JPS6250496A - 金属材料の電解処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、金属材料の表面に、裸面１食性、塗装後の
耐食性および塗料密着性に優わた皮瞭゛勺形成するだめ
の、金属材料の電解処理方法に関すらものである。

〔従来技術とその問題点〕

金属材料の防食または塗装下地のために、金属材料の表
面にシん酸塩処理またはりｏ　、ｉ・−１・（ユ理を施
すことが従来から行なわれている。しかしながら、従来
のりん酸塩処理寸たはクロメート処理によっては、金属
材料の表面に、裸耐食性、塗装後の耐食性および塗料密
着性のすべてが優れた皮膜を形成することはできなかっ
た。

例えば、通常の反応型りん酸塩処理による皮膜が形成さ
れた金属材料は、塗装後の耐食性および塗料密着性に優
れているが、形成された皮膜がりん酸と下地金属との溶
解反応によるものであるため、溶解反応の不十分な個所
に皮膜の形成されないいわゆるｐｏｒｅ部が残り、この
ために裸耐食性が劣る。

従って、このような反応型シん酸塩処理の施された金属
材料は、塗装が施されるまでの間の錆の発生を防止する
ために、通常メーカーにおいてその表面にクロメート処
理液を塗布しなければならず、しかも、このようなりロ
メート処理は、生産性上の制約から、電気亜鉛メッキ鋼
板または溶融亜鉛メッキ鋼板に限られているのが実情で
おる。

クロメート処理として、反応型クロメート処理、塗布型
クロメート処理および電解型クロメート処理が知られて
いる。しかしながら、反応型クロメート処理および塗布
型クロメート処理の施された金属材料は、裸耐食性に優
れているが、塗装後の耐食性および塗料密着性が経時的
に劣化する問題を有している。電解型クロメート処理の
施された金属材料は、塗装後の耐食性および塗料密着性
に優れているが、裸耐食性特に皮膜に疵がついた場合の
裸耐食性に劣る問題を有している。

上述した問題を解決する方法として１例えば下記のよう
な方法が知られている。

（１）　　アルカリ土類金属およびチタン属の群から選
ばれた１種または２種以上の縮合シん酸塩を主成分とす
るりん酸塩水溶液を用いて、金属材料の表面を陰極電解
処理することにより、耐食性、耐熱性、潤滑性および塗
料密着性の優れた皮膜を金属材料の表面に形成する方法
。（特公昭５２−３０９３８号） 上記方法は、りん酸塩水溶液に用いられるピロりん酸塩
、メタシん酸塩およびウルトラりん酸塩が酸性領域で加
水分解反応を起こし、電解液として不安定なため、形成
された皮膜の性能も不安定である問題を有している。ま
た、…調整のだめに、上記のりん酸塩水溶液中に、苛性
ソーダ、苛性力ＩＪ　、アンモニア、有機アミン等を添
加すると、形成された皮膜中に、Ｎａ”　、　Ｋ”　、
　ＮＨ４”　、有機アミン等が取り込まれる結果、塗料
密着性が劣化する問題を有している。

（２）　　アルミニウムイオンを含有する酸性シん酸溶
液を用いて、金属材料を化成処理または電解処理するこ
とにより、耐食性および塗装下地性の優れた皮膜を金属
材料の表面に形成する方法。（特公昭５３−６９４５号
） 上記方法は、塗装後の耐食性が十分ではない問題を有し
ている。

〔発明の目的〕

従って、この発明の目的は、金属材料の表面に、裸ｉ′
を食性、塗装後の耐食性および塗料密着性に優れた皮膜
を形成するための、金属材料の電解処理方法を提供する
ことにある。

本発明者等は、前述し、た問題を解決すべく鋭意研究を
重ねた。その結果、Ｃａ　、　Ｓｒ　、　Ｂａ　、　Ｚ
ｎ　、　Ｔｉ　。

Ｚｒ　、Ｓｎ！　ＳｂＩ　ＭｎＨＣＯｇ　ＮｉおよびＣ
ｕからなる群から選んだ少なくとも１種の０．１〜５０
　Ｐ／１１！の金属イオンと、１〜１００　！／ｌ　の
オルソりん酸とからなる処理液を用いて、金属材料の表
面を電解処理すれば、裸耐食性、塗装後の耐食性および
塗料密着性に優れた皮膜が安定Ｉ〜で得られることを知
見した。

〔発明の概要〕

この発明は、上記知見に基いてなされたものであって、
Ｃａ　、　Ｓｒ　＊　Ｂａ　、　Ｚｎ　、　Ｔｉ　、　
Ｚｒ　、　Ｓｎ　、　Ｓｂ　、　Ｍｎ　。

Ｃｏ　、　ＮｉおよびＣｕからなる群から選んだ少なく
とも１種の０．１〜５０ノ／ｌの金属イオンと、１〜ｉ
ｏ。

ｙ／ｌのオルソりん酸とからなる電解処理液を使用して
、金属材料の表面を電解処理し、次いで、必要に応じて
１００〜８００℃の温度範囲で加熱することにより、金
属材料の表面に、裸耐食性、塗装後の耐食性および塗料
密着性ｔ゛：）優れた皮膜を形成することに特徴を有す
るものである。

〔発明の構成〕

この発明において、金属材料の表面に皮膜を形成するだ
めの電解処理液Ｔ”！：　＊　ＣａＩ　Ｓｒ　、Ｂａ　
＋　Ｚｎｒ　Ｔ　ｌ　＋Ｚｒ　、　Ｓｎ　、　Ｓｂ　、
Ｍｎ　、　Ｃｏ　、　ＮｉおよびＣｕからなる群から選
んだ少なくとも１種の金属イオンを、オルソりん酸の水
溶液に添加し溶解することによって調製される。前記金
属イオンは、酸化物、炭酸塩、水酸化物等の形で添加す
るが１．または、シん酸塩、りん酸−水素塩、りん酸二
水素塩等のりん酸化合物として添加する。なお、りん酸
二水素塩の中には、例えば（’ａ　（Ｈ２ＰＯ４）　２
　、　Ｍｎ　（Ｈ２ＰＯ４）　２　、　ＡＩｊ　ＣＩ（
２ＰＯ４）　３のようにオルソりん酸を含み、水に溶解
することによって処理液を得ることができるものもある
。

前記金属イオンの濃度は、０．１〜５０１／ｌの範囲内
とすべきである。即ち、前記金属イオンの濃度がＯＡ：
７７１未満では、皮膜の電着効率が悪く従って＃ｆ食性
の優れた皮膜を形成することができず、一方、前記金属
イオンの濃度が５０１／ｌを超えても、耐食性能により
以上の向上が認められず、金属イオンを無駄に消費する
だけであり、不経済である。金属イオンの好ましい濃度
は１〜２５１／１である。

オルソりん酸の濃度は、１〜１００　ｙｙｌ　　トｆべ
きである。即ち、オルンシん酸の濃度が１　ｙ／１未満
では、処理液の電導度が低く従って電解処理を十分に行
なうことができず、一方、オルソりん酸の濃度が１００
１／１！　　を超えても、皮膜の形成性能によシ以上の
向上が認められず、オルソりん酸を無駄に消費するだけ
であり不経済である。オルソりん酸の好ましい濃度は２
〜５０　ｙ／ｌである。

電解処理液の両値は、１．５〜６であることが好ましい
。−値が１．５未満では酸濃度が高くなり過ぎるため、
電解で形成された皮膜の溶解が激しく、皮膜の形成効率
が著しく低下し、一方、…値が６を超えると、ｃｕ　、
　ｓｒ　、　Ｂａ　ｌ　ｚｎ　ｐ　’ｒｔ　、　ｚｒ　
＋　ｓｎ　ｒ　ｓｂ　＋Ｍｎ、Ｃｏ、ＮｉおよびＣｕが
イオンとして存在しなくなる。最適な両値は、２．０〜
５．０である。

−値は、Ｃｕ　＋　Ｓｒ　、　Ｂａ　＋　Ｚｎ　＋　Ｔ
ｉ　、　Ｚｒ　、　Ｓｎ　、　Ｓｂ　、　Ｍｎ　。

Ｃｏ　、　ＮｉおよびＣｕがイオンとして存在するに足
りるオルソりん酸の量によって決定されるべきであり、
必要以上にオルソりん酸を添加してはならない。

前記金属イオンとオルソりん酸との最適比率はモル比で
１　：　１．５へ・１：１０．好ましくは、１：２〜１
　：　３．５である。前記最適比率が］　：　１．５未
満では金属の溶解が不十分となり、耐食性および密着性
の優れたりん酸皮膜が得られない問題が生じ、一方、ｉ
官記最適比率がＪ：１０を超えると、金属の溶解が多く
なり、満足できるりん酸皮膜が生成されない問題が生ず
る。

寸だ、水酸化すｌ・リウム、水酸化力１ノウム、ア／モ
ニヴム水等のアルカリや、硫酸、硝酸、塩酸等の酸を添
加することによって、ＰＨ値を調整してはならない１、 この発明においては、上述した処理液を使用して、金属
材料の表Δｉを電解処理するものであるが、この電解処
理は５陰極ＦＭ処理また（づ、重畳電解処理が有効でち
る。例、ぐ−ば陰極電解処理を行なった場合には、電解
処理液中のカチオンを主成分とする正りん酸塩Ｍ　（ｎ
）３　（ＰＯ４）　２・？ｄ（２０゛またばＭ［Ｆ］Ｐ
０４・ＸＨ２Ｏの非晶質゛または非晶質に近い、　ｐｏ
ｒｅ　　のまったくない皮膜が形、成され己。

電解処理に当っでの電流密度は、ｆ）、５・“〜５０Ａ
／ｄＴＴ？であることが好ましい。電流密度が０．５　
Ａハ］〃♂未満では皮膜生成に時間がかがり過ぎて不経
済であり、一方、電流密度が５０　ｋ／ｄｔｒ？　　を
超えると水素ガスが多量に発生する結果、形成された皮
膜が、１ツーラスで且つ粗雑になり、満足する性能の皮
膜が得られない。最適な電流密度は１．０〜２０　ｋ／
ｄｄである。

電解処理時間は、電流密度、電解液の濃度および温度等
の条件によって異なるが、１〜１２０秒間で所望の皮膜
を形成することができる。

処理液の温度は、常温〜９０’Ｃの範囲内、特に常温〜
７０℃の範囲内であることが好ましい。即ち、処理液の
温度を常温未満にすると、冷却のための設備が必要とな
るため不経済であり、一方。

処理液の温度が９０℃を超えると、水の蒸発が激しく、
スケールが発生しやすくなる問題が生じ、連続操業が困
難になる。

上述の電解処理によって、金属材料の表面に形成される
皮膜の付着量は、０．０５〜ＩＯｙ／ｍ“のｇ、回内に
限定すべきである。皮膜の付着量が０　、ｆ）　５７／
７ｒ？未満では十分な裸耐食性および塗装後の耐食性が
得られず、一方、前記付着量が１０ｙ／イを超えると皮
膜の加工性が劣化するため、十分な塗料密着性が得られ
ない。最適な皮膜付着量は帆２〜２　Ｐ／ｒｒ？で、ら
ろ。

この発明においては、上述のようにして電解処理イシ、
水洗し次いで乾燥することにより、所望の皮膜を形成す
ることができるが、更に、このようにして形成された皮
膜を１００〜８００°Ｃの温度範囲で加熱すれば、より
健全な皮膜を形成することができる。加熱温度が１００
°Ｃ未満では、上記作用（′コ所望の効果が得られず、
一方、加熱温度が８００°Ｃを超えると下地金属との熱
膨張率の差によシ皮膜（（クラックが発生し、裸耐食性
が劣化する問題が生ずる。

皮膜の加熱は、電熱炉、赤外線加熱炉、熱風炉等、どの
ような手段で行なってもよい。なお、加熱に際し、ての
雰囲気は、酸化性、還元性、不活性のいずれでもよい。

なお、加熱に当りもし皮膜にｌごンホール等の欠陥があ
ると素地が酸化するおそれが生ずるので、窒素ガス、ア
ルゴンガス、窒素。

アルゴン混合ガスのような不活性雰囲気、または。

水素ガス、窒素・水素混合ガス、アルゴン・水素混合ガ
ス、窒素・アルゴン・水素混合ガス等の還元性雰囲気と
することが好ましい。

加熱時間は、皮膜形成が完全に行なわれるに足シる範囲
であればよく、１〜１２０秒、特に５〜６０秒の範囲内
であることが好゛ましい。加熱温度が高いほど加熱時間
は短くてよい。

この発明の方法は、鋼板、ステンレス鋼板等の鋼材およ
び、亜鉛メッキ鋼板、亜鉛合金メッキ鋼板、アルミメッ
キ鋼板、アルミ合金メッキ鋼板、クロムメッキ鋼板、錫
メツギ鋼板、錫合金メッキ鋼板、ニッケルメッキ鋼板、
マンガンメッキ鋼板、マンガン合金メッキ鋼板等のメッ
キ鋼板に対して施すことができ、その表面に、裸耐食性
、塗装後の耐食性および塗料密着性の優れた、下地と強
固に結合した皮膜を、極めて短時間に形成することがで
きる。特に、鋼板、亜鉛メッキ鋼板、亜鉛合金メッキ鋼
板に対する裸耐食性も・よび塗装後の耐食性の向」−効
果は著しい。なお、この発明の方法により形成された皮
膜の表面に、りん酸塩処理、クロメート処理等の公知の
後処理を施すときは、防食性能を一段と向上させること
ができる。

〔発明の実施例〕

実施例１ 厚さＱ、５Ｍ、大きさ１５０Ｘ５０鵡の　冷延鋼板の試
：倹片を、３０’ｌ／ｌのオルソ珪酸ソーダ溶液で電解
脱脂し、水洗し、次いで、２０ｙ／ｌの硫酸溶液で電解
酸洗し、水洗した。次いで、下記の条件により陰（、メ
電解処理を施し、その表面に１．１ｙ／ｒｒ？の量の皮
膜が形成された供試体を調製した。

（１１処理液の組成 炭酸カルシウム：　　５９７１ オルソりん酸　：１０ｙ／１ （１シ）処理液ｐＨ値：２．８１ （３）処理液温度：４０℃ （４）電流密度二　５Ａ／ｄｍ’ （５）電解時間：１０秒 実施例：？ 実施例１の条件により皮膜を形成した後、Ｈ２ガス７φ
１　Ｎ２ガス９３％の雰囲気中で、４００°Ｃの温度に
より６０秒間加熱し、供試体を調製した。

実施例３ 実施例１の条件により皮膜を形成した後、Ｈ２ガス７係
、Ｎ２ガス９３係の雰囲気中で、７００°Ｃの温度によ
り３０秒間加熱し２．供試体を調製した。

実施例４ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件によ多
陰極電解処理を施（７，その表面に１．５７Ｓの量の皮
膜が形成されたＦ試作を調製した。

ｔｌ）　　処理液の組成 炭酸ストロンチウム：５ｙ／１ オルソりん酸　：１０り／１ （２）処理液ｐＨ値：２゜二３６ （３）処理液温度　：４０’Ｃ （４）電流密度　二５Ａ／ｄｒイ （５）電解時間　二１０抄 実施例５ 実施例４の条件により皮膜を形成し７た後、Ｈ２ガスフ
％、Ｎ２ｆｆ、（９３ｑ６の雰囲気中で、３ｏｏ℃の温
度によ９３０秒間加熱し、供試体を調製した。

実施例６ 実施例４の条件によシ皮膜を形成した後、Ｈ２ガス７％
、Ｎ２ガス９３チの雰囲気中で、７００’Ｃの温度によ
９１０秒間加熱し、供試体を調製した。

実施例７ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件により
陰極電解処理を施し、その表面に０．７０Ｐ／ｒｒ？　
　の量の皮膜が形成された供試体を調製した。

（１）処理液の組成 炭酸亜鉛　：　　５ｙ／１ オルソりん酸：工Ｏｆ／１ （２）処理液…値：２．６３ （３）処理液温度：４０℃ （４）電流密度：　４　Ａ／ｄｔｒ？ （５）電解時間　：１０秒 実施例８ 実施例７の条件により皮膜を形成した後、Ｈ２ガス７チ
ｓ　Ｎ２ガス９３チの雰囲気中で、３００’Ｃの温度に
より６０秒間加熱し、供試体を調製した。

実施例９ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件によシ
陰極電解処理を施し、その表面に１．２ｙ／／ｒｒ？の
量の皮膜が形成された供試体を調製した。

ｍ　　処理液の組成 炭酸マンガン：１０Ｐ／１ オルソシん酸：２０１／１ （２）処理液−値：　３．３４ （３）処理液温度：４０°Ｃ （４）電流密度：２Ａ／ｄｍ’ （５）電解時間：１０秒 実施例１０ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件により
陰極電解処理を施し、その表面に１．６ｙ／ｒｒ？の量
の皮膜が形成された供試体を調製した。

（１）処理液の組成 シん酸二水素カルシウム＝１０り／ｌ オルソシん酸　　　　　：　　８９／１炭酸ストロンチ
ウム　　：　　４ｙ／１１（２）　　処理液ＰＨ値：　
２．４７ （３）処理液温度：　４０　’Ｃ （４）電流密度：　　５Ａ／ｄイ （５）電解時間＝１０秒 比較例１ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件により
陰極電解処理を施し、その表面にｏ　、ｏ　３／ｍ”の
借の皮膜が形成された供試体を調製した。

け）処理液の組成 炭酸カルシウム：　　５１７１１ オルソシん酸　：１０Ｐ／１ （２）処理液−値：　２．８１ （３）処理液温度：４０’Ｃ （４）電流密度：　　５Ａ／ｄｍ” （５）　　電解時間二〇、５秒 比較例２ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件によシ
陰極電解処理を施し、その表面に１２．５１１ｎ？の量
の皮膜が形成された供試体を調製した。

（１）処理液の組成 炭酸カルシウム：５ｙ／ｌ オルソりん酸　＝１０ｙ／１ （２）　　処理液用値：　２−８１ （３）処理液温度：４０°Ｃ （４）電流密度：３０Ａ／ｄｍ’ （５）電解時間：３０秒 比較例３ 実施例１の条件により皮膜を形成した後、Ｈ２ガス７係
、Ｎ２ガス９３チの雰囲気中で、１０００°Ｃの温度に
よ９３０秒間加熱し、供試体を調製した。

比較例４ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件によシ
陰極電解処理を施し、その表面に２．４！／ｒｒ？の量
の皮膜が形成された供試体を調製した。

ｆｌ）　　処理液の組成 ７５係りん酸　　：　３９．２Ｐ／１ 硝酸アルミニウム：　１１．３ｙ／ｌ 塩素酸ナトリウム　　：　　　１．１：Ｉ／１（２）処
理液−値：　ＮａＯＨで２．５５に調整（３）処理液温
度ニア０℃ （４）電流密度：　５Ａ／ｄｉ （５）電解時間：３０秒 比較例５ 実施例１と同様の前処理を施した後、下記の条件により
陰極電解処理を施し、次いで、Ｈ２ガス７％、Ｎ２ガス
９３％の雰囲気中で１８０　℃の温度で１０秒間加熱し
、その表面に１．１ｂ背の量の皮膜が形成された供試体
を調製した。

（１）　　処理液の組成 ビロシん酸　　　　　：　２０　ｙ／！！ピロりん酸カ
ルシウム：　２０９／１１（２）処理液−値：　ＫＯＨ
テ２．７０　Ｋ調整（３）処理液温度：　２０　’Ｃ （４）電流密度：　　２Ａ／ｄｍ’ （５）電解時間＝１０秒 比較例６ 実施例１と同じ大きさの試験片を、ＰＣＮ３６４　Ｓの
処理液（日本）ｊ−カライノング社製）で脱脂し次いで
水洗した後、Ｂｔ１３９の処理液（日本・ぞ−カライソ
ング社製）によりシん酸亜鉛処理し次いで水洗すること
によって、１．８ｙ／−の量のりん酸塩皮膜を有する供
試体を調製した。

比較例７ 実施例１と同じ大きさの試験片を、ＰＣＮ３６４Ｓの処
理液で脱脂し次いで水洗した後、　Ｂｔ１０７７の処理
液（日本パー力ライジング社製）によりシん酸鉄処理し
、次いで水洗後、Ｐｎ　６０の処理液（日本Ａ−カライ
ソング社製）でクロメート処理し、０．４９／ｒｒ？の
シん酸塩皮膜と、５．０１９／ｉのクロメート皮膜を有
する供試体を調製した。

上述のようにして調製した本発明の実施例屋１〜Ａ１０
の供試体お、よび比較例屋１〜扁７の供試体について、
裸耐食性、塗装後の耐食性および塗料密着性を、以下に
述べる性能試験によって評価し、その結果を、各供試体
の処理液の組成、電解条件、皮膜付着量および加熱条件
と共に第１表に示した。

（１）裸耐食性試験 ＪＩＳ　Ｚ　２３７１に規定された塩水噴霧試験（ＳＳ
Ｔ）を５時間実施した後の錆の発生割合によって裸耐食
性を評価した。評価基準は、次の通シである。

◎：錆が発生しなかった場合 ○：錆の発生が４係以内の場合 Δ：錆の発生が５〜９係の場合 ×：錆の発生が１０〜５０係の場合 ××：錆の発生が５１％以上の場合 （２）　　塗装後の耐食性試験 供試体の表面にメラミンアルキッド系塗料を塗装し、３
０μｍの厚さの塗膜を形成した。次いで、このようにし
て形成された塗膜に、素地に達するまでクロスカットを
入れた。このクロスカットの入った供試体に対し、ＪＩ
Ｓ　Ｚ２３７１　　に規定された塩水噴霧試験（ＳＳＴ
）を１２０時間実施した後、クロスカット部に接着テー
プを貼シ次いでこれを剥がした。そして、クロスカット
部からの塗膜の片側の平均剥離中を調べた。

（３）　　塗料密着性試験 供試体の表面にメラミンアルキッド系塗料を塗装し、３
０μｍ　の厚さの塗膜を形成した。次いで、このように
して塗膜の形成された供試体に対し、一般の塗料試験法
に基づくゴパン目試験およびゴバン目エリクセン試験を
施し、塗膜の残存割合を調べた。

第１表から明らかなように、本発明の実施何屋１〜屋１
０の供試体は、何れも、裸耐食性、塗装後の耐食性およ
び塗料密着性のすべてにおいて優れていた。

これに対して、皮膜の付着量が本発明の範囲を外れて少
い比較何屋１の供試体は裸耐食性および塗装後の耐食性
が劣り、逆に本発明の範囲を外れて多い比較例Ａ２の供
試体は塗料密着性に劣っていた。電解処理後に加熱処理
を行なっても、加熱温度がこの発明の範囲を外れて高い
比較何屋３の供試体は裸耐食性、塗装後の耐食性および
塗料密着性が全体的にやや劣っていた。

電解処理液の組成が本発明と異なるりん酸−アルミ系の
比較例Ａ４およびピロりん酸系の比較何屋５の供試体は
、何れも塗装後の耐食性および塗料密着性に劣っていた
。従来のりん酸亜鉛処理を施した比較何屋６およびりん
酸鉄処理とクロメート処理を施した比較例＆７の供試体
は、何れも裸耐食性、塗装後の耐食性および塗料密着性
に劣っていた。

〔発明の効果〕

以上述べたように、この発明によれば、金属材料の表面
に、裸耐食性、塗装後の耐食性および塗料密着性の優れ
た電解処理皮膜を形成することができる工業１優れた効
果がもたらされる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓ
   ｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、ＮｉおよびＣｕからなる群から選んだ
   少なくとも１種の０．１〜５０ｇ／ｌの金属イオンと、
   １〜１００ｇ／ｌのオルソりん酸とからなる電解処理液
   を使用して、金属材料の表面を電解処理し、その表面に
   、０．０５〜１０ｇ／ｍ＾２の量の、裸耐食性、塗装後
   の耐食性および塗料密着性の優れた皮膜を形成すること
   を特徴とする金属材料の電解処理方法。
2. （２）Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓ
   ｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、ＮｉおよびＣｕからなる群から選んだ
   少なくとも１種の０．１〜５０ｇ／ｌの金属イオンと、
   １〜１００ｇ／ｌのオルソりん酸とからなる電解処理液
   を使用して、金属材料の表面を電解処理し、次いで、１
   ００〜８００℃の温度範囲で加熱することにより、金属
   材料の表面に、０．０５〜１０ｇ／ｍ＾２の量の、裸耐
   食性、塗装後の耐食性および塗料密着性の優れた皮膜を
   形成することを特徴とする金属材料の電解処理方法。
3. （３）電解処理液のｐＨ値が１．５〜６の範囲内である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項または第（
   ２）項に記載の金属材料の電解処理方法。