JPS6253815A - 金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム
に関し、更に詳しくはフイルノ、表面が平坦で）】す、
かつ走行性に優れた金属薄膜面を形成できる金！Ａ薄膜
磁気記録媒体用二１随配向ポリエステルフィルムに関す
る。

従来技術 近年、高密度磁気配縁用媒体として、バインダーを用い
ず、蜂気記録層として金属薄膜を真空蒸着やスパッタリ
ングの如き真空沈着法又はメッキ法によって非磁性支持
体上く形成して、この強磁性金属を薄膜磁気記録材とし
たものが提案され°（いる。例えばＣＯの蒸着テープ（
特開昭５４−１４７０１０号公報）。

Ｃｏ−Ｃｒ合金からなる垂直磁化膜（特開昭５２　１３
４７０６号公報）等が開示されている。このような蒸着
、スパッタ又はイオンブレーティング等の薄膜形成手段
によつ′〔形成さｊる金ｒＡ薄膜は、厚みが１．５ＪＩ
Ｉｎ以下で、磁性層の厚みが３μｍ以上である塗布型記
録媒体と同等の性能が侍られる。ところで、静的特性で
ある保凪力Ｈｅ、またはヒステリシスループの角形比の
ような磁気特性は、用いられる非磁性支持体の表面状態
にあまり依存しないと考えられる。このような考えＫよ
ったものの例としては米国特許第３，７８７．３２７号
明細１１に開示されたような真空蒸着によるＣｏ　−Ｃ
ｒの多層構造の例が挙げられる。しかしながら、形成さ
れる金拠薄膜厚さが薄く、非磁性支持体の表面状態（表
面凹凸）がそのまま磁性膜の凹凸として発現し、それが
雑音の原因となることが欠点とされていた。

雑音の観点からは、非磁性支持体の表面状態が出来るだ
け平滑であることが好ましい。

一方フイルム巷取り、巻出しといったハンドリングの観
点から、フィルム表面が平滑であると、゛フィルムーフ
ィルム相互の滑り性が悪く、ブロッキング現象が発生し
、製品にはなり得す、ベースフィルム表面が粗であるこ
とが要求される。このようＫ、電磁変換特性といつ観点
からは非磁性支持体の表面が平滑であることが要求され
、ハンドリング性の観点からは粗であることが要求され
る。そこで、これら両者の二律相反する性質を同時に満
足することが必要とされる。

更に、金属薄膜磁気記録媒体としては、実際に使用され
る時の重大な間！ａＫ金属薄膜面の走行性がある。従来
の磁性体粉末を有機バインクーに混入させてペースに１
１Ｘ布してなる塗布型磁気記録媒体の場合には、バイン
ター中に滑剤を分散させて磁性面の走行性を向上させる
ことができるが、金属薄膜磁気記録媒体の場合には、こ
のような対策をとることが出来ず、走行性を安定して保
つのは非常に困難で）、す、特に高温高湿時の走行性が
劣るなどの欠点を有していた。

発明の目的 本発明は、フィルム表面が平滑であり、かつ走行性に優
れた金属薄膜を形成することができろ、金属１１！ＩＩ
Ａ磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルムを提供
することＫある。

発明の構成 本発明の目的は、本発明によれば、二軸配向ポリエステ
ルフィルムの金属薄機が形成される表面（Ａ）に直径０
．Ｏ１〜０．１μ、高さ１０〜１００Ａの小さな突起が
１　ｍ！当り１０６個以上１０’個未満の割合で、更に
好ましくは直径０．２〜２μ、高さ１０〜２００Ａの大
きな突起が１１１７当り１０’個以上１０’個以下の割
合で形成されていることを特徴とする金属薄膜磁気記録
媒体用ポリニスデルフィルムによって達成される。

本発明におい【ポリエステルとしてはポリエチレンテレ
フタレートを主たる対象とする。

ここで云うポリエチレンテレフタレートは、ポリエチレ
ンテレフタレートホモポリマー０７みならず、繰り返し
単位の数の８５９６以上がエチレンテレフタレート単位
よりなり、残りが他の成分であるような共重合ポリエチ
レンテレフタレートを含む。この他の成分は、特に限定
されないが、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ
−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート
、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレー
ト、ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート等がその代
表的なものとして挙げられる。

二軸配向ポリエステルフィルムは、上述のポリエステル
を常法により溶融押出し、二軸延伸熱固足することによ
って得られる。二軸延伸は例えば逐次二軸延伸法、四時
二細延伸法等の二ｍ延伸法で行うと良い。延伸後のフィ
ルム原さは３〜１００μｍ、更忙は５〜５０μｍである
ことが好ましい。

本発明において、二軸配向ポリエステルフィルムの表面
（Ａ）、すなわち金属薄膜が形成される表面には直径が
０．０１−０．１μで、高さがｌＯ〜１００Ａの突起と
が数多（存在し、これらの数は１貢ｉ当り１０’個以上
１０９個以下の割合にある。更に表面（Ａ）　Ｋは＠径
が０．２〜２μで、簡さ２０〜２００Ａの突起が１ｄ当
り１０３以上１０＠個未濶の割合で存在することが好ま
しい。これらの条件を満足するならば、金属薄膜磁気記
録媒体とした時のＭｆｆが地軸的に減少し、ノイズレベ
ルは格段に優れ、金属薄膜面の走行性にも優れたものと
なる。

後者の突起（大きな突起）の直径は０．５〜２ａ　＋　
４４　ＶＣｏ、５〜１．５　μ、突起の高さは５０〜２
０ＯＡ、突起の数は１ｄ当り１０’個以上１０５個以下
であり、また前者の突起（小さな突起）の直径は０．０
５〜０．１μ、高起の高さは１０〜１００Ａ、突起の数
は１１当り１０’個以上１０６個以下であることが好ま
しい。

ポリエステルフィルムの表面（Ａ）における後者σノ突
起は、ポリエステル中に不活性微粒子を含有させること
で形成できる。例えば、フィルム原料に用いるポリエス
テル中に不活ｉ化合物を添加したり、不溶性触媒残渣を
ポリエステル製造時に生成せしめたりする方法を用いて
、不活性微粒子をポリエステル中に含有させることがで
きる。

不活性化合物とは、ポリエステルに対し不溶性であり、
かつ反応しない物質が含まれる。

配合される物質として、例えばＭｇ（Ｌ　ＺｎＯ＋Ｍｇ
Ｃ０，＋　ＣａＣＯ５＋　Ｃａ５Ｏ，＋　ＢａＳＯ４，
ＡＩ、Ｏｓ＋　５ｉＯ１！Ｔｉｅ、等が挙げられ、これ
らの代表例としてシリカ、カオリン、陶土、址藻土、炭
酸カルシウム、フルミノ珪酸塩およびその水和物、テレ
フタール酸カルシウム、その他カーボンブラックＩ燐酸
カルシウム等が挙げられる。これらを用いる場合、所望
とするフィルム表面特性は、不活性化合物の粒度、添加
蓋、＃ｉ編条件等を適宜組合せることで得ることができ
る。粒度け、添加剤の粉砕および混合操作を含むこの分
野に精通した人々により行うことのできる種々の方法で
得ることができる。例えば炭酸カルシ１クムの場合は、
エチレングリコールのスラリーとして１分級装置（例え
ば巴工業社ＭＰ−６６０スーパーデカンタ−）等を用い
て分級すると得られる。テレフタール酵カルシウムの場
合は、せん断、圧縮、＃　　、掌等の荷重を加えること
にまり過当な大きさの塊状粒子を得、分級することによ
って得られる。燐酸カルシウムの場合は、市販の燐酸塩
の分散液を調製し、サンド・ミル中で分散燐酸塩を粉砕
する。分散液は粉砕操作を一回。

又はそれ以上の回数反復してスラリー中の絵加剤の粒度
な所望の粒度まで下げることにより得ることができる。

不活性化合物の添加量は、粒径分布に依存するが、通常
０．０１〜２　ｗｔ９６が艮い。好ましくは０．１〜１
　ｗｔ９６が良い。

不活性化合物の粒径分布の好ましい範囲は。

粒径（ｄ（単位・μｍ））比率が以下の式％式％ で示される範囲にあることが好ましい。

不活性触媒残渣は、例えばポリエステル製造時エステル
交換触媒とリン化合物との適当量の組合せによって形成
されろ。こび）エステル交換触媒としては１例えばカル
ンウム、マグネシウム、マンガン等の金属の化合物が挙
げられる。

ポリエステルフィルムの表面（Ａ）における前者の突起
は、未配向又は一軸方向に延伸されたフィルムに低温プ
ラズマ処理又はコロナ放電処理を施すことＫよって形成
できる。

本発明で言う低温プラズマ処理とは、低圧下のＡｒ　ｌ
　Ｎｔ　＋Ｏ＠　＋　Ｃｏｙ　＋空気、ＣＦ４などの気
体中でグロー放電を起すことにより生起される。

気体粒子が電離状態で励起活性化状態にある糸をいい、
非平衡プラズマと言われるものをさす。一般的に低温プ
ラズマを発生させる方法としては、例えば試料を入れた
真空容器を真空ポンプにより排気＋１１１！圧し、目的
とする処理効果に必要な気体例えば、Ａｒ　＋　ＯＨ等
を単独あるいは混合して真空容器内に導入して一定の真
空度（例えば０．１〜２．ＯＴｏｒｒ　）　Ｋ　Ｉ！Ｉ
！整して電気エネルギーを印加し、グロー放電を起させ
る方法が挙げられる。電気エネルギーとしては、真空容
器内に設置された電極に直流高電圧印加、交流電圧印加
などの方法があるが、　　１０　ＫＨｚ　〜２４５０　
ＭＨｚの高周波を０．５〜ｌ０ＫＷの出力で印加するの
が一般的である。

本発明の低温プラズマ処理は、酸素、窒素。

水素、−酸化炭素、二酸化炭素、アンモニア。

炭素数１〜１０の炭化水素、・＼リウム、又はアルゴン
、フッ素化合物、又はこれらの混合物の雰囲気中で行な
うことが好ましいが、これに限定されるものではない。

処理温度は、常温以上、特にポリエステルのガラス転移
温度以上が好ましい。更に好ましくは１００℃以上であ
る。この様な低温プラズマ処理を未配向又は一軸配向の
フィルムに施し、二軸配向させることＫよって、フィル
ム表面（Ａ）　Ｋ小さな突起を形成することができる。

本発明で言うコロナ放電処理とは、約１００ｗＭ９が約
３気圧の圧力を有する気体中に一対の電極を配し、両電
極間に高電圧を印加することＫより生ずるコロナに処理
物を接触せしめる様な処理方法を意味する。フィルムに
対しては、一対の電極のうち、一方を金属製のロール状
とするのが良い。一方、薄いフィルム処理する場合には
、該金属ロール電極の表面をＳ電体で被接することが望
ましい。他方のｍ極については、針状う棒状、ナイフ状
など任意のものが選ばれる。両電極間に印加する電圧は
、直流又は交流を用いろことができ４）。国電（傘間に
印加するエネルギーの大きさは、処理対象物の表面積１
ｍｍ２当り５００〜３００００ジユールの範囲が好まし
い。印加エネルギーが低すぎると処理の効果が発現せず
。

一方高すぎると小さな粒子の形状が不規則となり、好ま
しくない。

本発明におけろコロナ放電処理は、ｌ！ｌ素。

窒メダ、水素、−酸化炭素、二酸化戻累、アンモニア、
炭素数１〜１０の炭化水素、ヘリウム又はアルゴン、フ
ッ素化合物、又は、これらの混合物の雰囲気中で行なう
ことが好ましいが、これ［１１１Ａ定されるものではな
い。コロナ放電処理温度は常温以上、特にポリエステル
のガラス転移温度以上が好ましい。更に好ましくは１０
０℃以上である。この様なコロナ放電処理を未配向又は
一軸配向のフィルムに施し、二軸配向させることＫよっ
て、フィルム表面（Ａ）　Ｋ小さな突起を形成すること
ができる。換言すわば、フィルム表面（Ａ）上に後者の
突起（大きな突起）を保持しながら前者の突起（小さな
突起）を設けることができる。１　ｍｗ？当りの小さな
突起の割合が１０１個以上１０″個以下であると、金属
薄ａｍ気記録媒体としたときの雑音が地線的に炊少し、
ノイズレベルは格段に優れ、金属薄膜面の走行性にも優
れている。一方、突起の割合が１ｉ当り１０６個未満、
突起の直径が０．０１Ａ未満あるいは突起の高さがＩＯ
Ａ未満では、金ｌｘ薄膜面の走行性が劣り、金属薄膜面
に走行性不良によるきすが顕著に入り、長期間の使用に
耐えない。また、突起の割合が１　ｍｇ”当り１０″個
より多い、突起の直径が０．１Ａ以上あるいは突起の高
さが１００Ａ以上では、電磁変換特性のうち吟比が悪く
なり、ドロップアウトも増大してしまい好ましくない。

二軸配向ポリエステルフィルムの表面は。

表面粗度として見た時、ｆｋ面（Ｌ（）は表面（Ａ）よ
り粗であることが好ましい。フィルム表面に滑り性を付
与するには水或いは溶剤に滑剤を分散せしめた溶液を塗
布することができる。

このような処理により表面（Ｂ）の表面粗度が粗れてｋ
・る方が、粗れていない場合よりもフィルムの走行性、
耐摩耗性に優れている。フィルム表面（Ｂ）は、水或い
は溶剤に滑剤を分散せしめた溶液を塗布して形成する。

溶液の塗布は、従来公知のすべての方法で行うことがで
き、例えば（滑剤十高分子系バインダー＋界面活性剤）
の水系或いは溶剤系溶液を未延伸、一軸延伸又は二軸延
伸したフィルムの表面ＢＫ＊膜時或いはフィルム製膜後
に塗布乾燥することで行うことが出来る。

滑剤としてはンルビタン等の有機滑剤；テトラフルオロ
エチレン、ポリエチレン等の有機高分子滑剤：アルミナ
、カオリン、シリカ。

硫化モリブデン等の無機滑剤が挙げられる。

高分子系パインターとして、共重合ポリエチレンテレフ
タレート、ポリウレタン、ナイ１’　７　＋　）ラミン
、アクリル酸金稿塩とフィルム形成性高分子化合物、そ
の単量体またはこれらの混合物等が挙げられる。特にア
クリル酸金属塩とフィルム形成性高分子等とからなるバ
インダーが好ましい。ここで、フィルム形成性高分子化
合物とは実質的に線状の水溶性、水＃潤性ないし水分散
性の高分子化合物である。水溶性高分子化合物としては
１例えばポリビニルフルフール、水溶性メラミン樹脂、
水溶性床５に樹脂、ポリアクリルアミド。

ポリメタクリル７ミド、フェ／−ル桐脂（例えばレゾー
ル樹脂）、ポリ（Ｃ，−Ｃ，）フルキレングリコール（
例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール書ポリトリメチレ／グリコール、ポリテトラメチ
レングリコール、ポリエチレングリフール／ポリプロピ
レングリコールブロックコポリマー等）。

ポリアクリル酸ソーダ、ポリメタクリル酸ソーダ＋ｊｌ
ｓｊｈドロキシフルキルセルローズ（例えハ、Ｌ−ドロ
キシエチルセルローズ、ヒドロキシプロピルセルローズ
等）９カルボキシフルキルセルロース（例えばカルボキ
シメチルセルロース９カルボキシエチルセル１−ル等）
、ポリビニルピロリドン、水溶性アルキッド樹脂、スル
ホン慮ソーダ基含有共重合ポリエステル、ヒドロキシル
基含有ポリアクリル酸エステル（例えば、アクリル酸メ
チルとヒドロキシエチル７リレートとの共重合体）。

脂肪族モノ又はポリグリシジルエーテル（例えハ、エチ
レングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリ
コールジグリシジルエーテル等）ラポリスチレンスルホ
ン酸ソーダ。

あるいは水溶性シリコーン樹脂等をあげることができる
。これらのうち、脂肪族性水酸基を有する高分子が好ま
しく用いられる。また。

水＆！淘性ないし分散性の高分子化合物としては、ψ１
」えは塩化ビニリチン共重合体（例えば。

塩化ビニリチンと塩化ビニルとの共重合体）。

塩化ビニル共重合体（例えば塩化ビニルと塩化ビニリチ
ンとの共重合体）、アクリル酸エステル共重合体（例え
ばアクリル酸メチルとメタクリル酸メチルとの共重合体
）、酢酸ビニル共重合体（例えば酢酸ビニルとエチレン
との共重合体）、カルボキシル基含有共重合ポリエステ
ル９スルホン酸（塩）基含有共重合ポリエステル、無水
マレイン酸共重合体（例えば無水マレイン酸と塩化ビニ
ル１１ビニルとの共１合体）あるいはエポキシ樹脂等を
あげることができる。

これらの水浴性又は水膨潤性ないし水分散性高分子化合
物は、それ自体知られている３゜これらの′？、Ｌ分子
化合物を与える単量体も知られてオ６す１本発明てはこ
１１らの単量体を使用することもできる。かがるｉｔ体
とし°〔は。

例えば弐〇Ｈ，＝　Ｃ（Ｒ，）　ＣＯＯ１ｔ、　（ここ
でＲ３は水Ｘ原子又はメチル基であり、Ｒ２は−（ＣＩ
ｌ、）ｎ−Ｏｌｌであり、ｎは２又は３である）で示さ
れるヒト”ｔ　シルＭ　含有アクリルモノマー；　式Ｃ
Ｈ，＝Ｃ（Ｊ之、）Ｃ’０ＯＮ（Ｒ，）（Ｒ，）　（こ
こで爬は水素原子スはメチル基であり、　Ｒ４，ｋ、は
同一もしくは異なり水素原子又はヒドロキシメチル基で
ある）で示されるアクリルアミド糸上ツマ−例えばＮ−
ヒドロキシメチルアクリルアミド及ヒＮ、Ｎ−ジヒドロ
キシメチルアクリルアミド等；化水素残基であり、ｍは
１〜４の数である）で示されるエポキシ化合物例えはグ
リセリンジグリシジルエーテル、７リルグリシジルエー
テル及びトリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル等；スルホン酸基含有ビニル化合物例えばスチレンス
ルホン酸ソーダ又はカリ等；アクリル散又はメタクリル
酸の塩例えばアクリル酸ソータ又はメタクリル酸ソーダ
等；ビニルートリス（フルコギシアルコキシ）シラン例
えばビニル−トリス（β−メトキシエトギシ）シラン、
ｒ−ウレイドプロピルトリスエトキシシラン等などを挙
けることができろ１゜ 塗液の塗布は固形分塗布量で１０〜１００〜／　ｍ”で
あることが好ましい、ｍ血抜の乾燥、硬化は、二軸配向
フィルム製造工程における熱固定処理（ヒートセット）
と同じ条件で行うことが好ましく、核熱固定処理が乾燥
、Ｆ＆化も兼ねることが好ましい。通常１５０〜２４０
℃の温度が採用される。塗布後の乾燥。

硬化によって表面（Ｂ）に突起の高さが２００〜６００
Ａの山脈状の微小ヒダを形成せしめることが好ましい。

このヒダ形成の点からもアクリル酸金属塩とフィルム形
成性高分子化合物、その単量体またはこれらの混合物か
らなるバインターを用いることが好ましい。更にこのバ
インターは硬化反応によって硬い塗膜を形成する点でも
有利である。滑剤、バインダー等の割合は従来から知ら
れて（・る割合で良い。

発明の効果 本発明によれば、フィルム表面が平坦であり、かつ走行
性に優れた金属薄膜面を形成できる金属薄ａｍ気気記録
媒体二軸配向ポリエステルフィルムを提供できる。特に
雑音が飛Ｍ的に減少し、ノイズレベルが格段に優れ、か
つ金属薄膜面の走行性に優れた金属薄！ＡｆＩｉ気記録
媒体の製造に肩用な二軸配向ポリエステルフィルムを提
供できろ。

実施例 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。なお、例
中の＃ｒｊｔＶｊ性は下記の方法でｆ８ｊ定した。

１、　不活性物質の粒径４１１成比 島律遠心沈降式粒度分布測定装＊ＣＰ−５０を用いてス
トークス（５ｔｏｋｏｓ　）の式を用いて夫々の粒径に
相当する沈降時間を算出し、夫々の粒径の範囲に相当す
る沈降時間範囲を求め、その沈降時間範囲内での不活性
物質の重量を求めて全不活性物質重量に対する割合を％
で表わし構成比とする。

２　フィルム表面の突起高さ 高精度触針式表面粗さ測定装置 （、ＴＡＬＹＳＴＥＰ　ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ製
）を用い【、測定長０．５　ｙｖ／ｍ　において突起の
凹凸の山頂から谷底までの船離にて表わし、最大の高さ
のものから数えて７番目のものを平均的な突起高さとし
て採用した。

３、　突起数の数（＃Ｅ１度） 二軸配向ポリエステルフィルム上の、突起の直径０．２
〜２．０μの大きな突起の数は微分干渉ｍ機成にコン製
）を用い、４００倍の倍率で写真を撮影して測定し、こ
の突起の数を１ＩＩＩ２当りに換算して算出した。また
、突起の直径が０．Ｏ１〜０．１μの小さな突起の数は
走査ｍ電子顕微鏡で倍率４５０００倍で写真を撮影して
測定し、この突起の数を１１１１Ｉ１１当りに換算して
算出した。

４、　突起の直径 突起の直径０．２〜２．０μの大きな突起の直径は前項
と同様に微分干渉顕微鏡によって４００倍の倍率で写真
を撮影し、その突起の直径を算出した。また、突起の直
径が０．０１〜０．１μの小さな突起の直径は前項と同
様に走査型電子顕微価で倍率４５０００倍で写真′？、
撮影し、直径を求めた。１５、　電磁変俟特性（記録密
度特性） １０　ＫＢＰＩ記録再生時のＳ　／　Ｎ（ｄＢ　）比及
び１０　ＫＢＰＩ記録再生時の出力に対する５０ＫＢＰ
Ｉ記録再生時の出力の低下率により、高密度記録特性、
％にノイズレベルの大きさを評価した。

６、　動摩擦係数μに 第１図に示す如（，２５℃、相対湿度 ６０、Ｘで金属薄膜テープの金属面側を外径２０關φの
ｓｕｎ　２７固足棒（表面粗さ０．３８）触させ毎秒２
５ｃｓａ／ｓｅｃの速さで移動、摩擦させる。入口テン
ションＴ、が３０ｊｌとなるようテンションコントロー
ラー２を調整した時の出口テンション−（出口テンショ
ン検出機１０で検出）ｇより次式で動摩擦係″数μｋを
算出する（本発明では３０ｍ走行時の動摩擦係数をもっ
てｓｋとする）。

実施例１〜６及び比較例１〜６ 実施例１〜６．比較例１〜６のポリエステルはジメチル
テレフタレー）１００部及びエチレングリコール７０部
に触媒として酢酸亜鉛０．０２３部（０，０２０モル％
対ジメジメチルテレフタレート加え、１５０〜２４０℃
で４時間メタノールを留去しつつエステル交換反応を行
い。

次いで安定剤（燐化合物のグリコール溶液）をトリメチ
ルホスフェート換算で０．０１４部添加した。次に、重
縮合触媒として０．０４部の三酸化７ンチモンを添加し
、さもに表−ＩＫ記載した粒径および構成比を有する所
定の不活性物質を所定量添加して、１ｍＭ９以下の高真
空で４時間重縮合反応を行い固有粘度（〔η〕二〇−ク
ロｐフェノール溶媒、２５℃測定）　０．６５のポリエ
チレンテレフタレートを得た。このポリエチレンテレフ
タレートを常法に従って溶融押出しし、淳さ２１０　ｓ
ｍの未延伸フィルムを作成して、縦方向に９０℃で３．
５倍、横方向に１００℃で４．０倍、逐次二軸処伸を行
ない、更に２０５℃で３０秒間熱固定を行ない、１５１
ｍのフィルムを作成した。

尚、未延伸フィルムは低温プラズマ処理は又ハコロナ放
電処理を１２０℃でフィルム表面（４）Ｋ処理を施した
、詳細処理条件は表−１，２に記載した。

ここで、コロナ放電処理は加熱ロール上にナイフ状電極
を設置し、加熱ロールを１２０℃に保持しながら空気中
で所定の処理電力量になる様にして実施した。なお、用
いたコロナ放電処理装置は春日電機ｅｔ製ＨＦ３０１ｍ
であり１周波数１１０　ＫＨｚ　＋運転条件はフィルム
速度２０ｍ／麿である。

低温プラズマ処理としては、試料を入れた真空容器を真
空ポンプにより排気、＃圧し、０．を真空容器内に導入
して一定の真空度Ｉ　Ｔｏｒｒ　Ｋ　ｌ１１１整して電
気エネルギーを印加し、グロー放電を起させることで実
施した。電気エネルギーとしては、真空容器内Ｋｔ＆置
された電＆に、１３゜５６　ＭＨｚの高周波をＩ　Ｋｗ
の出力で１分間印加することで実施した。尚、処理時の
温度は１２０℃になる様ＶＣコントロールシタ。

更に、縦延伸の終了後１次の組成の塗液なフィルム表？
ｉｌ［１（Ｂ）に塗布した。

フィルム表面（Ｂ）　Ｋ塗布した塗液の組成二〇アクリ
ル酸アルミ（浅田化学に、に、　Ｐ−３゜２ｗｔ％Ｉｖ
ｔ・・・・・・１２ｋＩＩＯポリエチレングリコール（
日本油脂製分子ｆｉ１９，０００）２ｗｔＸ浴液・・・
・・・　５〜 ０ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（長１
１ｍ業製　ＮＥｎｏｘｅ　）２　ｗｔ９６浴液・・・・
・・２匈０ポリオキシ工チレンノニルフエニルエーテル
２ｗｔ％＃？ｌｋ・・・−・−１に！＋塗塗布線ウェッ
トで約２．２１１７−であり、固形分として約０．０１
２６＆／ｍ’である。

フィルム表面（Ａ）及び（Ｂ）の表面の特性については
表−１にまとめて示す。

このポリエステルフィルム表面に真空蒸着によりコバル
ト−ニッケル合金薄膜を１００ＯＡの膜浮で形成した。

続いて１７４′巾にフィルムの機械方向に切断し、金属
薄膜８気配縁テープとし、０．３７１のギャップ長のリ
ングヘッドを用いて９．５は／ｓｅｃのスピードで記録
再生し、電磁変換特性（テジタルの記録密度特性）を評
価した。

この結果を表−１，２に示す。

この結果から本発明の磁気記録媒体のＳ／Ｎは大きく、
かつノイズレベルは格段に小さいことが理解される。

次に走行性を動Ｊ１３！擦係数Ａｋで、摩耗性を以下の
評価法で評価した。

表−３にμに、Ｍ粍性評価結果を示すが、本発明の実施
例１〜６はいずれも走行性、金属薄膜面の摩耗性共に良
好であった。

表　−３

【図面の簡単な説明】

第１図は、動Ｊ１１擦係数を測定する装置の概略図であ
る。ロール４及びロール１０において張力Ｔ１及びＴ！
を測定し走行時のフィルムの摩擦係数を算出する。 図−１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、二軸配向ポリエステルフィルムの金属薄膜が形成さ
   れる表面（Ａ）に直径０．０１〜０．１μ、高さ１０〜
   １００Åの小さな突起が１ｍｍ＾２当り１０＾６個以上
   １０＾９個以下の割合で形成されていることを特徴とす
   る金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。 ２、二軸配向ポリエステルフィルムの金属薄膜が形成さ
   れる表面（Ａ）に直径０．２〜２μ、高さ２０〜２００
   Åの大きな突起が１ｍｍ＾２当り１０＾３個以上１０＾
   ６個未満の割合で形成されている特許請求の範囲第１項
   記載の金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。 ３、フィルム表面（Ａ）上の小さな突起は、未配向又は
   一軸配向のフィルム表面（Ａ）に低温プラズマ処理また
   はコロナ放電処理を施こしたのち二軸配向せしめること
   で設けられる特許請求の範囲第１項または第２項記載の
   金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。 ４、ポリエステルフィルムの金属薄膜が形成される表面
   （Ａ）の他の表面（Ｂ）に滑剤を分散せしめた有機高分
   子の塗膜が易滑層として形成されている特許請求の範囲
   第３項記載の金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィ
   ルム。 ５、フィルム表面（Ｂ）の塗膜に、高さ２００〜１００
   ０Åの微細な凹凸がある特許請求の範囲第４項記載の金
   属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。