JPS62500243A - 新規なイオン性フッ素化ポリマーと、その製造方法 - Google Patents

新規なイオン性フッ素化ポリマーと、その製造方法

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JPS62500243A JP60502945A JP50294585A JPS62500243A JP S62500243 A JPS62500243 A JP S62500243A JP 60502945 A JP60502945 A JP 60502945A JP 50294585 A JP50294585 A JP 50294585A JP S62500243 A JPS62500243 A JP S62500243A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/44Preparation of metal salts or ammonium salts

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 新しいイオン性フッ素化ポリマー、その調製法及びこのポリマーから形成される 電解膜本発明は新しいイオン性フッ素化ポリマーを目的とするものである。同様 にその調製法及び応用、とりわけハロゲン化アルカリ金属用電解槽に利用可能な 隔膜を作製するための応用にも関する。
これらポリマーP1は、式(I): で示される少なくとも一つの繰り返し単位及び式(II)及び/または式(■) : で示される繰り返し単位を含む巨大分子連鎖によって特徴付けられる。上記式( I)〜(III)において、−Wは2以上10未満であり、 −mとpは繰り返し単位ごとに異なってよく、0〜3の値をとり得、 −nとりは繰返し単位毎に異なっていてもよく1〜6の値を−Xはフッ素原子ま たは炭素原子10個までを含有するパーフルオロアルキル基を表わし、 一′Fは原子価結合あるいは式: %式%) 但し−X1は上記Xあるいは炭素原子10個までを含み、スルホン基及び/また はカルボキシル基1個または複数個持つパーフルオロアルキル基を表わし、−W は炭素原子12個までを含む直鎖状あるいは環状のパーフルオロ基を表わし、 −r1とr2は別々にO〜3までの値をとり得、−r3とr4は別々に0または 1の値をとり得る、で示されるパーフルオロ鎖を表わす。
本発明は、より特定すれば、式(r)で示される繰り返し単位および式(I[) および/または式(III)の繰返し単位に加えて、式(■): で示される繰り返し単位をも含むイオン性フッ素化ポリマーに関する。式(rV )において、Yは水素原子、塩素原子、フッ素原子、あるいは炭素原子10個ま でを含有するパーフルオロアルキル基またはアルコキシパーフルオロアルキル基 を表わず。
本発明は、特に該ポリマーの1当量(“’P、 E、”二交換基1モルを含むポ リマーのダラム単位で表した重量)が400〜10.000の範囲内となるよう な量の、式(I)、式(rJ )及び/または式(Tll)及び場合により式( TV)で示される繰り返し単位を含有するポリマーに関する。この1当量は20 0〜2000の範囲、より特定すれば600〜1300の範囲内にあることが好 ましい。1当量が10.000を越え、50.000もしくはそれ以上に達し得 るポリマーを調製しても本発明の範囲から逸脱することにはならない。
式(■)、式(■)、式(1)及び式(IV)の繰返し単位において、好ましい ものは、Xがフッ素原子または−CF3基を表わし、Yがフッ素原子を表わし、 mとpがOまたは1を表わし、nが2.3.4または5を表わし、かつqが2. 3.4または5を表わすものである。
本発明は、特に、式(Ia): 但し、tは2〜15の範囲内の数を表わす、で示される繰り返し単位を含み、そ れに加えて式(IIa):で示される繰り返し単位および/または式(IIIa )ニー (CF2−CF)− で示される繰り返し単位を含むポリマーに関する。上記式(IIa)、(I[I a)においては、UとVは独立に2.3または4を表わす。
本発明によれば、そしてより特定すれば、1当量を含むポリマーP1の重量に対 しては、式(IV)で示される繰り返し単位の量は、PE/100を越すことは あり得す、同様に、式(1)、で示される繰り返し単位の量はPE/294を越 すことはあり得ず、そして式(n)及び式(III)で示される繰り返し単位の 総量は1に等しいことは明白である。但し、これらの量はモル単位で表わすもの とする。
PEを1000としたとき、式(1)〜(TV)で示される繰り返し単位の各々 の量(モル単位で)は次のような範囲とすることが有利である。
−(I)Oより多く2.75以下 −(It)0以上1以下 −(III) 0以上1以下 −(■)0以上8.08以下 但し、和■+■は零にはならない。
本発明は同様に式(I)の繰り返し単位を含むポリマーの調製法にも関わる。こ の調製法は、式(Va)(場合によりこれに加えて式(Ve)の繰返し単位を含 む)〜式(Vd)で示される繰り返し単位を少なくとも一つ含むポリマーを形成 し、式(VIa)〜(VId)の基を除去し、かつ同一の繰り返し単位間(式V a、式Vat)あるいは二つの繰り返し単位間(式vb〜式V d、 )にCF 2−CF2結合を形成することを可能にする処理に該ポリマーを付すことにある 。前記各繰り返し単位は以下のような式で表わされる。
coy’ OOM ここにおいて、1)SQ、Mは前記定義通りであり、Zは01N Hあるいは− Z−Z−とじて一〇−または−N=N−を表わし、Y゛はF、CI、またはBr を表わし、Rは炭素原子を1〜5個有するアルキル基で、Sは少なくとも1で1 0を越えないことが好ましい。
式VIa〜Vldで示される繰り返し単位の除去は、様々な方法によって実施す ることができる。とりわけ、該基の性質に応じて、基VTaの場合は100℃ま で、あるいは基VIcの場合には200〜220℃まで達し得る熱処理を利用す ることができる。Zが一〇−である式Vaまたは式Valで示される繰り返し単 位を含むポリマーの特別な場合には、テロマー化可能な不飽和フッ素化化合物あ るいはハロゲン化フッ素化オレフィンの存在下でCF2基を生成する、基VIa の除去反応を行うことが有利である。
他の方法の中では、とりわけ照射が挙げられる。例えば、紫外線、X線、ガンマ 線、電子衝撃あるいは中性子衝撃による照射であり、これらは上記熱処理のよう な他の処理と併用して、あるいは単独で利用することができる。また、式Via 〜VIdで示される繰り返し単位は、四酢酸鉛のような強力な酸化剤を使用して 、あるいはさらにコルベ反応のような電気化学反応によって除去することができ る。
上に述べた、式Vla〜VIdで示される繰り返し単位の除去法は例示として示 したもので、繰り返し単位Va−Vdを式■で示される繰り返し単位に転化可能 な等価な(別の)方法を利用し、でも、本発明の範囲を逸脱するものではないこ とはいうまでもない。
明白な理由から、前述の繰り返し単位r、■及び/または■及び場合により■に 加えて、基■a、VIb、VIc及び/またはVTdの不完全な除去及び/また は該繰り返し単位の除去による二次的生成物形成の結果による繰り返し単位V  a s V a +、yb、VcSVdを含んだポリマーを調製しても、該発明 の範囲からそれ程逸脱するわけではない。
式Va〜Veで示される繰り返し単位を有するポリマーP2自身は、式■で示さ れる繰り返し単位を含み、場合によって式■で示される繰り返し単位及び/また は式■で示される繰り返し単位のような他の繰り返し単位をも加えて含有するポ リマーP3を、繰り返し単位Va〜Veのいずれかを得る目的で変質させること によって得ることができる。このためには様々な技術が利用可能である。とりわ け、過酸化水素あるいは金属の過酸化物の作用あるいはさらに(Zの内容によっ ては)ヒドラジンの作用によって繰り返し単位Vaを有するポリマーが形成でき る。同様に、CI2、PCl5、Pct、、POCl、、P[lr、+ 、PI 3rs 、5OC12を使用して、場合によっては次いでフッ素化アルカリで処 理することにより、フッ素化アシル基を有する繰り返し単位vbを形成できる。
−2−が−〇−を表わす、式Va(場合によりこれに加えて式Ve)で示される 繰り返し、単位を有するポリマーP2を得る特別な場合においては、前述の試薬 を作用させるに先だち、ポリマーP3を式■ で示される化合物または式■の化合物に対応する酸無水物と接触させることが有 利である。上記式■において、−丁は前述と同様であり、 −GはOH,F、CI、Br、 IまたはOR1但しRは1〜5個の炭素原子を 有するアルキル基である、を表わし、−W“は2〜4の範囲内の数である。
式Veで示される繰り返し単位は、前述の式■で示される化合物の自動縮合によ って得ることができる。
式■の化合物を用いたことにより、このパーフルオロ化合物はとりわけ1酸であ り得るが、本発明は同時に二酸、四酸及び1酸、二酸、四酸を含有するあらゆる 混合物に対しも適用でき、酸性基(またはハロゲン化アシル、あるいはエステル )のすべてが反応し、式Iに示される繰り返し単位を与え、あるいはまたこれら の官能基の一部のみが式Iにおける繰り返し単位を導く結果となる。後者の場合 、Tによって表わされる連鎖は遊離基、特にTの定義において明確にされている 通り、カルボキシ基を有し得る。
エーテル結合を有し得るバーフルオロアルカン二酸、とりわけ以下に純粋に例示 のためのみに示す1酸のうちの一つを使用することが有利である。
一パーフルオロプロパンニ酸 一パーフルオロブタンニ酸 −2−トリフルオロメチル−3−オキサ−パーフルオロオクタン−1,8−1酸 −2,7−ビス(トリフルオロメチル)−3,6−シオキサーバーフルオロオク タンー1.8−1酸−2,8−ビス(トリフルオロメチル)−3,7−シオキサ ーバーフルオロノナンー1,9−1酸−2,9−ビス(トリフルオロメチル)− 3,8−ジオキサ−パーフルオロデカン−1,10−1酸式■で示される化合物 あるいはこれに対応する無水物とポリマーP3との接触は、20〜1.20℃の 温度で実施できる。接触時間は使用する温度に応じて1〜24時間の範囲内であ り得る。該操作は化合物■または該化合物の溶液を用いて実施し得る。
ポリマーP3は不飽和フッ素化モノマーの公知の重合技術によって調製できる。
特に式■で示される繰り返し単位に対応するビニルエーテルを重合することがで きる。同様に、式■で示される繰り返し単位に対応するビニルエーテルも重合で きて、場合によっては、−303M基のすべてまたは一部を−COOM基に転化 できる。同様に、 SO3M基及び−C00M基を有するポリマーはそれぞれに 対応するフッ素化ビニルエーテルを共重合して形成できる。もちろん、上記すべ ての場合において、前記モノマーを、式IVで示される繰り返し単位に導くフッ 素化オレフィンと重合することができる。
これらの重合反応は今では公知の技術によって、特にクロロフルオロアルカン溶 媒中にて、過酸化物の反応開始剤の存在下で操作することによって行うことがで きる。この種の技術は例えばフランス特許第1.590.264号に記載されて いる。
本発明は同様に、ポリマーP、から完全にまたは部分的に調製され、及び/また は表面あるいは厚みの全体または一部にポリマーP1を有する膜をも目的とする ものである。言い換えれば、これらの膜の調製のためにはポリマーP、から出発 するか、ポリマーP2またはP3から出発し、形成された膜上でポリマーP2ま たはP3をポリマーP、に転化することができる。同様に、二枚のフィルムの積 層によって膜が形成できる。ただしそのうちの少なくとも一つが少なくとも製造 の最終段階ではポリマーP、を含有する。本発明による膜構造の例示として、と りわけ次のものが挙げられる。
−−面ではポリマーP、に転化されたポリマーP3から成る非対称の一層膜、但 し該ポリマーP3とPlは、とりわけ前記の面P、の反対側の面上に、式■で示 される繰り返し単位、及び式■で示される繰り返し単位を含有し得る。
−二つのポリマーP3の積層によって得られる膜。但し、このうちの一つはポリ マーP、に転化され、このポリマーの一方および/または他方が式■で示される 繰り返し単位及び/または式■で示される繰り返し単位を含有し得る。
フィルムの押し出し及び場合によっては積層による膜製造技術そのものは公知の もので、本発明の目的を構成しない。
一般的に、本発明による膜は20〜300μの厚さを有する。但し、これらの数 値は参考のために挙げたまでで、厚さは10μ〜1 mmの値を取り得て、ポリ マーP1によって構成される層の厚さは5〜50μの値を取り得る。膜は、必要 ならば、とりわけフッ素化ポリマー繊維、石綿繊維あるいは炭素繊維によって構 成され得る織布あるいは不織布の配合によって補強できる。
本発明による膜は、様々な物質、そしてより特定すれば、ハロゲン化アルカリの 水溶液用の電解槽において利用できる。
このような膜は、高い電流密度下で、しかも長い運転時間に渡って動作する際に 、改善された機械的性質を示し、その高性能性を維持し続ける。
以下の実施例により本発明を例示する。
実施例1: a) 1,1.2−トリフルオロ−1,2,2−)リクロロエタン中で、過酸化 ビス(パーフルオロプロピオニル)の存在下にて、フランス特許! 1,590 .264号で規定された条件の下で以下の物質をターポリマー化する。
−テトラフルオロエチレン 9.5モル−フッ素化パーフルオロ−3,6−シオ キサー4−メチル−7−オクテン−スルホニル(CF2=CFOCF2CF(C F、)OCF2CF2SO2F) 0.2モル−パーフルオロ−6−オキサーア ーオクテンー酸メチル(CF2=CFOCF2CF、CF2CF2C00CH3 )0.8モル得られたポリマーを厚さ250μのフィルムに成形する。
ATR(減衰全反射)法により−3O□F (1460cm−’ )と−COO CH3(1780cm ’)のピークの高さを測定する。
b) フィルムを120g / I NaOH/ 40%CH,OH溶液中で、 90℃にて16時間加水分解する。膜を水洗して、真空中50℃で16時間乾燥 させる。膜を80℃で10時間5OCI2に浸す(−COONa基は−COCI 基に転化され、このことはATR法< 1810cm−’の特性ピーク)によっ て確認される)。
C) 膜をポリテトラフルオロエチレンの反応容器中に置き、膜の一面を1時間 、−15℃において、過酸化すトリウム0.42gおよび水20gを含むエタノ ール溶液と接触させる。膜を反応容器から取り出し、冷水で洗浄し、温度を徐々 に40℃まで上げ、窒素雰囲気下で2時間、40℃で膜を保つ。残留するCOC l基及びC0OH基をC00C83基に転化するためにMCIを含むメタノール 中に膜を浸す。ΔTR分析はC00CH,基のピークの著しい減少を示す。
d) 8時間に亘り、90℃のNaO8120g/l−CH30H40%溶液中 で膜を加水分解する。膜断面の顕微鏡観察によりポリマーP、を含む層が約25 μの厚さであることが示される。
e) 上記2511の層を構成するポリマーは、P E 1100であり、以下 のような、謀り返し単位の配分を示す(単位はモル)ニー謀り返し単位■(ここ においてTは原子価結合を表わし、w=2、Q=4、p = 0である) 0. 04モ/L/−謀り返し単位■ 0.2モル −繰り返し7単位111 O,72モル−〜 繰り返し単位TV 7.41モル f) 処理された面が陰極を向くように膜を電解槽にとりつけ°C1以下のよう な条件で塩化ナトリウムの電気分解を行うニー 膜内の電流通過断面積重〇、5 dm2− チタン製基板から構成され、貴金属を主成分とする被膜を有する陽極 −陰極:多孔性のニッケル板 −電極間距離:3mm −陽極電解液:塩化ナトリウムの飽和水溶液が供給され、その陽極電解液中での 濃度は200g / 12に保たれる− 陰極電解液:水の添加によって濃度が 450g / IIに保たれる苛性ソーダ水溶液 −電流密度: 30A / 6m2 − 陽極室及び陰極室内の温度二85℃結果 −通電時間=24時間 720時間 −電流効率=96% 96% −電圧 : 3.5V 3.5V 90℃にて、45重量%の水酸化すl−IJウム溶液に膜を8時間浸した後に、 上記条件で再び行われた電解実験中、膜のいかなる分解も、性能のいかなる低下 も観察されない。
実施例2 a) 1.1.2−1−リフルオロ−1,2,2−トリクロロエタン中で、過酸 化ビス(パーフルオロプロピオニル)の存在下で、フランス特許第1.590. 264号に規定された条件下で、以下の物質をターポリマー化する。
−テトラフルオロエチレン 6.47モルー フッ素化パーフルオロ−3,6− シオキサー4−メチル−7−オクテン−スルホニル(CF2=CFOCF2CF (CF、)OCF2CF2SO2F) Q、2モル−パーフルオロ−6−オキサ ーアーオクテンー酸メチル(CF2=CFOCF2CF、CF2CF2C00C H,)0.8モル得られたポリマーを厚さ250μのフィルムに成形する。
ATR(減衰全反射)法により−3O2F (1460cm−’ )及び−CO OCH3(17gOcm ’ )のピークの高さを測定する。
b) 120g/ANa01(/40%CH30H溶液中でフィルムを90℃で 16時間加水分解する。膜を水洗し、真空中50℃で16時間乾燥させる。この 膜を80℃の5OCI2中に10時間浸す(−COONa基が−GOCI基に転 化され、このことはATR法(1810cm−’に特性ピーク)によりm認され る)。
C) 前記のフィルムを80℃のバーフルオロブタンニ酸二塩化物に10時間浸 す。
d) 膜の表面を乾燥させた後、この膜をポリテトラフルオロエチレンの反応容 器に置き、過酸化ナトリウA0.42gおよび水20gのメタノール溶液に膜の 一面を一15℃で1時間接触させる。反応容器から膜を取り出した後、冷水で洗 浄し、温度を徐々に40℃まで上げ、窒素雰囲気下で、膜を40℃に2時間保つ 。残留するCOCl基及びC0OH基をCOOCH3基に転化するために膜をH CIを含むメタノールに浸す。ΔTR分析はCOOCH3基のピークの著しい低 下を示す。
e) 膜を120g / (l NaOH−40%CH30H水溶液(体積比) 中、90℃で8時間加水分解する。膜断面の顕微鏡観察は、ポリマーP、を含む 層の厚さが約20μであることを示す。
「) 上記厚さ20μの層を構成するポリマーは、PE(1モルの交換基を含む ポリマーのダラム単位で表わした重量)ioo。
であり、以下のような繰り返し単位の配分を示す(単位はモル)ニ ー 繰り返し単位■(ここでTは−fcF2−hを表わし、w=2、p=oそし てq=4である) 0.04モル−繰り返し単位■0.2モル −繰り返し単位III 0.72モル −繰り返し単位IV 6.47モル g) 膜を、処理された表面が陰極を向くように電解槽内にとりつけて、以下の ような条件で塩化ナトリウムの電気分解を行う。
−膜内の電流通過断面積: 0.5dm2− チタン製基板から構成され、貴金 属を主成分とする被膜を有する陽極 −陰極:多孔性のニッケル板 −電極間距離:3mm −陽極電解液:塩化ナトリウム飽和水溶液が供給され、その陽極電解液中での濃 度は200g / j2に保たれる− 陰極電解液:水の添加によって濃度が4 50g / lに保たれる水酸化ナトリウム水溶液 −電流密度: 30A / 6m2 − 陽極室及び陰極室内の温度=85℃結果ニ ー 通電時間:24時間 720時間 −電流効率:95% 95% −電圧 : 3.45V 3.45V 45重量%の水酸化すl−IJウム溶液に膜を90℃で8時間浸した後、再び上 記の条件下で行われた電解実験中、膜のいかなる分解も、性能のいかなる低下も 観察されない。
実施例3 a) 1.1.2−1−リフルオロ−1,2,2−トリクロロエタン中で、過酸 化ビス(パーフルオロプロピオニル)の存在下で、フランス特許第1.590. 264号に規定された条件下で以下の物質をターポリマー化する。
−テトラフルオロエチレン 6.47モルー フッ素化パーフルオロ−3,6− シオキサー4−メチルー7−オクテン−スルホニル(CF2=CFOCF2CF (CF3)OCF2CF2SO,F) 0.2モル−パーフルオロ−6−オキサ −7−オクテン酸メチル(CF2=CFOCF2CF2CF2CF2COOCH 3)0.8モル得られたポリマーを厚さ250μのフィルムに成形する。
ATR<減衰全反射)法により−3O□F (1460cm−’)及び−C00 CH3(1780c++r’ )のピークの高さを測定する。
b) 120g/ANaOH/40%CH30H溶液中でフィルムを90℃で1 6時間加水分解する。膜を水洗し、真空中50℃で16時間乾燥させる。この膜 を80℃の5OC12中に10時間浸す。
(−COONa基が−COCI基に添加され、このことはATR法(]、810 cm−’に特性ピーク)により確認される)。
C) 前記のフィルムを80℃のパーフルオロブタン酸二塩化物に10時間浸す 。
d) 膜の表面を乾繰させた後、この膜をポリテトラフルオロエチレンの反応容 器に置き、過酸化ナトリウム0.42gおよび水20gのメタノール溶液に膜の 一面を−15℃で1時間接触させる。反応容器から膜を取り出した後、冷水で洗 浄し、温度を徐々に40℃まで上げ、窒素雰囲気下で、膜を40℃に2時間保つ 。残留するCOCl基及びCOOH基をCOOC83基に転化するために、膜を HCIを含むメタノールに浸す。ATR分析はC00C83基のピークの著しい 低下を示す。
e) 膜をNaOH120g/(1−CH−OH4,0%水溶液(体積比)中9 0℃で8時間加水分解する。膜断面の顕微鏡観察は、ポリマーP、を含む層の厚 さが約20μであることを示す。
「) 上記厚さ20μの層を構成するポリマーは、PE (1モルの交換基を含 むポリマーのグラム単位で表わした重量)1000であり、以下のような繰り返 し単位の配分を示す(単位はモル)ニ ー 繰り返し単位I O,04モル を表わし、p=0かつq=4である。
−繰り返し単位■ 0.2モル −繰り返し単位I O,72モル −繰り返し単位■6゜47モル g) この膜を、処理した面が陰極と対向するように電解槽にとりつけて、以下 のような条件下で塩化すl−IJウムの電解を行う: −膜内の電流通過断面積: 0.56m2−〜 チタン製基板から構成され、貴 金属を主成分とする被膜を有する陽極 −陰極:多孔性のニッケル板 −電極間距離:3mm −陽極電解液:塩化すl−IJウムの飽和水溶液が供給され、その陽極電解液中 では濃度は200g / I2に保たれる− 陰極電解液:水の添加によって、 濃度が450g / (lに保たれる水酸化す) IJウム水溶液 −電流密度:30A/dm2 − 陽極室及び陰極室内の温度=85℃結果 −通電時間:24時間 720時間 −電流効率:95% 95% −電圧 : 3.45V’ 3.45V45重量%の水酸化すI−IJウム溶液 に膜を90℃で8時間浸した後、上記条件下で再び行われた電解実験中、膜のい かなる分解も、性能のいかなる低下も観察されない。
国際調査報告 ANNEX To Tkzt INTERNAT:0NAL 5EARCHRE PORT (A4

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.式(I): ▲数式、化学式、表等があります▼(I)で示される少なくとも一つの繰り返し 単位及び式(II)及び/または式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学式、表等があります▼ (III)但し、上記式(I)〜(III)において、−wは2以上10未満で あり −m及びpは繰り返し単位ごとに異なってもよく0〜3の値をとり得、 −n及びqは繰り返し単位ごとに異なってもよく、1〜6の値をとり得、 −Mは水素原子または一価陽イオンであり、−Xはフッ素原子または炭素原子を 10個まで含むパーフルオロアルキル基であり、 −Tは原子価結合あるいは式: −(CFX1O)r3−(CF2CFX1O)r1−W−−(OCFX1CF2 )r2−(OCFX1)r4−但し、ここで −Xlは上記Xまたは炭素原子10個まで有しスルホン酸基及び/またはカルボ キシル基を1個または複数個有するパーフルオロアルキル基であり、−Wは炭素 原子12個までを含む直鎖状あるいは環状のパーフルオロ基を表わし −r1とr2は夫々独立に0〜3までの値をとり得、−r3とr4は夫々独立に 0または1の値をとり得る、 で示されるパーフルオロ鎖を表わす、 で示される繰り返し単位を含む巨大分子連鎖を含むことを特徴とするイオン性フ ッ素化ポリマー。
  2. 2.上記式(I)で示される繰り返し単位及び上記式(II)及び/または式( III)で示される繰り返し単位に加えて、式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)但しYは水素原子、塩素原子、フッ 素原子、あるいは炭素原子を10個まで含むパーフルオロアルキル基またはアル コキシパーフルオロアルキル基を表わす、で示される繰り返し単位を含むことを 特徴とする請求の範囲第1項記載のポリマー。
  3. 3.上記ポリマーの1当量が400〜10,000の範囲内となるような量で、 上記式(I)、(II)及び/または(III)及び場合により(IV)で示さ れる繰り返し単位が存在することを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記 載のポリマー。
  4. 4.上記式(I)、(II)、(III)及び(IV)において、Xがフッ素原 子であり、m及びpが0又は1であり、nが2、3、4または5でありかつqが 2、3、4または5であることを特徴とする請求の範囲第2項記載のポリマー。
  5. 5.上記ポリマーが式(Ia): ▲数式、化学式、表等があります▼(Ia)但し、tは2〜15の範囲内の数で ある、で示される繰り返し単位を含み、それに加えて式(IIa)▲数式、化学 式、表等があります▼(IIa)及び/または式(IIIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIa)但し、u及びvは夫々独立に2 、3または4を表わす、で示される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求の 範囲第1項〜第4項のいずれか1項記載のポリマー。
  6. 6.上記式(I)〜(IV)で示される繰り返し単位が以下のような配分(1当 量が1000であるときのモル単位で)、−(I)0より多く2.75以下 −(II)0以上1以下 −(III)0以上1以下 −(IV)0以上8.08以下 但し和II+IIIは零ではない、 で含まれることを特徴とする請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項記載のポ リマー。
  7. 7.式(Va)−場合によりそれに加えて式(Ve)−〜(Vd)▲数式、化学 式、表等があります▼(Va)但しp、q、Mは上記定義通りであり、ZはO、 NHあるいは−Z−Z−として−O−または−N=N−を表わし、Y′はF、C lまたBrであり、Rは炭素原子を1〜5個有するアルキル基を表わし、sは少 なくとも1に等しく10を越えない、 で示される繰り返し単位の少なくとも1つを含むポリマーP2を形成し、そして 式(VIa)〜(VId):▲数式、化学式、表等があります▼(VIa〜VI d):但し、Z、Y′、R、Mは前記定義通りである、で示される基を除去する ことができ、かつCF2−CF2結合を(上記式(Va)または式(Va1): ▲数式、化学式、表等があります▼(Va1)但しp、q、Zは前記定義通りで ある、で示される)同一の繰り返し単位内に、あるいは(上式Vb、Vcまたは Vdで示される)2つの繰り返し単位間に形成することを可能にする処理に上記 ポリマーを付すことを特徴とする請求の範囲第1項〜第6項のいずれか1項記載 のポリマーの調製法。
  8. 8.上記式(VIa)〜(VId)で示される繰り返し単位の除去を、熱処理、 照射、酸化剤の作用、化学反応もしくは上記式(Va)〜(Vd)で示される繰 り返し単位を上記式(I)で示される繰り返し単位に転化するに適したあらゆる 反応または処理によって実施することを特徴とする請求の範囲第7項記載の方法 。
  9. 9.上記式(II)で示される繰り返し単位を含み、場合によってはそれに加え て上記式(III)及び/または上記式(IV)で示される繰り返し単位のよう な他の繰り返し単位をも含むポリマーP3の−COOM基を、上記式(Va)〜 (Ve)で示された繰り返し単位のいずれかに転化することによって上記ポリマ ーP2自身を得ることを特徴とする請求の範囲第7項記載の方法。
  10. 10.上記−Z−が−O−である、上記式(Va)で示される繰り返し単位を含 み、場合によりこれに加えて上記式(Ve)で示される繰り返し単位をも含むポ リマーP2を得るために、上記転化処理の前に、上記ポリマーP3を式(VII ):▲数式、化学式、表等があります▼(VII)但し、−Tは前記定義通りで あり、 −GはOH、F、Cl、Br、IまたはOR、ここでRは炭素原子1〜5個を有 するアルキル基である、を表わし、 −w′は2〜4の範囲内の数を表わす、で示される化合物あるいは上記式(VI I)の化合物に対応する酸無水物と接触させる、請求の範囲第9項記載の方法。
  11. 11.上記式(VII)で示される化合物がパーフルオロブタン二酸または2, 7−ビス(トリフルオロメチル)−3,6−オキサーパーフルオロオクタン−1 ,8二酸であることを特徴とする請求の範囲第10項記載の方法。
  12. 12.上記−COOM基の、上記式(Va)〜(Ve)で示される繰り返し単位 のいずれかへの上記転化が、過酸化水素、金属の過酸化物、ヒドラジン、Cl2 、PCl5、PCl3、POCl3、PBr3、PBr5またはSOCl2を用 いて実施されることを特徴とする請求の範囲第9項記載の方法。
  13. 13.請求の範囲第1項〜第6項のいずれか1項記載のポリマーによって完全に あるいは部分的に構成されていることを特徴とする、とりわけハロゲン化アルカ リの水溶液の電気分解のために利用可能な膜。
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