源。
の概念図、第2図は本発明の一つのポイントを説
明するための一実施例を示す電子顕微鏡の観察視
野移動装置の概念図、第3図は本発明のもう一つ
のポイントを説明するための一実施例を示す電子
顕微鏡の観察視野移動装置の概念図である。 2……試料、3……対物レンズ、5……透過電
子線像、6,7,10……偏向手段、8……偏向
電源、9……基準電圧源。
Claims (1)
- 1 対物レンズの像面に形成される試料の透過電
子線像を移動させるように上記試料の透過電子線
を偏向する手段と、上記試料を照射する電子線を
偏向する手段とを備え、上記試料透過電子線偏向
手段は偏向支点が上記対物レンズの後焦点と実質
的に一致した状態で上記透過電子線を偏向させる
ように上記対物レンズの後焦点と前記対物レンズ
の像面との間に配置された少なくとも2段の電子
線偏向器からなり、上記試料の照射電子線偏向手
段は前記透過電子線の偏向に比例して上記試料照
射電子線を偏向するように上記試料透過電子線偏
向手段と連動していることを特徴とする電子顕微
鏡の観察視野移動装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14792778A JPS5576560A (en) | 1978-12-01 | 1978-12-01 | Observation field moving device for electron microscope |
US06/098,664 US4283627A (en) | 1978-12-01 | 1979-11-29 | Electron microscope |
GB7941496A GB2039139B (en) | 1978-12-01 | 1979-11-30 | Transmissions electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14792778A JPS5576560A (en) | 1978-12-01 | 1978-12-01 | Observation field moving device for electron microscope |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5576560A JPS5576560A (en) | 1980-06-09 |
JPS626300B2 true JPS626300B2 (ja) | 1987-02-10 |
Family
ID=15441220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14792778A Granted JPS5576560A (en) | 1978-12-01 | 1978-12-01 | Observation field moving device for electron microscope |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4283627A (ja) |
JP (1) | JPS5576560A (ja) |
GB (1) | GB2039139B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59157942A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-07 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
JPS6014739A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-25 | Jeol Ltd | 電子線回折装置 |
JPS614142A (ja) * | 1984-06-16 | 1986-01-10 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
JPH0537398Y2 (ja) * | 1984-12-05 | 1993-09-21 | ||
JPS61168852A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-30 | Hitachi Ltd | 透過形電子顕微鏡の焦点合せ装置 |
DE3825103A1 (de) * | 1988-07-23 | 1990-01-25 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zum beleuchten eines objektes in einem transmissions-elektronenmikroskop |
FR2672061B1 (fr) * | 1991-01-28 | 1993-10-15 | Metaleurop Sa | Procede d'obtention d'une poudre fine de cadmium dendritique et poudre obtenue par le procede. |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4833903B1 (ja) * | 1969-04-08 | 1973-10-17 | ||
NL7604553A (nl) * | 1975-08-28 | 1977-03-02 | Siemens Ag | Met corpusculaire stralen werkende doorstraal- rastermicroscoop met energie-analysator. |
-
1978
- 1978-12-01 JP JP14792778A patent/JPS5576560A/ja active Granted
-
1979
- 1979-11-29 US US06/098,664 patent/US4283627A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-11-30 GB GB7941496A patent/GB2039139B/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5576560A (en) | 1980-06-09 |
GB2039139B (en) | 1983-04-13 |
US4283627A (en) | 1981-08-11 |
GB2039139A (en) | 1980-07-30 |
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