JPS6261925B2 - - Google Patents
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- JPS6261925B2 JPS6261925B2 JP57145978A JP14597882A JPS6261925B2 JP S6261925 B2 JPS6261925 B2 JP S6261925B2 JP 57145978 A JP57145978 A JP 57145978A JP 14597882 A JP14597882 A JP 14597882A JP S6261925 B2 JPS6261925 B2 JP S6261925B2
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- Japan
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- lens
- slit
- reflecting means
- imaging optical
- optical device
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/522—Projection optics
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/522—Projection optics
- G03B27/525—Projection optics for slit exposure
- G03B27/528—Projection optics for slit exposure in which the projection optics remain stationary
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
- Lenses (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
この発明は、複写機等においてスリツト露光に
より面走査を行う結像光学装置に係り、特にダハ
ミラーレンズアレイを用いた結像光学装置に関す
る。
より面走査を行う結像光学装置に係り、特にダハ
ミラーレンズアレイを用いた結像光学装置に関す
る。
発明の技術的背景
第１図に示す様に、複写のレンズ列１０とこの
背後に設けた波状の反射面１１との組合せから成
るダハミラーレンズアレイは知られている。これ
は、例えば、第２図に示す様に、光源２０の光を
原稿面２１で反射し、これを更に反射手段２２で
ダハミラーレンズ系２３の方向へ偏向し、感光ド
ラム２４上に潜像を形成する複写機に用いること
ができる。
背後に設けた波状の反射面１１との組合せから成
るダハミラーレンズアレイは知られている。これ
は、例えば、第２図に示す様に、光源２０の光を
原稿面２１で反射し、これを更に反射手段２２で
ダハミラーレンズ系２３の方向へ偏向し、感光ド
ラム２４上に潜像を形成する複写機に用いること
ができる。
この際、露光はスリツト２５を介して行なわれ
る。このスリツト２５のスリツト幅及びダハミラ
ーレンズに対するスリツト位置は、露光の際の光
量及び光量ムラを左右する重要な要素である。し
かし、未だこの点について充分な検討はなされて
いない。
る。このスリツト２５のスリツト幅及びダハミラ
ーレンズに対するスリツト位置は、露光の際の光
量及び光量ムラを左右する重要な要素である。し
かし、未だこの点について充分な検討はなされて
いない。
発明の目的及び概要
この発明は、以上の実情に基づいて成されたも
のであり、光量ムラがなく充分な光量を供給する
ことのできる結像光学装置を提供することを目的
とする。
のであり、光量ムラがなく充分な光量を供給する
ことのできる結像光学装置を提供することを目的
とする。
この目的を達成するため、この発明によれば、
マイクロダハミラーレンズと、対象像を前記レン
ズ方向に偏向する第１の反射手段と、前記レンズ
の反射光を更に前記対象とは異なる方向に偏向す
る第２の反射手段とを具えて面走査露光を行うに
際し、合成積分光量分布ＬTy、スリツト露光にお
ける明るさムラΔＬTを、 ΔＬT＝ＬＴｎａｘ−ＬＴｎｉｏ／ＬＴｎａｘ ただし、Ｖiをｉ番目のレンズの光量分布、ｐ
をレンズの配列ピツチ、ｘをレンズ列垂直方向の
位置、ｃを定数、ｉをレンズ番号、ｙをレンズ列
方向位置、ｚを対象物の位置、ＬTnaxをＬTyの最
大値、ＬTnioをＬTyの最小値として、前記ＬTyを
最大にし且つ前記ΔＬTを最小にする様にスリツ
ト位置（x1，x2）及びスリツト幅1 2を設定した
スリツトを有する様にする。
マイクロダハミラーレンズと、対象像を前記レン
ズ方向に偏向する第１の反射手段と、前記レンズ
の反射光を更に前記対象とは異なる方向に偏向す
る第２の反射手段とを具えて面走査露光を行うに
際し、合成積分光量分布ＬTy、スリツト露光にお
ける明るさムラΔＬTを、 ΔＬT＝ＬＴｎａｘ−ＬＴｎｉｏ／ＬＴｎａｘ ただし、Ｖiをｉ番目のレンズの光量分布、ｐ
をレンズの配列ピツチ、ｘをレンズ列垂直方向の
位置、ｃを定数、ｉをレンズ番号、ｙをレンズ列
方向位置、ｚを対象物の位置、ＬTnaxをＬTyの最
大値、ＬTnioをＬTyの最小値として、前記ＬTyを
最大にし且つ前記ΔＬTを最小にする様にスリツ
ト位置（x1，x2）及びスリツト幅1 2を設定した
スリツトを有する様にする。
発明の実施例
具体的な実施例を説明する前に原理的考察を行
う。
う。
先づ、ダハミラーレンズ中のｉ番目のレンズに
関する特定の走査線Ｑ（ａ，ｙ）における光量分
布Ｉiyは、 Ｉiy＝cViycos4θiy… (1) ただし、Ｖiyは走査線Ｑ（ａ，ｙ）での開口効
率、θiyはｉ番目のレンズの走査線Ｑに対する半
画角、ｃは規格化定数として与えられる。これを
各スリツト幅ｓについて図示すれば第３図に示す
様である。
関する特定の走査線Ｑ（ａ，ｙ）における光量分
布Ｉiyは、 Ｉiy＝cViycos4θiy… (1) ただし、Ｖiyは走査線Ｑ（ａ，ｙ）での開口効
率、θiyはｉ番目のレンズの走査線Ｑに対する半
画角、ｃは規格化定数として与えられる。これを
各スリツト幅ｓについて図示すれば第３図に示す
様である。
また、この場合の合成光量分布ＩTyは、
であり、これを図示すれば第４図に示す様であ
る。
る。
ここで、第４図からも明らかな様に、スリツト
幅ｓが大きくなるに従つて明るさが減少し、また
明るさムラはｓ≒3.0mm付近で最小となり、その
前後で周期的に生ずる明るさムラの反転現象（位
相が180゜ずれた状態）が生じている。このた
め、この反転現象を利用すれば特定のスリツト幅
内で明るさムラを除去できる可能性があることが
分かる。
幅ｓが大きくなるに従つて明るさが減少し、また
明るさムラはｓ≒3.0mm付近で最小となり、その
前後で周期的に生ずる明るさムラの反転現象（位
相が180゜ずれた状態）が生じている。このた
め、この反転現象を利用すれば特定のスリツト幅
内で明るさムラを除去できる可能性があることが
分かる。
次に、この点を検討する。
以上は特定の走査線に関しての検討であるか
ら、面走査についての光量分布ＬTyは、 で与えられる。ただし、ｐはレンズの配列ピツ
チ、ｙはレンズの列方向位置、ｘをレンズ列垂直
方向の位置、ｚは対象物の位置である。
ら、面走査についての光量分布ＬTyは、 で与えられる。ただし、ｐはレンズの配列ピツ
チ、ｙはレンズの列方向位置、ｘをレンズ列垂直
方向の位置、ｚは対象物の位置である。
また、明るさムラΔＬTは、ＬTyの最大値と最
小値をそれぞれＬTnax，ＬTnioとして、 ΔＬT＝ＬＴｎａｘ−ＬＴｎｉｏ／ＬＴｎａｘ×100（
％）…(4) で表わされる。
小値をそれぞれＬTnax，ＬTnioとして、 ΔＬT＝ＬＴｎａｘ−ＬＴｎｉｏ／ＬＴｎａｘ×100（
％）…(4) で表わされる。
(1) ここで、第２図で示した様な装置は、光軸付
近の光束は使用できないので先づスリツトの一
方端を有効画面端とした場合のスリツト幅ｓと
明るさ及び明るさムラの関係について調べる。
このため、第５図で示す様なダハミラーレンズ
系２３において、x2をx1からx0に変化させた場
合のスリツト幅ｓに対する明るさ及び明るさム
ラの変化を求める。
近の光束は使用できないので先づスリツトの一
方端を有効画面端とした場合のスリツト幅ｓと
明るさ及び明るさムラの関係について調べる。
このため、第５図で示す様なダハミラーレンズ
系２３において、x2をx1からx0に変化させた場
合のスリツト幅ｓに対する明るさ及び明るさム
ラの変化を求める。
この結果は第６図に示す様である。同図から
分かる様に、光軸片側の全画面を有効スリツト
とした場合（図中s1に対応）明るさムラは4.2
％であり、また光軸が2.0〜2.5mmをスリツト幅
の他端とした場合に明るさムラが最小となる。
この場合のスリツト幅は7.8〜8.0mmである。
分かる様に、光軸片側の全画面を有効スリツト
とした場合（図中s1に対応）明るさムラは4.2
％であり、また光軸が2.0〜2.5mmをスリツト幅
の他端とした場合に明るさムラが最小となる。
この場合のスリツト幅は7.8〜8.0mmである。
従つて、光量的には全画面を有効スリツトと
するのがよいが、インミラータイプの光路構成
においてはスリツト幅の制限を受ける。第２図
に示した様な現実の装置では、スリツト高さ２
mm以下の領域は使用できない。このため、現実
的には次の様な配慮が必要となる。
するのがよいが、インミラータイプの光路構成
においてはスリツト幅の制限を受ける。第２図
に示した様な現実の装置では、スリツト高さ２
mm以下の領域は使用できない。このため、現実
的には次の様な配慮が必要となる。
(2) スリツト高さ２mmの位置をスリツトの一方端
とした場合 すなわち、第７図でx2をx1からx3に変化させ
た場合のスリツト幅ｓに対する明るさ及び明る
さムラの変化を求める。
とした場合 すなわち、第７図でx2をx1からx3に変化させ
た場合のスリツト幅ｓに対する明るさ及び明る
さムラの変化を求める。
この結果は第８図に示す様である。同図によ
れば、スリツト幅ｓが１mm以上であれば有効ス
リツト限界幅までの任意のスリツト幅ｓに対し
て明るさムラは５％以内となつていることが分
かる。実際には、明るさムラが５％以下であれ
ば、画像処理の実用上問題はない。従つて、こ
の５％を目標にスリツトを形成すればよいこと
となる。
れば、スリツト幅ｓが１mm以上であれば有効ス
リツト限界幅までの任意のスリツト幅ｓに対し
て明るさムラは５％以内となつていることが分
かる。実際には、明るさムラが５％以下であれ
ば、画像処理の実用上問題はない。従つて、こ
の５％を目標にスリツトを形成すればよいこと
となる。
(3) 以上の考慮から、この発明によれば、例えば
第９図に示す様に結像光学装置を構成すればよ
い。
第９図に示す様に結像光学装置を構成すればよ
い。
すなわち、直径Ｒ＝15mmの蛍光灯光源９０で
原稿面９１を照射し、原稿面９１の対象像を原
稿面とはl1＝31.0mm離れた露光面９２に結像さ
せる場合、結像光学装置は次の様に構成する。
原稿面９１を照射し、原稿面９１の対象像を原
稿面とはl1＝31.0mm離れた露光面９２に結像さ
せる場合、結像光学装置は次の様に構成する。
前述(3)式及び(4)式を考慮した(2)項の考察か
ら、例えば有効スリツト幅ｓ＝５mm、x1＝2.0
mm、x2＝7.0mmと設定すれば、第８図で示す最
適条件に満たされる。
ら、例えば有効スリツト幅ｓ＝５mm、x1＝2.0
mm、x2＝7.0mmと設定すれば、第８図で示す最
適条件に満たされる。
このため、原稿面下l2＝7.5mmの位置に上面を
有し、高さl3＝16.0mm、長さl4＝38.3mmのハウジ
ング９３内に、マイクロダハミラーレンズ９５
と、原稿面９１の対象像をこのレンズ９５方向
に偏向する第１の反射面９４ａ及びレンズ９５
の反射光を更に前記対象とは異なる方向に偏光
する第２の反射面９４ｂを有する反射手段９４
とを設置する。
有し、高さl3＝16.0mm、長さl4＝38.3mmのハウジ
ング９３内に、マイクロダハミラーレンズ９５
と、原稿面９１の対象像をこのレンズ９５方向
に偏向する第１の反射面９４ａ及びレンズ９５
の反射光を更に前記対象とは異なる方向に偏光
する第２の反射面９４ｂを有する反射手段９４
とを設置する。
この際、マイクロダハミラーレンズ９５につ
いてのパラメータは一義的に定まるから、ハウ
ジング９３のスリツト開口部９３ａ，９３ｂの
幅及びダハミラーレンズ９５に対する反射手段
９４の位置あるいは反射面９４ａ，９４ｂの角
度を調整し、図示のｓ，x1，x2が所期の値とな
るようにする。尚、同図中ａは走査線位置であ
りａ＝2.8mmとした。
いてのパラメータは一義的に定まるから、ハウ
ジング９３のスリツト開口部９３ａ，９３ｂの
幅及びダハミラーレンズ９５に対する反射手段
９４の位置あるいは反射面９４ａ，９４ｂの角
度を調整し、図示のｓ，x1，x2が所期の値とな
るようにする。尚、同図中ａは走査線位置であ
りａ＝2.8mmとした。
尚、以上の実施例においてはスリツト９３ａ，
９３ｂの幅によつて有効スリツト幅ｓを決定する
一要素としたが、反射手段９４の反射面９４ａ，
９４ｂに可反射部分と非反射部分とを形成しその
有効反射面を調整することによつて最適条件を定
めるようにしてもよい。
９３ｂの幅によつて有効スリツト幅ｓを決定する
一要素としたが、反射手段９４の反射面９４ａ，
９４ｂに可反射部分と非反射部分とを形成しその
有効反射面を調整することによつて最適条件を定
めるようにしてもよい。
発明の効果
この発明は、以上の様に構成することにより、
光量ムラの少い且つ充分な光量を供給し得る結像
光学装置を提供することができる。
光量ムラの少い且つ充分な光量を供給し得る結像
光学装置を提供することができる。
第１図はダハミラーレンズを示す横断面図、第
２図はダハミラーレンズを用いた結像光学装置の
例示説明図、第３図は単一のダハミラーレンズの
各スリツト高さに対する光量分布の変化を示す
図、第４図は第３図の場合の合成光量分布図、第
５図及び第７図はこの発明の原理説明図、第６図
及び第８図はそれぞれ第５図及び第７図による原
理に基づいて得られたスリツト幅と明るさ及び明
るさムラとの関係を示す図、第９図はこの発明の
実施例の構造図である。 ９０……光源、９１……原稿面（対象物）、９
２……露光面、９３……ハウジング、９４……反
射手段、９５……マイクロダハミラーレンズ。
２図はダハミラーレンズを用いた結像光学装置の
例示説明図、第３図は単一のダハミラーレンズの
各スリツト高さに対する光量分布の変化を示す
図、第４図は第３図の場合の合成光量分布図、第
５図及び第７図はこの発明の原理説明図、第６図
及び第８図はそれぞれ第５図及び第７図による原
理に基づいて得られたスリツト幅と明るさ及び明
るさムラとの関係を示す図、第９図はこの発明の
実施例の構造図である。 ９０……光源、９１……原稿面（対象物）、９
２……露光面、９３……ハウジング、９４……反
射手段、９５……マイクロダハミラーレンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ マイクロダハミラーレンズと、対象像を前記
レンズ方向に偏向する第１の反射手段と、前記レ
ンズの反射光を更に前記対象とは異なる方向に偏
向する第２の反射手段とを具えて面走査露光を行
うに際し、合成積分光量分布ＬTy、スリト露光に
おける明るさムラΔＬTを、 ΔＬT＝ＬＴｎａｘ−ＬＴｎｉｏ／ＬＴｎａｘ ただし、Ｖiをｉ番目のレンズの光量分布、ｐ
をレンズの配列ピツチ、ｘをレンズ列垂直方向の
位置、ｃを定数、ｉをレンズ番号、ｙをレンズ列
方向位置、ｚを対象物の位置、ＬTnaxをＬTyの最
大値、ＬTnioをＬTyの最小値として、前記ＬTyを
最大にし且つ前記ΔＬTを最小にする様にスリツ
ト位置（x1，x2）及びスリツト幅1 2を設定した
スリツトを有して成る結像光学装置。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の装置において、
前記スリツトは前記レンズ及び前記第１並びに第
２の反射手段を固定収納したハウジングの開口部
であるようにして成る結像光学装置。 ３ 特許請求の範囲第１項記載の装置において、
前記スリツトは前記第１及び第２の反射手段の有
効反射面によつて設定するようにして成る結像光
学装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145978A JPS5934514A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | 結像光学装置 |
| DE19833330377 DE3330377A1 (de) | 1982-08-23 | 1983-08-23 | Optische bilderzeugungseinrichtung |
| US06/764,794 US4679902A (en) | 1982-08-23 | 1985-08-12 | Image forming optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145978A JPS5934514A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | 結像光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5934514A JPS5934514A (ja) | 1984-02-24 |
| JPS6261925B2 true JPS6261925B2 (ja) | 1987-12-24 |
Family
ID=15397364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57145978A Granted JPS5934514A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | 結像光学装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4679902A (ja) |
| JP (1) | JPS5934514A (ja) |
| DE (1) | DE3330377A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5907438A (en) * | 1996-01-30 | 1999-05-25 | Ricoh Company, Ltd. | Imaging device |
| US6177667B1 (en) * | 1997-10-03 | 2001-01-23 | Ricoh Company, Ltd. | Imaging device |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3183767A (en) * | 1961-08-30 | 1965-05-18 | Dietzgen Co Eugene | Photographic reproduction machines |
| US3584952A (en) * | 1967-11-17 | 1971-06-15 | Xerox Corp | Lens strip optical scanning system |
| GB2042758B (en) * | 1978-12-01 | 1983-05-11 | Canon Kk | Projection device comprising a bar lens |
| DE3106539C2 (de) * | 1980-02-22 | 1994-09-01 | Ricoh Kk | Rasterobjektiv |
-
1982
- 1982-08-23 JP JP57145978A patent/JPS5934514A/ja active Granted
-
1983
- 1983-08-23 DE DE19833330377 patent/DE3330377A1/de not_active Ceased
-
1985
- 1985-08-12 US US06/764,794 patent/US4679902A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4679902A (en) | 1987-07-14 |
| JPS5934514A (ja) | 1984-02-24 |
| DE3330377A1 (de) | 1984-02-23 |
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