JPS6246684A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPS6246684A JPS6246684A JP60187737A JP18773785A JPS6246684A JP S6246684 A JPS6246684 A JP S6246684A JP 60187737 A JP60187737 A JP 60187737A JP 18773785 A JP18773785 A JP 18773785A JP S6246684 A JPS6246684 A JP S6246684A
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- layer
- film
- derivative compound
- recording
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/733—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ジアセチレン誘導体化合物の単分子膜、又は
単分子累積膜の光による化学変化若しくは物理変化を利
用して記録を行なう光記録媒体番こ関する。
単分子累積膜の光による化学変化若しくは物理変化を利
用して記録を行なう光記録媒体番こ関する。
ジアセチレン誘導体化合物を記録層とする記録媒体は従
来から知られている。
来から知られている。
例えば、ジアセチレン誘導体化合物の熱変色いて開示さ
れている。
れている。
ところで、その明細書中には、いかなるレーザを用いた
か、或いは用いるべきかについては何ら記載がなく、単
にレーザと記載されているに過ぎない。
か、或いは用いるべきかについては何ら記載がなく、単
にレーザと記載されているに過ぎない。
そこで1本発明者等は1種々のレーザを用いて、該記録
媒体に対し、レーザ記録を行い、記録の可否を検討した
。
媒体に対し、レーザ記録を行い、記録の可否を検討した
。
その結果、アルゴンレーザ等の大型かつ高出力のレーザ
を用いれば熱変色記録は可能であるが、小型で比較的低
出力の半導体レーザ(波長800〜850nm)では、
熱変色記録は得られないことが確認された。
を用いれば熱変色記録は可能であるが、小型で比較的低
出力の半導体レーザ(波長800〜850nm)では、
熱変色記録は得られないことが確認された。
ところが、実用面から考えた場合、小型で低出力の゛ト
導体レーザで記u 、l;込みを行い得ることか必要条
ヂ1である。
導体レーザで記u 、l;込みを行い得ることか必要条
ヂ1である。
ジアセチレン誘導体微結晶の粉体からなるものであるた
め1層内の分子外114配向かランダムであり、そのた
め場所によっては光の透過性1反射性が異なったり、化
学反応の度合が異なる等の弊害が生し、高′市度記録に
は必すしも適しているとはいえない。
め1層内の分子外114配向かランダムであり、そのた
め場所によっては光の透過性1反射性が異なったり、化
学反応の度合が異なる等の弊害が生し、高′市度記録に
は必すしも適しているとはいえない。
そこで、本発明は、斯かる従来技術の欠点を解消するた
めになされたものである。
めになされたものである。
本発明の目的は、小型軽H,+の半導体レーザによる1
り込みが11丁能な光記録媒体を提供することにある。
り込みが11丁能な光記録媒体を提供することにある。
未発明の別の目的は、高密度、高感度の記録媒体を提供
することにある。
することにある。
未発明の更に別の目的は、安定性、高品質性に優れた記
録媒体を提供することにある。
録媒体を提供することにある。
1−記の目的は、以下の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、ジアセチレン誘導体化合物の中分子
11々又はその累積膜を有するA層と7ズレニウム塩化
合物を有するB層を積層して成ることを特徴とする光記
録媒体である。
11々又はその累積膜を有するA層と7ズレニウム塩化
合物を有するB層を積層して成ることを特徴とする光記
録媒体である。
本発明において、ジアセチレン誘導体化合物の単分子膜
又はその累積膜を有するA層は記録層として作用し、ア
ズレニウム塩化合物を有するB層は輻射線吸収層として
作用する。
又はその累積膜を有するA層は記録層として作用し、ア
ズレニウム塩化合物を有するB層は輻射線吸収層として
作用する。
本発明に係るジアセチレン誘導体化合物は一般式
%式%()
抽水性部位Rとしては1例えばアルキルノ、(。
ビニル、ヒニリデン、エチニル等のすレフイン系)父化
水素ノ、(、フェニル、ナフチル、7ントラニル等の縮
合多環フェニル基、ビフェニル、ターフェニル等の鎖状
多環フェニル基、その他のJ1極性)、(等があるが、
特には、炭素原子数の和か10〜30の長鎖アルキル基
が好ましい。
水素ノ、(、フェニル、ナフチル、7ントラニル等の縮
合多環フェニル基、ビフェニル、ターフェニル等の鎖状
多環フェニル基、その他のJ1極性)、(等があるが、
特には、炭素原子数の和か10〜30の長鎖アルキル基
が好ましい。
親木性部位としては、例えばカルボキシル)J(及びそ
の金属塩:t!、シ<はアミン1!1、スルホン耐基及
びその金属1!1若しくはアミン11!、スルホンアミ
1・駄 アミ ド基、アミノ基、 イ ミツ基、ヒI
・ロキシ基、4級アミン基、オキシアミ/l、(、ジア
ゾニウム基、グアニシンノ、(、ヒドラジン基。
の金属塩:t!、シ<はアミン1!1、スルホン耐基及
びその金属1!1若しくはアミン11!、スルホンアミ
1・駄 アミ ド基、アミノ基、 イ ミツ基、ヒI
・ロキシ基、4級アミン基、オキシアミ/l、(、ジア
ゾニウム基、グアニシンノ、(、ヒドラジン基。
リン醇]6(、ケイ酸)、(、アルミン酸基、ニトリル
基、チオアルコール基、その他の極性基がある。
基、チオアルコール基、その他の極性基がある。
尚、前記ジアセチレン誘導体化合物はポリジアセチレン
誘導体化合物を含む。
誘導体化合物を含む。
一方、アズレニウム塩化合物としては、例えば以下の式
(III)〜〔■〕で表わされる化合物が挙げられる。
(III)〜〔■〕で表わされる化合物が挙げられる。
H3
Xは1以トの整数
蒙
H3
CII。
CII3
H3
〔■〕
A層、即ち記録層はジアセチレン誘導体化合物の単分子
膜又はその累積膜をイJしている。
膜又はその累積膜をイJしている。
このようなジアセチレン誘導体化合物の単分子膜及びそ
の累積■りを作成する方法としては。
の累積■りを作成する方法としては。
例えば1.ラングミュアらの開発したラングミュア・プ
ロジェット法(以下、LB法)を用いる。
ロジェット法(以下、LB法)を用いる。
LB法は、例えば分子内に親木性部位と疎水性部位を有
する構造の分子において、両名のバランス(両親媒性の
バランス)が適度に保たれている時1分子は水面上で親
木基を下に向けて中分子の層になることを利用して単分
子膜又は単分子層の累積1模を作成する方法である。
する構造の分子において、両名のバランス(両親媒性の
バランス)が適度に保たれている時1分子は水面上で親
木基を下に向けて中分子の層になることを利用して単分
子膜又は単分子層の累積1模を作成する方法である。
水面上の巾分子層は、二次元系の特徴をもつ。
分子がまばらに故閑しているときは、一分子当り面積A
と表面圧πとの間に二次元理想気体の式、πA=KT が成り立ち、゛気体膜″となる。ここで、Kはポルツマ
ン定数、Tは絶対温度である。
と表面圧πとの間に二次元理想気体の式、πA=KT が成り立ち、゛気体膜″となる。ここで、Kはポルツマ
ン定数、Tは絶対温度である。
Aを充分小さくすれば分子間相互作用が強まなる、凝縮
膜は、ガラス基板などの種々の材質や形状を有する担体
の表面へ一層ずつ移すことができる。
膜は、ガラス基板などの種々の材質や形状を有する担体
の表面へ一層ずつ移すことができる。
この方法を用いた、本発明に係るA層(記録層)を構成
するジアセチレン誘導体化合物の単分子膜又はその累積
膜の具体的製法を以下に説明する。
するジアセチレン誘導体化合物の単分子膜又はその累積
膜の具体的製法を以下に説明する。
まず、[1的とするジアセチレン誘導体化合物をクロロ
ホルム等の溶剤に溶解させる。
ホルム等の溶剤に溶解させる。
このジアセチレン誘導体化合物の溶液を水相lO上(第
3図)に展開させて膜状に形成する。
3図)に展開させて膜状に形成する。
次番こ、このlit 1511層が水相上を自由に拡散
して広がりすぎないように仕切板(又は浮子)3を設け
て展開面積を制限し、膜物質の集合状態を制御して、そ
の集合状態に比例した表面圧πを得る。
して広がりすぎないように仕切板(又は浮子)3を設け
て展開面積を制限し、膜物質の集合状態を制御して、そ
の集合状態に比例した表面圧πを得る。
この仕切板3を動かし、展開面積を縮小して膜物質の集
合状態を制御し、表面圧を徐々に上昇させ、累積膜の製
造に適する表面圧πを設定することが出来る。
合状態を制御し、表面圧を徐々に上昇させ、累積膜の製
造に適する表面圧πを設定することが出来る。
この表面圧を維持しながら静かに、清浄な担体(基板)
11を垂直に上下させることにより、ジアセチレン誘導
体化合物の単分子膜が担体(基板)11上に移しとられ
る。
11を垂直に上下させることにより、ジアセチレン誘導
体化合物の単分子膜が担体(基板)11上に移しとられ
る。
ジアセチレン中分子膜は以上で製造されるが、前記の操
作を繰り返すことにより所望の累積数のジアセチレン単
分子膜の累積膜が形成される。
作を繰り返すことにより所望の累積数のジアセチレン単
分子膜の累積膜が形成される。
ジアセチレン単分子1漠を担体上に移すには、上述した
垂直浸漬法の他、水平付着法1回転円筒法などの方法に
よる。
垂直浸漬法の他、水平付着法1回転円筒法などの方法に
よる。
水平付着法は、1■体を水面に水平接触させて移しとる
方法で1回転円筒法は、円筒形の担体を水面上で回転さ
せて担体表面に移しとる方法である。
方法で1回転円筒法は、円筒形の担体を水面上で回転さ
せて担体表面に移しとる方法である。
前述した垂直浸漬法では、表面が親水性である担体を、
水面を横切る方向に水中から引き上げると、ジアセチレ
ン誘導体化合物の親木基が担体側に向いた混合ジアセチ
レン単分子膜が担体上に形成される。
水面を横切る方向に水中から引き上げると、ジアセチレ
ン誘導体化合物の親木基が担体側に向いた混合ジアセチ
レン単分子膜が担体上に形成される。
前述のように担体を上下させると、各工程ごとに一層ず
つジアセチレン単分子膜が積み重なっていく。成膜分子
の向きが引上げ工程と浸漬工程では逆になるので、この
方法によると各層間は、ジアセチレン誘導体化合物の親
木基と攬 ※水基が向いあうYNXi膜が形成される。
つジアセチレン単分子膜が積み重なっていく。成膜分子
の向きが引上げ工程と浸漬工程では逆になるので、この
方法によると各層間は、ジアセチレン誘導体化合物の親
木基と攬 ※水基が向いあうYNXi膜が形成される。
それに対し、水平付着法は、ジアセチレン誘導体化合物
の疎水基が担体側に向いた混合ジアセチレン単分子膜が
担体」二に形成される。この方法では、累積しても、成
膜分子の向きの交代はなく、全ての層において、疎水基
が担体側に向いたX型膜が形成される6反対に、全ての
層において、親木基が担体側に向いた累積膜はX型膜と
呼ばれる。
の疎水基が担体側に向いた混合ジアセチレン単分子膜が
担体」二に形成される。この方法では、累積しても、成
膜分子の向きの交代はなく、全ての層において、疎水基
が担体側に向いたX型膜が形成される6反対に、全ての
層において、親木基が担体側に向いた累積膜はX型膜と
呼ばれる。
尚、単分子膜の膜厚は、100人〜Igmが適しており
、特に200人〜5000人が適している。
、特に200人〜5000人が適している。
単分子層を担体上に移す方法は、これらに限定されるも
のではなく、大面積担体を1■いる時には、担体ロール
から水相中に担体を押し出していく方法などもとり得る
。また、前述した親木基、疎水基の1■体への向きは原
則であり、担体の表面処理等によって変えることもでき
る。
のではなく、大面積担体を1■いる時には、担体ロール
から水相中に担体を押し出していく方法などもとり得る
。また、前述した親木基、疎水基の1■体への向きは原
則であり、担体の表面処理等によって変えることもでき
る。
形成されるジアセチレン単分子膜13(第212(a)
及びその累積膜14(第2図(b)は、高密度で、しか
も高度の秩序性を有しているため、これらの膜で高密度
、高解像度の記録層を得ることができる。
及びその累積膜14(第2図(b)は、高密度で、しか
も高度の秩序性を有しているため、これらの膜で高密度
、高解像度の記録層を得ることができる。
尚、記録層(A層)はジアセチレン誘導体化合物のみに
よって構成される場合に限定されるものではなく、ジア
セチレン誘導体化合物と他の機能材料との混合膜であっ
てもさしつかえない。
よって構成される場合に限定されるものではなく、ジア
セチレン誘導体化合物と他の機能材料との混合膜であっ
てもさしつかえない。
次に、B層即ち輻射線吸収層はアズレニウムJ1!化合
物からなる。
物からなる。
斯るB層の作成方法としては、上述のLB沃の他に、ス
ピナー回転塗布法、ローラー塗布法、引上げ塗布法、ス
パッタリング法、プラズマ重合法等がある。そのいずれ
を用いてもB層を形成できる。
ピナー回転塗布法、ローラー塗布法、引上げ塗布法、ス
パッタリング法、プラズマ重合法等がある。そのいずれ
を用いてもB層を形成できる。
以下、例えばスピナー回転’el i法を用いて成膜す
る場合を説明する。
る場合を説明する。
スピナー回転塗布法は、まず基板中央部に所宇箇流メi
掩左滴下゛1. 斤に其躬を嘉凍回転きせて、遠心力
の作用により膜を均一に塗布する方法である。
掩左滴下゛1. 斤に其躬を嘉凍回転きせて、遠心力
の作用により膜を均一に塗布する方法である。
その実施装置としてはスピナー塗1+i機がある。
本発明に於いては、前記アズレニウム塩化合物を通出な
揮発性溶媒、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、
クロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン等の
ケトン類、エタノール、メタノール、プロパツール等の
アルコール類、好適には1′AA化メチレン(CH2C
交2)、アセトニトリル(CH3CN)Wに溶かした溶
液を塗布液として使用する。
揮発性溶媒、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、
クロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン等の
ケトン類、エタノール、メタノール、プロパツール等の
アルコール類、好適には1′AA化メチレン(CH2C
交2)、アセトニトリル(CH3CN)Wに溶かした溶
液を塗布液として使用する。
回転速度及び塗Aj液濃度等の調整により、所望の膜厚
を得られる。
を得られる。
膜厚は100人〜2用が適しており、特に200人〜5
000人が好適である。
000人が好適である。
尚、基板との密着性を向上させるために、適宜天然又は
合成の高分子からなるバインダを添加剤として用いるこ
ともできる。
合成の高分子からなるバインダを添加剤として用いるこ
ともできる。
次に、B層をLB法を用いて作成する場合について説明
する。
する。
アズレニウム塩化合物は両親媒性ではないので、単独で
はLB法を用いて成膜できないが。
はLB法を用いて成膜できないが。
親木性部位と疎水性部位とを併有する化合物(例えば、
ステアリン酸、アラキシン酸等の高級脂肪酸)を混合す
ることによって、LB法による成膜が可能となる。
ステアリン酸、アラキシン酸等の高級脂肪酸)を混合す
ることによって、LB法による成膜が可能となる。
なぜなら、少なくとも1つの化合物においては1両親媒
性のバランスが保たれていれば、水面上に単分子膜が形
成され、他の化合物は、両親媒性の化合物に挾持され、
結局、全体として分子秩序性のある混合単分子19が形
成されるからである。
性のバランスが保たれていれば、水面上に単分子膜が形
成され、他の化合物は、両親媒性の化合物に挾持され、
結局、全体として分子秩序性のある混合単分子19が形
成されるからである。
尚、A層とB層の積層の順序については問わず、必要に
応じていずれの形態を選択しても良い。
応じていずれの形態を選択しても良い。
つまり、まずA層を成膜し、その上にB層を積み重ねて
も良いし、その逆でも良い。
も良いし、その逆でも良い。
更に、A層とB層の間に必要に応じて他の層1例えば蓄
熱層を介在させても良い。
熱層を介在させても良い。
このようにして基板上にジアセチレン誘導体化合物を有
するA層(記録層)とアズレニウム1ス1化合物を有す
るB層(輻射線吸収層)の積層体からなる光記録媒体を
得ることがへできる。
するA層(記録層)とアズレニウム1ス1化合物を有す
るB層(輻射線吸収層)の積層体からなる光記録媒体を
得ることがへできる。
萌る記録体は、半導体レーザによる高密度、高解像度記
録を可能とするものである。
録を可能とするものである。
以下、図示例(第1図)に従って本発明の記録媒体を説
明する。
明する。
前述の如くして形成された記録媒体は光や熱により吸収
波長が変化して、見かけの色が変わる。
波長が変化して、見かけの色が変わる。
まず、無色透明な記録層に紫外線を照射すると、ジアセ
チレン誘導体化合物が爪台してポリジアセチレン話導体
化合物となり、その結果、最大吸収波長が620〜66
0nmの青色に変化する。
チレン誘導体化合物が爪台してポリジアセチレン話導体
化合物となり、その結果、最大吸収波長が620〜66
0nmの青色に変化する。
この変化は、紫外線を照射することによって起こり、熱
や溶剤によっては起こらない。
や溶剤によっては起こらない。
また、この変化は、不可逆変化であるので、一度青色に
なった膜は無色透明膜に戻らない。
なった膜は無色透明膜に戻らない。
次に、半導体レーザ(波長800〜850nm)を用い
て、記録媒体の所定の個所をレーザビーム照射すると、
8層16(第1図)の被照射部位18は、レーザビーム
17を吸収して自身は加熱される(第1図(a))。
て、記録媒体の所定の個所をレーザビーム照射すると、
8層16(第1図)の被照射部位18は、レーザビーム
17を吸収して自身は加熱される(第1図(a))。
しかして、8層16の加熱部位18と接触ないしは近接
するA層(記録層)15の対応部位19も熱伝導′によ
り50″C以上に加熱され、最大吸収波長が540nm
の赤色に変化する(第1図(b))、この変化も不可逆
である。
するA層(記録層)15の対応部位19も熱伝導′によ
り50″C以上に加熱され、最大吸収波長が540nm
の赤色に変化する(第1図(b))、この変化も不可逆
である。
本発明は、かかるジアセチレン及びアズレニウム塩化合
物の特性を記録媒体に利用するものである。
物の特性を記録媒体に利用するものである。
尚、必要に応じて、記録層(A層)上又は輻射線吸収層
(B層)上に不図示の保護膜を設けてもよい。
(B層)上に不図示の保護膜を設けてもよい。
基板ないし担体としては、ガラス、プラスチック、紙、
金属等の種々の固体材料が用いられるが、必要に応じて
特定波長の輻射線を通すものに限定される。
金属等の種々の固体材料が用いられるが、必要に応じて
特定波長の輻射線を通すものに限定される。
斯くして、入力情報信号に応じ、記録層1−の所定の部
位に色変化による記録を行なうことができる。
位に色変化による記録を行なうことができる。
本発明を更に詳細に説明するために、以下に実施例を挙
げる。
げる。
実施例1
(Iff)式に示したアズレニウム塩化合物lO部を塩
化エチレン20部に1分溶かしたものを塗布液として用
意した。
化エチレン20部に1分溶かしたものを塗布液として用
意した。
次に、カラス基板ないしIu体をスピナー471機に装
着し、前記塗布液を前記ガラス基板−にの中央部に少州
滴丁した後、所定の時間、所定の回転数で所定の膜厚を
得るためにスピナー回転塗/11シた。
着し、前記塗布液を前記ガラス基板−にの中央部に少州
滴丁した後、所定の時間、所定の回転数で所定の膜厚を
得るためにスピナー回転塗/11シた。
次にF式に示したジアセチレン誘導体化合物c12H2
5−c=c−c=c−cBH16−cooHをクロロホ
ルムに3 x 10−3m o Q/nの濃度で溶かし
た後、p H6,5で塩化カドミウム濃度IXIO−3
mo父/交の水相10J−に展開した。
5−c=c−c=c−cBH16−cooHをクロロホ
ルムに3 x 10−3m o Q/nの濃度で溶かし
た後、p H6,5で塩化カドミウム濃度IXIO−3
mo父/交の水相10J−に展開した。
溶媒のクロロホルムを蒸発除人後、表面圧を20 d
y n e/cmまで高めた。
y n e/cmまで高めた。
表面圧を一定に保ちながら、表面が十分に清7′f1で
輻q]線吸収層が付着しているカラス基板を41!体と
し、水面を横切る方向に」−下速度1.0cm/min
で静かに上下させ、ジアセチレン単分子膜を担体11上
に移しとり、ジアセチレン単分子膜及びその累積膜を形
成した。
輻q]線吸収層が付着しているカラス基板を41!体と
し、水面を横切る方向に」−下速度1.0cm/min
で静かに上下させ、ジアセチレン単分子膜を担体11上
に移しとり、ジアセチレン単分子膜及びその累積膜を形
成した。
このようにして、表−1に示すように膜厚。
累積数の異なる25種類の記録媒体を作製した。
記録実験l
実施例1で製造された各記録媒体に、254nmの紫外
線を均一、且つ十分に照射し、記録層を青色膜とした。
線を均一、且つ十分に照射し、記録層を青色膜とした。
次に、出力3mW、波長830nmの半導体レーザビー
ム(ビーム径4μm)を入力情報に従って各々の記録媒
体に照射した。その結果を第1表に示す。
ム(ビーム径4μm)を入力情報に従って各々の記録媒
体に照射した。その結果を第1表に示す。
但し、記録評価として記録の可否と品質を判断し、特に
良好な記録を行なえたものを■、良好なものを○、記録
が劣悪なものを×とした。
良好な記録を行なえたものを■、良好なものを○、記録
が劣悪なものを×とした。
実施例2
ジアセチレン誘導体化合物として、丁記で表わさC6H
13−C≡C−−C≡C−−C2H4−COOHれるも
のを使用したことを除き、実施例1と仝〈同様にして記
録媒体を製造した(表−2)。
13−C≡C−−C≡C−−C2H4−COOHれるも
のを使用したことを除き、実施例1と仝〈同様にして記
録媒体を製造した(表−2)。
記録実験2
実施例2の記録媒体を用いたことを除き、記録実験1と
同様にして記録を行なった。
同様にして記録を行なった。
その結果を表−2に示す。
実施例3
アズもラム塩化合物として(IV)式で表わされるもの
を使用したことを除き、実施例1と全く同様にして記録
媒体を製造した。
を使用したことを除き、実施例1と全く同様にして記録
媒体を製造した。
記録実験3
実施例3の記録媒体を用いたことを除き、記録実験1と
全く同様にして記録を行なった。その結果は、表−1、
表−2と全く同様であった。
全く同様にして記録を行なった。その結果は、表−1、
表−2と全く同様であった。
尚、実施例には示さなかったが、アズレニウム111化
合物とジアセチレン誘導体化合物との密着性を高め、ジ
アセチレン誘導体化合物のより均質な膜を得るために、
アズレニウム塩化合物とジアセチレン誘導体化合物との
間にステアリン酸またはアラキシン酎の2〜3層の単分
子膜からなる累積11!2を介在させることも行なわれ
る。
合物とジアセチレン誘導体化合物との密着性を高め、ジ
アセチレン誘導体化合物のより均質な膜を得るために、
アズレニウム塩化合物とジアセチレン誘導体化合物との
間にステアリン酸またはアラキシン酎の2〜3層の単分
子膜からなる累積11!2を介在させることも行なわれ
る。
表−1膜厚、累積数の異なる各記録媒体と記録結果表−
2膜厚、累積数の異なる各記録媒体と記録結果〔効果〕 本発明の効果を以下に列挙する。
2膜厚、累積数の異なる各記録媒体と記録結果〔効果〕 本発明の効果を以下に列挙する。
(1)ジアセチレン誘導体化合物の配向制御された中分
子膜又はその累積膜を記録層としているため、高密度で
しかも高解像の記録か+4丁能である。
子膜又はその累積膜を記録層としているため、高密度で
しかも高解像の記録か+4丁能である。
(2)ジアセチレン誘導体化合物の薄膜とアズレニウム
1n化合物を有する輻射線吸収層とを併用したことによ
り、軽11(、低出力で且つ安価な崖導体レーザ記録が
実施可能である。
1n化合物を有する輻射線吸収層とを併用したことによ
り、軽11(、低出力で且つ安価な崖導体レーザ記録が
実施可能である。
(3)大面積の担体にに均質な光記録媒体を得ることが
9丁能である。
9丁能である。
第1図(a) (b)は本発明の記録媒体の概略構成図
であり、また光記録プロセスを説明を示す図、第2図(
a)、(b)は中分子膜及びその累積膜の模式的構成図
、第3図(a)(b)は、LB法による記録媒体製造装
置の一例を示す概略図である。 11− ノ、(板ないし担体 I3− 中介−f11I2 14− 単分子累積■り 15− 記録層(A層) 16一−−輻射線吸収層(B層) 17−−−赤外線レーザビーム 18− 被照射加熱部位 19− 変色記録部位
であり、また光記録プロセスを説明を示す図、第2図(
a)、(b)は中分子膜及びその累積膜の模式的構成図
、第3図(a)(b)は、LB法による記録媒体製造装
置の一例を示す概略図である。 11− ノ、(板ないし担体 I3− 中介−f11I2 14− 単分子累積■り 15− 記録層(A層) 16一−−輻射線吸収層(B層) 17−−−赤外線レーザビーム 18− 被照射加熱部位 19− 変色記録部位
Claims (2)
- (1)ジアセチレン誘導体化合物の単分子膜又はその累
積膜を有するA層とアズレニウム塩化合物を有するB層
とを積層して成ることを特徴とする光記録媒体。 - (2)前記ジアセチレン誘導体化合物が式( I )で表
わされる特許請求の範囲第1項記載の光記録媒体。 H(CH_2)_m−C≡C−C≡C−(CH_2)_
n−A〔 I 〕 (但し、上記式中、m、nは1以上の整数であり、Aは
極性基である)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60187737A JPS6246684A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 光記録媒体 |
US07/287,551 US5004671A (en) | 1985-08-27 | 1988-12-20 | Optical recording medium and optical recording method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60187737A JPS6246684A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6246684A true JPS6246684A (ja) | 1987-02-28 |
Family
ID=16211307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60187737A Pending JPS6246684A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6246684A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105328352A (zh) * | 2015-11-27 | 2016-02-17 | 江苏大学 | 一种基于激光冲击层裂在基体表面制造凸起空腔的方法 |
-
1985
- 1985-08-27 JP JP60187737A patent/JPS6246684A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105328352A (zh) * | 2015-11-27 | 2016-02-17 | 江苏大学 | 一种基于激光冲击层裂在基体表面制造凸起空腔的方法 |
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