JPS62449A - 潤滑剤組成物、及びグルカミン誘導体を含有する錯化合物 - Google Patents

潤滑剤組成物、及びグルカミン誘導体を含有する錯化合物

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JPS62449A
JPS62449A JP61145972A JP14597286A JPS62449A JP S62449 A JPS62449 A JP S62449A JP 61145972 A JP61145972 A JP 61145972A JP 14597286 A JP14597286 A JP 14597286A JP S62449 A JPS62449 A JP S62449A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規なグルカミン誘導体、添加剤としてグル
カミン誘導体全含有する潤滑剤及び作動液、該グルカミ
ン誘導体を含有する錯体化合物、並びに該錯体化合物の
プラスチック及び潤滑剤用の添加剤としての使用方法に
関するものである。
(従来の技術) グルカミン誘導体及びその製造方法は、化粧品組成物用
の添加剤として、例えば米国特許第4.281,201
号明細書及び日本国特許願第79/135.233及び
79/163,829号に開示されている。
しかしながら、潤滑剤用の添加剤としてのグルカミン誘
導体は未だ開示されていない。
(発明が解決しようとする問題点) 潤滑剤の添加剤として需要が多い。特に、その添加剤は
高温での酸化劣化に対する潤滑剤の安定性を向上させな
ければならず、負荷特性を増加しなければならず、腐蝕
しやすい基材の存在下高温で潤滑剤を適応させなければ
ならない。
最後にこれら潤滑剤の耐摩耗特性を高めることもまた非
常に重要な必要条件である。
潤滑剤にすぐれた極圧特性及び特に耐摩耗特性を付与す
る化合物を開発することが可能となった0 (問題点を解決するための手段) 従って、本発明は潤滑剤または作動液及び少なくとも1
種の次式I: H 〔式中、nは2,3または4の整@を表わし、Xは次式
: %式% で表わされる基を表わし、Wは炭素原子数1ないし22
のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
基またはフェニル基を表わし、Wは水素原子、炭素原子
数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により置換
された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次式:
%式% (式中、X及び即は上記と同じ意味を表わす。)で表わ
される基を表わす。〕 で表わされる化合物から成る組成物に関するものである
上記式1中、Xが次式ニ ー0−、−CH2−または−8− で表わされる基で表わされる化合物を含有する組成物が
好ましく、次式: で表わされる基で表わされるものが特に好ましいOXが
次式: %式% で表わされる基を表わす場合には、カルボニル基の炭素
原子は■の基に結合する。
上記式I中、R1が炭素原子数1ないし22のアルキル
基を表わす場合には、炭素原子数1ないし22の直鎖ま
たは分岐鎖アルキル基であり、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第ニブ
チル基または第三ブチル基、ペンチル基、1−メチルペ
ンチル基、n−ヘキシル基、2−エチル−n−ヘキシル
基(イソオクチル基)、n−ヘプチル基、1−メチルヘ
プチル基、直鎖または分岐鎖オクチル基、ノニル基、デ
シル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テ
トラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、エイコシル基またはトコシル基から成る群
から選択されて良い。第三アルキル基が特に好ましい。
上記式I中、R1が好ましくは、炭素原子数1ないし4
の直鎖または分岐鎖アルキル基であシ、最も好ましくは
炭素原子数5ないし18のアルキル基であり、炭素原子
数8ないし12のアルキル基が特に好ましい。
本発明の組成物の特に好ましい実施態様は、上記式■で
表わされる化合物中R1が第三ノニル基または第三ドデ
シル基であるものであり、第三ドデシル基である場合に
は例えば第三ドデシルメルカプp7としテ’ Ullm
anns Enzyklopa −die der t
echnischen chemie、’  第4版、
第181ないし1°82頁、ヒエミー社刊(Verla
gChemie)、バイア /%イA (Weinhe
im)に定義されているものとして理解され、その結果
Xが第三炭素に結合する。
置換基W及びXが式1で表わされる化合物中に一度より
多く現われる場合には、それらは全く同じでも違ってい
てもよく、好ましくは全く同じ置換基である。
上記式■中、R1が炭素原子数1ないし8のアルキル基
金表わす場合には、エチル基、イソプロピ/+4.11
−プロピル基、n−ブチル基または第ニブチル基、2−
エチル−n−ヘキシル基またはn−オクチル基であって
良く、メチル基またはエチル基が好ましい。R2がヒド
ロキシル基で置換される炭素原子数2ないし4のアルキ
ル基で表わされる場合には、2−ヒドロキシル基、2−
ヒドロキシエチル基、6−ヒドロキシエチル基または2
−ヒドロキシブチル基であって良く、2−ヒドロキシエ
チル基が好ましい。さらに朗は好ましくは次 式:%式% (式中、X及びWは上記定義と同じ意味を表わす。) で表わされる基である。
nは2,3または好ましくは4の値を表わす整数である
好ましい組成物は潤滑剤または作動液及び少なくとも一
種の上記式I中、Xが次式:S −、−CHz−または
−〇− で表わされる基を表わし、R1が炭素原子数5ないし1
6の直鎖または分岐鎖アルキル基を表わし、R1がメチ
ル基、エチル基または次式:%式% (式中、X及びmFi与えられた意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、nが4を表わす化合物から成るも
のである。
上記式1で表わされる化合物のいくつかは新規なもので
ある。そこで本発明は、式I中、nは2,5または4の
整数を表わし、Xは次式:−,−O−、または−〇−C
O−で表 わされる基を表わし、Wは炭素原子数1ないし22のア
ルキル基を表わし、そしてWは次式: %式% (式中、X及びWは上記と同じ意味を表わす。)で表わ
される基を表わし、Xが次式: で表わされる基を表わす場合には水素原子、炭素原子数
1ないし8のアルキル基またはヒドロキシル基によジ置
換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表わす式
Iの化合物にも関する。好ましくはX、 R1,R2及
びnの意味が上記したものである。
上記式■で表わされる化合物は例えば、等である。
式1で表わされる化合物は、それ自体公知の方法で例え
ば次式r1: (式中、nは与えられた意味を表わし、Zは水素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基またはヒドロキシル
基で置換された炭素原子@2ないし4のアルキル基を表
わす。) で表わされる適当なグルカミンを次式■:R1−X−C
H2−CH−CH4■ (式中、X及びWは与えられた意味を表わす。)で表わ
されるグリシジル化合物と反応させることにより製造さ
れる。2が水素原子を表わす場合には、式■で表わされ
る化合物1モルに対して式■で表わされる化合物少くと
も2モルを使用し、2が水素原子でない場合には、概七
等モル量ヲ使用するのが便利である。
式■で表わされるグルカミンはそれ自体公知の方法で、
例えば適当なモノサッカライドを適当な第一アミンと反
応させ、そしてひき続き反応生成物を還元することによ
り製造できる。式■で表わされるグリシジル化合物は公
知であるか、ま九はそれらは通常の方法で容易に製造で
きる0 式1で表わされる化合物は、通常液体または粘性のある
流体である。式Iで表わされる個々の化合物は、非常に
粘性があシ、樹脂状またはタールの様々物質で、必要な
らば水中または適当なベースオイル中で高度に濃縮され
た形体にして取扱い易くして使用しても良い〇 本発明のグルカミン誘導体は、良好な極圧特性及び耐摩
耗特性によ〕特徴う゛けられる潤滑剤添加物を構成する
。ごく少量混合した場合でも、式■で表わされる化合物
は潤滑剤及び作動導液中で有効で、この目的のために様
々な基材に十分に溶解することは、必要条件である。こ
の様に式1で表わされる化合物を該潤滑剤に基づいて(
1,01ないし5重量%、好ましくはα05ないし3重
量%含有する鉱油及び合成潤滑油及びそれらの混合物、
並びに作動液は、すぐれfc特性特に極圧特性を示し、
潤滑されるべき部分の摩擦を減することは明らかである
。関連のある潤滑剤は当業者によく知られておシ、そし
て例えば°潤滑剤と関連製品1 〔フェアラーク ヘミ
−(Verlag Chemie )、ワインハイム(
We 1nhe im)、1982)に記されている。
式Iで表わされる添加剤は、特に自動車の非オートマチ
ック及びと9わけオートマチック変速機への使用に適し
ている。さらにそれらはモーターオイル、ディーゼルエ
ンジンオイルt+はタービンオイルに最も効果的である
さらに、本発明の潤滑剤はその基本的性質をさらに改良
する為に添加される他の添加剤、例えば酸化防止剤、金
属不活性化剤、防鋳剤、粘度指数改良剤、流動点降下剤
、分散剤、表面活性剤、極圧添加物及び耐摩耗剤を含有
することもできる。
1 アルキル化−価フエノール 2.6−ジー第三ブチル−4−メチルフェノール、2,
6−ジー第三ブチルフェノール、2−第三プチル−4,
6−シメチルフエノール、2.6−’)−IXXズブチ
ル4−エチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−4
−n−プチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−4
−第二ブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチル
−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキ
シル) −4,6−シメチルフエノール、2,6−ジ−
オクタデシル−4−メチルフェノール、2.4.6−ト
リーシクロヘキシルフェノール、2.6−ジー第三ブチ
ル−4−メトキシメチルフェノ−ル、及び〇−第三プチ
ルフェノール。
2.フルキル化ヒドロキノン 2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシフェノール、2
,5−ジー第三ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジー第
三アミル−ヒドロキノン、及び2,6−ジフェニル−4
−オクタデシルオキシフェノール。
五 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル2.2′−
チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフェノール
)、2.2’−チオ−ビス−(4−オクチルフェノール
)、4.4’−チオ−ビス−(6−第三ブチル−3−メ
チルフェノール)、及び4.4′−チオ−ビス−(6−
第E7’チルー2−メチルフェノール)。
4、 アルキリデン−ビスフェノール 2.2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−メ
チルフェノール)、2.2’−メチレン−ビス(6−第
三ブチル−4−エチルフェノール)、2.2’−メチレ
ン−ビス−〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)−フェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−(
4−メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、2.2
’−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノ
ール)、2.2’−メチレン−ビス−(4,6−ジー第
三ブチルフェノール)、2.2’−エチリデン−ビス−
(4゜6−ジー第三ブチルフェノール)、2.2’−エ
チリデン−ビス−(6−第三ブチル−4−第二ブチルフ
ェノール)、2.2’−メチレン−ビス−〔6−(α−
メチルベンジル)−4−ノニルフェノール:)、2.2
’−メチレン−ビス−(6−(α、α−ジメチルベンジ
ル)−4−ノニルフェノール〕、4,4′−メチレン−
ビス−(2,6−ジー第三ブチルフェノール)、4,4
′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフ
ェノール)、111−ビス−(5−i三7’チル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブタン、2,6−
ジー(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベ
ンジル)−4−メチルフェノール、1、1.3− )リ
ス−(5−第三プチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフ
ェニル)−3−n−ドデシルメルカブトブタン、エチレ
ングリコール−ビス−〔3,3−ビス−(3′−第三プ
チル−4′−ヒドロキシフェニル)−ブチレート〕、ジ
ー(3−第三プチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)−ジシクロペンタジェン及びジー(2−(5’−
第三プチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチル−ベンジ
ル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニルクーテレフ
タレート。
5 ベンジル化合物 1、3.5−トリー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン
、ジー(3,5−ジー第三フチルー4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル
、ビス−(4−iE7’チル−3−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル)−ジチオールテレフタレート、1
.3.5− )リス−(5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3.5−
) IJス−(4−第三フチル−3−ヒドロキシ−2,
6−−)メチルベンジル)インシアヌレート、3,5−
ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸
ジオクタデシル、及び3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル−ホスホン酸モノエチルのカルシウム
塩。
4 アシルアミノフェノール 4−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、4−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリド、2゜4−ビス−オクチルメル
カプト−6−(3゜5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−s−トリアジン、及びN−(5,5−ジ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバミン
酸オクチル。
l β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオン酸の一価または多価アルコール、例
えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチ
ルイソシアヌレートまたはジヒドロキシエチルオキサニ
ル酸ジアミドとのエステル。
8、 β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)プロピオン酸の一価または多価アルコー
ル、例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ペンタエリスリトール、トリスーヒドロギ
シエチルイソシアヌレートまたはジヒドロキシエチルオ
キサニル酸ジアミドとのエステル。
9 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオン酸、例えばN。
N′−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)へキサメチレンジアミン、N、
N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)トリメチレンジアミンまたはN
、N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)ヒドラジンのアミド。
アミン酸化防止剤の例 N、N’−シーイソプロピル−p−7エニレンジアミン
、N、N’−ジー第ニブチル−p−7エニレンジアミン
、N、N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p−
7エニレンジアミン、N。
N/−ビス−(1−エテル−3−メチルペンチル)−p
−フェニレンジアミン、N、N’−ビス(1−メチルヘ
プチル)−p−7エニレ?ジアミン、N、N’−ジフェ
ニル−p−フェニレンジアミン、N、N’−ジー(ナフ
チル−2)−p−7エニレンジアミン、N−イソプロピ
ル−N’−フェニル−p−7エニレンジアミン、N−(
1,3−ジメチルブチル)−N/−7エニルーp−フェ
ニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル) −N’
−7エニルーp−7エニレンジアミン、N−シクロヘキ
シル−N’−7エニルーp−7エニレンジアミン、4−
(p−)ルエンスルホンアミト)−ジフェニルアミン、
N、N’−シ)チル−N。
N’−シー第二フチルー1)7:Cニレンジアミン、ジ
フェニルアミン、4−イングロボキシジフェニルアミン
、N−7エニルー1−ナフチルアミン、N−7エニルー
2−す7チルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、4
−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミノ−
フェノール、4−ノナノイルアミノ−7エノール、4−
ドデカノイルアミノ−フェノール、4−オクタデカノイ
ルアミノ−フェノール、ジー(4−メトキシ−フェニル
)−アミン、21 6−’)−1に三ブチルー4−ジメ
チルアミノーメチルフェノール、2.4’−ジアミノ−
ジフェニルメタン、4.4′−ジアミノ−ジフェニルメ
タン、N、N。
N/、 N/−テトラメチル−4,4′−ジアミノ−ジ
フェニルメタン、1,2−ジー〔(2−メチル−フェニ
ル〕−アミノ〕−エタン、1,2−ジー(フェニルアミ
ノ)−プロパン、(o−トリル)−ビグアニド、ジー(
a −(1’、  3’−ジメチル−ブチル)−フェニ
ルクーアミン、第三オクチル化N−フェニル−1−す7
チルアミン及びモノ−及びジアルキル化第三ブチル/第
三オクチルジフェニルアミンの混合物。
例えばベンゾトリアゾール、テトラヒドロベンゾトリア
ゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2,5−ジ
メルカプトチアジアゾール、サリチリデン−プロピレン
ジアミン、及びサリチルアミノグアニジンの塩。
防錆剤 例えば、 a) 有機酸、そのエステル、金属塩及び無水物、例、
tばN−オレオイル−サルコシン、ソルビタン−モノオ
レエート、ナフタレン酸鉛、無水ドデセニルコハク酸、
アルヶ二ルコハク酸半エステル及び4−ノニルフェノキ
シ−酢酸。
b)含窒素化合物、例えば、 ■、第一、第二または第三脂肪族もしくは環状脂肪族の
アミン、及び有機酸もしくくけ無機酸のアミン塩、例え
ば油溶性アルキルアンモニウムカルボキシレート。
■、複素環化合物、例えば置換イミダシリンまたは置換
オキサゾリン。
C)含燐化合物、例えば燐酸部分エステルのアミン塩。
d)含硫黄化合物、例えばバリウム−ジノニルナフタレ
ン−スルホネート、カルシウムベトロリウムースルホネ
ート。
粘度指数向上剤 例えばポリメタクリレート、ビニルピロリドン/メタク
リレート−コポリマー、ボリプデン、オレフィンコポリ
マー1スチレン/アクリレート−コポリマー。
例えば、ポリメタクリレート及びアルキル化す7タレン
誘導体。
分散剤/界面活性剤 例えば、ポリブテニルコハク酸イミド、ポリブテニルホ
スホン酸誘導体、塩基性マグネシウムスルホネート及び
フェルレート、カルシウムスルホネート及びフェルレー
ト並びにバリウムスルホネート及びフェルレート。
耐摩耗添加剤 例えば、硫黄及び/または燐−及び/またはハロゲン−
含有化合物、例えば硫黄化された植物油、ジアルキルジ
チオ燐酸亜鉛、トリトリルホスフェート、塩素化ハラフ
ィン、アルキルジスルフィド及びアリールジスルフィド
式1で表わされる化合物は、さらに本来は親水性の金属
及び半金属塩、金属及び半金属水酸化物そして金属及び
半金属酸化物に、及びプロトン酸に親油性の性質を付与
する両極性配位子として特に適している。従ってこれら
化合物は本来は親水性の、好ましくは無機の化合物を疎
水系での使用のために可溶化するための本発明の実施に
使用しても良い。
金属及び半金属塩並びに特定のジオール及びトリオール
から成るプロトン酸の錯体化合物は米国特許第4336
148号及び同第4404408号明細書に開示され、
それらの化合物によって、該塩または核酸の親油性を同
様に修正することもできる。広範囲の利用に特に適した
安定な錯体化合物がその様な、親水性の化合物を式1で
表わされる化合物で錯体化することによシ得られる。驚
くべきことに、該錯体は疎水系においてよシ良好な浴解
性を示し、そして公知の錯体の場合よシも、親油性の性
質を付与するためによシ少い両極性配位子が必要とされ
る。
それ故に本発明は、一般式■: Mm−X”−pY−qZ    (If)n     
m (式中、Mは金属原子または半金属原子の原子価mの陽
イオン、またはオキシメタル−またはジオキシメタル−
陽イオンまたはプロトンを表わし、 (〕 Xはn−塩基性無機プロトン酸原子価nの陰イオンまた
はハロゲン原子及び/またはヒドロキシル基で置換され
ても良い炭素原子数8までの脂肪族及び環状脂肪族カル
ボン酸、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び/またはニ
トロ基で置換されても良い芳香族モノ、ジ及びトリカル
ボン酸、燐及び硫黄の有機オキレ酸、燐の有機チオ酸か
ら成る群及びメルカプタンの群から選択されるn−塩基
性有機酸の原子価nの陰イオンを表わし、該無機酸及び
有機酸のpKa値は15.8以下であシ、Mがプロトン
を表わス場合にはpKo:値は11以下であシ、または
xnは次式: −OHまたはO で表わされる基または原子を表わし、 YH陽イオンまたは陰イオンとともに配位結合を形成す
る水分子または中性有機分子を表わし、 2は上記式1で表わされる化合物を表わし、pはゼロな
いし2の値を表わし、 qは1ないし8の値を表わし、 mは1ないし6の整数を表わし、 nは1ないし4の整数を表わす。) で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の錯
体化合物にも関するものである。
原子価mの陽イオンは、好ましくは周期律表の1aない
し8a族及び1bないし5b族の金属原子から、ランタ
ノイド、ウラン、プルトニウムから、または半金属原子
硼素、珪素、ゲルマニウム及びアンチモノから誘導され
る。原子価mの陽イオンは周期律表の元素の位lから誘
導される。本明細書において、原子価とは電荷mを持つ
金属イオンを形成するために金属原子が引き離すことの
できる電子の数mの意味である。常識であるが、元素は
異なった安定原子価状態、例えば錫では二価または四価
、クロムでは二価または二価、銅では一価または二価を
とシ得る。タングステンヘキサフルオリドは例えば原子
価6を示す。原子価mは好ましくは1ないし5であシ、
最も好ましくは1ないし5である。
陽イオンは好ましくは、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、ラン
タン、セリウム、ユウロピウム、チタン、ジルコニウム
、ハフニウム、トリウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステン、ウラン、マン
ガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、パラジウム
、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、
カドミウム、水銀、錫、鉛、ビスマスの金属原子から、
及び硼素、珪素、ゲルマニウム及びアンチモノの半金属
原子から誘導されるものである。
さらに好ましくは、陽イオンが、リチウム、ナトリウム
、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウ
ム、バリウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、
バナジウム、クロム、モリブデン、タングステン、マン
ガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、金、亜鉛、カ
ドミウム、錫、鉛及びビスマスから成る群の金属原子か
ら、及び硼素、珪素及びアンチモノから成る群の半金属
原子から誘導されるものである。
最も好ましくは、Mが水素原子、金属原子ポナトリウム
、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウ
ム、バリウム、アルミニウム、クロム、マンガン、鉄、
コバルト、ニッケル、銅、銀、亜鉛、カドミウム、水銀
、錫、鉛及び半金属原子l硼素または珪素、特にカルシ
ウム、バリウム、銅、ニッケル、鉄またはコバルトヲ表
わす化合物である。
多くの金属原子は、1個または2個の酸素原子を含有す
るオキシメタル陽イオンを形成することもできる。これ
らの陽イオン中、チタニル基、バナジル基、ジルコニル
基及びウラニル基が好ましい。四価の陽イオンタングス
テニル基及び−価の陽イオンアンチモニル基及びビスマ
シル基もまたあげ得る。
陰イオンが誘導される無機酸及び前に定義した有機酸は
、10以下のpKa値を有し、好ましくは4以下のpK
a値を有する。最も強い酸のpKa([iは、約−10
である。常識ではあるが、pKa値は酸の強さの目安で
あシ、水系のプロトン分解でプロトン分解反応の平衡定
数の逆数の常用対数として定義される。同様の定義がp
Kb値にもまた適用され、塩基の強さの目安である。
強酸から誘導される式■で表わされる錯体化合物は特に
安定であることが解った。p K a値の上限158は
また弱酸として水も包含する。X基はオキソラジカル〇
−の意味を表わすと理解されても良い。
Xは上記した様なn−塩基性無機または有機プロトン酸
の陰イオン、またFioラジカルを表わす。この定義は
遊離の形で存在せず、それらの塩の形で例えばアンモニ
ウム塩としてのみ存在するグロトン@をも包含する。塩
基度nは、n個のグロトンの遊離によりmイオンに形成
される負の電荷数を示す。−塩基酸例えば塩酸の陰イオ
ンに加えて四塩基酸例えば珪酸またはチタン酸陰イオン
もまた知られておシ、その結果nは1ないし4の整数を
表わす。Xは重合性陰イオン例えば珪酸イオン、チタン
酸イオン、燐酸イオン、砒酸イオン、ジルコニウム酸イ
オン、バナジウム酸1オン、硼酸イオン、モリブデン酸
イオン、タングステン酸イオン及びアンチモン酸イオン
の重合性陰イオンをも包含する。
陰イオンXは好ましくは、ハロゲン化及びプソイドハロ
ゲン化水素酸及びセレン化水素酸、無機オキシ酸または
チオ酸、及び無機錯体酸の群から選択される無機プロト
ン酸から誘導される。プソイドハロゲン化水素の典型的
な例は次式: HF、 HCL、 HBr%HI、HC
N、 HCN0. HCN5及びHN。
で表わされる化合物である。
無機オキシ酸は好ましくは、炭素、窒素、燐、砒素、硫
黄、セレン、塩素、臭素及び沃素の元素または両性元素
及び半金属元素から誘導されるものである。無機チオ酸
は好ましくは次式:)1!Sで表わされる化合物であシ
、または炭素、バナジウム、モリブデン、タングステン
、錫、燻、砒素、アンチモン及び硫黄の元素から誘導さ
れるものである。
上記元素から成るオキシ酸の陰イオンの代表的な例は、
炭酸イオン、炭酸水素イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオ
ン、次亜燐酸イオン、亜燐酸イオン、オルト燐酸イオン
、ポリ燐酸イオン例えば二燐酸イオン、メタ燐酸イオン
例えばメタ燐酸イオン、メタ三燐酸イオンまたはメタ四
燐酸イオン、フルオロ燐酸イオン、亜砒酸イオン、砒酸
イオン、亜硫酸イオン、硫酸イオン、ベルオクソニ硫酸
イオン、チオ硫酸イオン、亜ニチオン酸イオン、ニチオ
ン酸イオン、ピロ亜硫酸イオン、ポリチオン酸イオン、
フルオロ硫酸イオン、セレン酸イオン、亜テルル酸イオ
ン、テルル酸イオン、次亜塩素酸イオン、亜塩素酸イオ
ン、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、亜臭素酸イオン、
臭素酸イオン、沃素酸イオン、過沃素酸イオンである。
硫化物に加えてチオ酸の陰イオンは、ポリ硫化物イオン
例えば二硫化物イオン、チオ炭酸イオン、ジチオ炭酸イ
オン、トリチオ炭酸イオン、チオバナジウム酸イオン、
チオモリブデン酸イオン、チオタングステン酸イオン、
チオ錫酸イオン、チオアンチモン酸イオン、チオ砒酸播
イオン、チオ亜砒酸イオン、チオ亜アンチモン酸イオン
、トリチオ燐酸イオン、テトラチオgf4[イオン及び
トリチオ亜燐酸イオンである。
両性元素及び半金属元素のオキシ酸の代界的な例は、硼
酸イオン、メタ硼酸イオン、珪酸イオン、メタ珪酸イオ
ン、グルマニクム酸イオン、亜アンチモン酸イオン、ア
ンチモン酸イオン、アルミン酸イオン、チタン酸イオン
、ジルコニウム酸イオン、バナジウム酸イオン、クロム
酸イオン、ニクロム酸イオン、モリブデン酸イオン、タ
ングステン酸イオン、マンガン酸イオン、過マンガン酸
イオン、亜錫酸イオン及び錫酸イオンである。
無機錯体酸の陰イオンによ)中心金属または半金属原子
を含有すること及びアシド配位子全キレート化すること
からなるものを意味する。
適当な金属及び半金属の例は、硼素、珪素、ゲルマニウ
ム、砒素、アンチモン、アルミニウム、チタン、ジルコ
ニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリ
ブデン、タングステン、マンカン、亜鉛、カドミウム、
鉄、コバ/l/)、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、
パラジウム、オスミウム、イソジウム、白金、銅、銀、
金、錫、鉛及びビスマスである。適当なアシド配位子の
例は、塩化物イオン、好ましくは弗化物イオン及び塩化
物イオン、グンイド塩化物イオン、好ましくはシアン化
物イオン及びチオシアン化物イオン、次式ニーCOで表
わされる基及び蓚酸イオンである。この様な錯体陰イオ
ンは基本的に次式: %式%) (式中、Mは金属または半金属イオンを表わし、X′は
アシド配位子を表わし、nは金属または半金属の原子価
及びアシド配位子の電荷に帰因する塩基度(負電荷)を
表わす。) に属する。多くの錯体陰イオンのうち、多核陰イオンも
知られていることも、ここで触れておくべきである。例
えば、テトラフルオロ硼fi(オン、ヘキサフルオロ珪
酸イオン、ヘキサフルオロ砒酸イオン、ヘキサフルオロ
アンチモン酸イオン、ペンタフルオロアンチモン酸イオ
ン@)、ヘキサフルオロ燐酸イオン、テトラフルオロア
ルミン酸イオン、ヘキサフルオロアルミン酸イオン、ヘ
キサフルオロチタン酸イオン、ヘキサフルオロモリブデ
ン酸イオンまたはへキサフルオロタングステン酸イオン
、ヘキサフルオロクロム酸イオン(2)、ヘキサフルオ
ロ鉄酸イオン、ヘキサフルオロコバルト酸イオン、ヘキ
サフルオロ白金酸イオン、テトラフルオロ亜鉛酸イオン
、ヘキサフルオロ錫酸イオン、ヘキサフルオロ鉛酸イオ
ン、ヘキサフルオロマンガン酸イオン、ヘキサフルオロ
ロジウム酸イオン、ヘキサフルオロタンタル酸イオン、
ヘキサフルオロニオブ酸イオン、ヘキサクロロアルミン
酸イオン、ヘキサクロロチタン酸イオン、ヘキサクロロ
バナジウム酸イオン、テトラクロロバナジウム酸イオン
、ヘキサクロロクロム酸イオン、ヘキサクロロマンガン
酸イオン、ヘキサクロロアルミン酸イオン、ヘキサクロ
ロタングステン酸イオン、ヘキサクロロ鉄酸イオン、テ
トラクロロニッケル酸イオン、ヘキサヨードテクネチウ
ム酸イオン、ヘキサクロロレニウム酸イオン、ヘキサク
ロロルテニウム酸イオン、ヘキサクロロオスミウム酸イ
オン、ヘキサクロロ錦酸イオン、ヘキサクロロ鉛酸イオ
ン、ヘキサクロロアンチモン酸イオン、ヘキサクロロビ
スマス酸イオン、テトラブロモカドミウム酸イオン、テ
トラシアノ亜鉛酸イオン、テトラクロロ−、テトラブロ
モ−またはテトラヨード水銀酸イオン、テトラシアノ水
銀酸イオン、テトラチオシアン酸水銀酸イオン、へΦ丈
シアノバナジウム酸イオン、トリ蓚酸バナジウム酸イオ
ン、ヘキサシアノクロム雛イオン、トリ蓚酸クロム酸イ
オン、ペンタシアノニトロンクロム酸イオン、ヘキサシ
アノマンガン敵イオン、ヘキサチオシアン酸マンガン酸
イオン、トリ蓚酸マンガン酸イオン、ヘキサシアノ鉄酸
イオン、テトラシア/コバルト酸イオン、テトラシアノ
ニッケル酸イオン、テトラシアノカプトレート、テトラ
蓚酸ジルコニウム酸イオン、ヘキサロダン酸モリブデン
酸イオン、オクタシアノモリブデン酸イオン、オクタシ
アノタングステン酸イオン、オクタシアルニクム酸イオ
ン、ヘキサジ7ノ白金酸イオン、ベキサシ7ノオスミウ
ム酸イオン、テトラシ7ノハラシウム酸イオン、ペンタ
カルボニルマンガンミツイオン、テトラカルボニル鉄収
イオン、テトラカルボニルコバルト酸イオンである。
多くの酸錯体は遊離の形で知られている、しかし他のも
のは塩の形、例えばアンモニウム塩でのみ知られている
Xはハロゲン原子またはヒドロキシル基で置換されても
良い炭素原子数8以下、好ましくは1ないし4のn−塩
基性脂肪族または環状脂肪族カルボン酸の陰イオンであ
っても良い。カルボン酸は好ましくはα−位で置換され
、特−に弗素原子、塩素原子または臭素原子によジ置換
され、そして好ましくは一塩基酸または二塩基酸である
。その様な陰イオンは例えば、蟻酸イオン、酢酸イオン
、グロビオン酸イオン、酪酸イオン、蓚酸イオン、マロ
ン酸イオン、コハク酸イオン、フマル酸イオン、マレイ
ン改イオン、ジチオプロピオン酸イオン、ヒドロキシ酢
酸イオン、モノ−、ジー及びトリブロモ酢酸イオン、ま
たは七ノー、ジー及びトリクロロ酢酸イオン、α−クロ
ロプロピオン酸イオン、α−クロロマロン酸イオン、α
−ブロモマロン故イオン、1゜2−ジ−クロロコハク酸
イオンまたは1.2−ジブロモコハク酸イオンである。
Xはハロゲン原子好ましくは弗素原子、塩素原子または
臭素原子、またはニトロ基で置換されても良い−ないし
三塩基性安息香酸及びナフタリン酸から成る群から選択
されることが好ましい炭素原子数12以下の芳香族カル
ボン酸の陰イオンであっても良い。その様な陰イオンは
例えば、安息香酸イオン、イソフタル酸イオン、テレフ
タル酸イオン、2−ナフテン酸イオン、2.6−ジナフ
テン酸イオン、クロロ安息香酸イオン及びニトロ安息香
酸イオンである。
Xは燐及び硫黄の有機オキシ酸及び燐の有機チオ酸陰イ
オンであっても良い。その様な酸は、好tしくけホスホ
ン酸、ホスフィン酸、チオホスホン酸、チオホスフィン
酸、スルホン酸及びスルフィン酸である。燐を含む酸は
下記一般式:%式% (式中、Wはハロゲン原子好ましくは弗素原子またh塩
素原子により置換されても良い、好ましくは炭素原子数
18以下最も好ましくは8以下の脂肪族または芳香族炭
化水素基を表わし、V及びX#は独立して酸素原子また
は硫黄原子を表わし、及びぎは次式: で表わされる基、またけ水素原子、またはWとは独立し
てtと同じ意味を表わす。)で表わされうる。
硫黄を含むオキシ酸は次式: %式% (式中、Feは上記定義と同じ意味を表わし、yはゼロ
または1を表わし、Wは弗素原子または塩素原子または
炭素原子数1ないし乙のアルキル基で置換されても良い
直鎖または分岐鎖アルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアルアルキル基を表わすことができる)で
表わすことができる。シクロアルキル基は好ましくけシ
クロヘキシル基であシ、そしてアリール基及びアルアル
キル基は好ましくはそれぞれフェニル基及びナフチル基
から誘導されるものである。
その様な基は例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、イソブチル基、オクチル基、オクタデシル
基、フェニル基、ナフチル基、p−メチルフェニル基、
ブチルフェニル基、シフチルフェニル基、ヘキシルフェ
ニル基、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロフェ
ニル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基であ
る。
Xは好ましくは炭素原子数18以下、最も好ましくは1
2以下のメルカプタンの陰イオンであっても良い。メル
カプタンは好ましくは次式:(式中、R6は酸素原子を
介在しても良い直鎖または分岐鎖アルキル基を表わし、
またはヒドロキシアルキル基、アルコキシカルボニルア
ルキル基、フェニル基または炭素原子数1ないし12の
アルキル基で置換されても良いフェニル基を表わす。) で表わされるものである。その様な基は例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、β−ヒドロキ
シエチル基、β−ヒドロキシプロピル基、アルコキシカ
ルボニルメチル基及び!−アルコキシカルボニルエチル
基例えばインオクトキシカルボニルメチル基またはイソ
オクトキシカルボニルエチル基、フェニル基及びノニル
フェニル基である。
陰イオンXは部分的にエステル化された、好ましくは炭
素原子数1ないし12のアルカノールまたはフェノール
で部分エステル化された、二塩基酸ないし四塩基酸から
誘導されても良い。
上記式■中、Xが前に定義したのと同じ意味を表わす式
■の錯体化合物、並びにXがアルコレート陰イオンを表
わす1種またはそれ以上の式■で表わされる化合物の混
合物を含有する混合物もまた本発明の範囲内である。ア
ルカル−ト陰イオンは好ましくは炭素原子数1ないし8
のアルカノールまたはフェノールから誘導されうるがそ
の場合、Xは同時に式1の化合物を錯体化することから
誘導されるアルコレートアニオンであってもよい。好ま
しくはXは単独に最後に述べたアルコレート陰イオンで
ある。これらの混合物は前記のアルコール及び少なくと
も二価の金属または半金属から誘導される金属アルコレ
ートまたは半金桐アルコレートを次式:HX  で表わ
される無水化合物の過剰量または次式:AX で表わさ
れるアンモニウム塩と反応させることによシ得られる。
この反応は、不規則な混合物をもたらし、その組成は過
剰量によシ大きく左右される。この混合物は、未反応の
出発物質をも含有していてよい。Xがアルカル−トまた
はフェルレート陰イオンであるならば、金属または半金
属のアルコレートまたはフェルレートの反応生成物を、
式1で表わされる過剰の錯化する化合物と反応させるの
が好都合である。
好ましいX基の代表的なものは例えば、酸化物イオン、
水酸化物イオン、弗化物イオン、塩化物イオン、臭化物
イオン、沃化物イオン、シアン化物イオン、シアン酸イ
オン、チオシアン化物イオン、アジ化物イオン、過塩素
酸イオン、臭素酸イオン、沃素酸イオン、過沃素酸イオ
ン、過マンガン酸イオン、硫化物イオン、硫化水素イオ
ン、二弗化水素イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、亜
硫酸イオン、硫酸イオン、チオ硫酸イオン、硫酸水素イ
オン、フルオロ硫酸イオン、亜硫酸水素イオン、燐酸イ
オン、燐酸水素イオン、亜燐酸イオン、次亜燐酸イオン
、メタ燐酸イオン、ポリ燐酸イオン、モノフルオロ燐酸
イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、チオ炭酸イオン
、ジテオ炭酸イオン、トリチオ炭酸イオン、カルバミン
酸イオン、キサントゲン酸イオン、トリチオ燐酸イオン
、テトラチオ燐酸イオン、トリチオ亜燐酸イオン、珪酸
イオン、メタ珪酸イオン、チタン酸イオン、硼酸イオン
、メタ硼酸イオン、モリブデン酸イオン、バナジウム酸
イオン、アルミン酸イオン、クロム酸イオン、ニクロム
酸イオン、セレン酸イオン、タングステン酸イオン、亜
砒酸イオン、砒酸イオン、アンチモン酸イオン、錫酸イ
オン、チオ亜砒酸イオン、チオ砒酸イオン、チオアンチ
モン酸イオン、チオ錫酸イオン、チオモリブデン酸イオ
ン、チオタングステン酸イオン、テトラフルオロ硼酸イ
オン、ヘキサフルオロ珪酸イオン、ヘキサフルオロチタ
ン酸イオン、ヘキサフルオロアルミン酸イオン、ヘキサ
クロロ錫酸イオン、ヘキサクロロ鉄酸イオン、ヘキサシ
アノ鉄酸イオン、オクタシアノモリフ゛デン酸イオン、
ヘキサフルオロ・アンチモン酸イオン、ヘキサシアノク
ロム酸イオン、テトラシアノニッケル酸イオン、トリオ
クサラトマンガン酸イオン、メチルホスホン酸イオン、
メチルホスフィン酸イオン、フェニルホスホン酸イオン
、トシレート、フェニルスルホン酸イオン、メチルスル
フィン酸イオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、グロピオン
酸イオン、安息香酸イオン、テレフタル酸イオン、トリ
フルオロ酢酸イオン、トリクロロ酢酸イオン、クロロ安
息香酸イオン、トリフルオロメチルスルホン酸イオン、
蓚酸イオン、マロン酸イオン、マレイン酸イオン、フマ
ル酸イオン、ヒドロキシ酢酸イオン、ナフチルスルホン
酸イオン、ジチオグロピオン酸イオン、メチルメルカプ
チドイオン、フェニルメルカプチドイオン、オクトキシ
カルボニルメチルメルカプチドイオンまたはβ−ヒドロ
キシエチルメルカグチドイオンである。
特に好ましいX基は、酸化物イオン、水酸化物イオン、
弗化物イオン、臭化物イオン、沃化物イオン、シアン化
物イオン、硫化物イオン、硫化水素イオン、硝酸イオン
、亜硫酸イ′オン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐酸
イオン、亜燐酸イオン、燐酸水素イオン、メタ燐酸イオ
ン、ポリ燐酸イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、珪
酸イオン、メタ珪酸イオン、蟻酸イオン、酢酸イオン及
び蓚酸イオンであシ、塩化物イオン、燐酸水素イオン、
燐酸イオン及び硫酸イオンが最も好ましい。
式■で表わされる化合物中、式■のこれらの陰イオンは
、pKa値が15以下の無機酸及びpKa値が4以下の
有機酸から誘導されるものが好ましい。Mがプロトンで
ある場合、pKa値は好ましくは9.5以下であり、最
も好ましくは4以下である。
Y))式■で表わされる化合物中、陽イオンまたは陰イ
オンとも配位結合を形成する水分子を表わしても良い。
即ち結晶水の形であることができる。時に水分子を完全
に除去することは不可能である。その化合物は全熱水を
含まないかまたはほんの少し水を含有することが好まし
い。
Yは配位結合を形成する有機分子であっても良く、好ま
しくはアルコール、エーテル、酸アミド、スルホキシド
またはスルホンであシ、例えばメタノール、エタノール
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホンまたはテトラメチルスル
ホンである。式■で表わされる錯体化合物は、それらが
相当する溶媒中で製造される場合には、該化合物の少し
の残留全を含んでいても良い。
しかしながら、通常上記の水分子及び有機化合物は、完
全に除去することができる、そこでpは好ましくはゼロ
ないし1の値であシ、最も好ましくはゼロである。
qの値は式■で表わされる化合物中の鉛体を形成してい
る式Iで表わされる化合物の数を示す。qの値は好まし
くは1ないし4であシ、特に1まだは2であシ、最も好
ましくは1である。
式■で表わされる化合物は、西ドイツ国特許第2330
906号または米国特許第4404408号及び同43
56148号明細書に開示されたのと同一のまたは類似
の方法で製造できる。
本発明はさらに、 (a)  次式: %式% (式中、M%X%Y1m及びnは上記定義と同じ意味を
表わし、p′はpと無関係にゼロないし10の値を表わ
す。) で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水α
化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の1
モル当量を、次式1:(式中、n、x、m及びR2は上
記定義と同じ意味を表わす。) で表わされる化合物のq(1ないし8の値を表わす。)
モル当量と反応させ、そして使用した溶媒を除去するか
、または fb)  (a)において得られた反応生成物を、陽イ
オンMまたは陰イオンXの化合物と反応させて、イオン
置換反応により該陽イオンMまたは該陰イオンXを他の
陽イオンまたは陰イオンに置換する、まだは (C)  陽イオンMから成る金属アルコレートまたは
半金属アルコレート、またはプロトン性オキシ酸エステ
ルを上記式1で表わされる化合物のqモル当量と反応さ
せて、そして生成した錯体化合物を (α)次式: で表わされる酸、または次式:  Xn (式中、Aはアンモニウム陽イオンを表わ丸)で表わさ
れるアンモニウム塩と化学量論的割合で反応させ、そし
て生成するアルコール、アミンまたはアンモニアを除去
するか、または (ロ)酸無水物、酸ハロゲン化物または基Xが透導され
る酸の酸エステルの化学量論的量とを反応させ、そして
生成するアルコールを除去する、 ことより成る式■で表わされる化合物の製造方法にも関
する。
(a)の変法は、塩、水酸化物、酸化物または酸を式1
で表わされる化合物と直接反応させることよシ「直接方
法」と名づけでも良い。この方法は溶媒を用いないで行
なわれても良いが、好ましくけ溶媒中例えば水中、水性
有機系中または有機溶媒中性なうのが良い。反応温度は
好ましくはO’Cないし150℃の範囲であル、特に1
5℃ないし100℃であシ、例えば20℃ないし50℃
である。溶媒系は錯体の形成ののちに例えば蒸留によシ
適宜除去される。
(b)の変法は、式■で表わされる錯体化合物をイオン
置換反応によ)、別の錯体化合物に変換する。これは錯
体にしようと所望する塩または酸が、使用される溶媒系
中、十分に溶解しない場合または直接の錯化が十分に進
まない場合に都合が喪い。変換灰石は、例えばイオン交
換反応または中和反応の形をとることができる。この方
法では、式1で表わされる錯体中陰イオンX″または陽
イオンMを別の陰イオンまたはj協イオンに交換するこ
とが可能である。反応条件及び反応媒体は反応<alに
準する。
(C)の変法は、錯化される陽イオンXの化合物が、使
用される溶媒に十分に浴解しない場合または、直接の錯
化が十分に進まない場合に特に適している。この場合、
陽イオンMのアルコレートまたはプロトン性オキシ酸の
エステルから出発する。すでlこ述べた様に、アルコレ
ートイオンまたはオキシ酸エステルのどちらかが生成錯
体中で変換される。好ましい反応灸件は反応(a)及び
Φ)に準する。
変法(b)において、例えば無水金属塩または半金属塩
またはプロトン酸を錯化する式Iで表わされる化合物と
直接反応させる。この反応は加熱により加速される。式
1で表わされる結晶化合物を使用した場合には、溶媒を
使用しないならば融点以上に反応温度を選択するのが都
合が良い。反応は塩が浴解した後では完全に進んでいる
。不浴分をひき続き濾過し取シ除くことができる。無水
塩は例えば次式: %式% で表わされる化合物である。例えば次式:HClまたは
HBr で表わされるガス状酸は、反応槽に満たされた式Iで表
わされる化合物中に導かれることができる。
別の製造方法は、結晶水を含有する金属塩または半金属
塩、または酸を使用し、そしてこれらを式Iで表わされ
る錯化化合物と反応させることよシ成る。この方法では
、結晶水は常圧または減圧下加熱によシ除去することが
でき、または炭化水素例えばヘキサン、ヘプタン、石油
エーテルまたはベンゼン、トルエン、キシレンまたはク
ロロホルムの様な有機溶媒との共沸蒸留により除去する
ことができる。
さらに別の方法では、式1で表わされる化合物を、適当
な有機溶媒中に無水塩または結晶水を含有する塩、また
は酸を溶解し、次にこの式Iで表わされる錯化化合物を
加えることにより得る。溶媒の除去後、所望の物質を得
る。この方法では、結晶水は通常溶媒と共に除去される
好ましい溶媒は式1で表わされる化合物を浴解すること
もできるものである。適当な溶媒は例えばメ脣−テルの
様なエーテル、テトラヒドロフラン、メタノール及びエ
タノールの様なアルコール、及ヒクロロホルム、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはアセトニ
トリルであシ、及び適当な塩は次式: %式% で表わされる化合物である。
好ましい製造方法の変法において、式■で表わされる錯
体化合物EXが水酸イオンを表わし金属水酸化物または
金属酸化物またはそれらの水素化物と水酸化物または酸
化物1モルにつきqモルの割合で式1で表わされる錯化
化合物とを反応させ、そして次に残存する金属陽イオン
の原子価に相当するヒドロキシル基の数に十分な水を加
えることによシ製造される。金属酸化物を使用する場合
には、水を除去すると最初にアルコレートが形成され、
反応の水によシ再び加水分解されることが考えられる。
この反応において、水浴液中でpKb値が9以下好まし
くは4.5以下である金属酸化物及び水酸化物を使用す
ることが好ましい。負の値は非常に強い塩基であること
を示す。例えばアルカリ金属及びアルカリ土類金属、−
価のタリウム及び銀の金属酸化物及び水酸化物である。
プロトン酸を使用する方法は、基本的に異なるものでは
ない。この様に錯体化されるプロトン酸は、溶媒なしに
または炭化水素の様な溶媒の存在下、式1で表わされる
錯化化合物に直接加えられる。次の反応において、反応
混合物を溶液が溌むまで温度が50℃を越えない様に冷
却することは有利である。希釈した水性プロトン酸を使
用する場合、式Iで表わされる錯化化合物の存在下、共
沸蒸留により水を除去することは有利であシ、溶媒を使
用しても良い。
次式: %式% で表わされる化合物において、nは好ましくは1ないし
3の整数t−表わし、そして酸のpKa値1j1a8以
下であシ、好ましくは7以下、最も好ましくは4以下で
ある。説明のために、1S8というpKa値は最も弱い
酸である水を包含することをつけ加えておく。
製造の全ての変法において、反ろは溶媒の存在下、不存
在下で行なわれる。特に適した有機溶媒はエーテル例え
ばジエチルエーテル、アルコール例えばメタノール、エ
タノール及び好ましくは炭化水素例えばペンタン、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン及びキシレンで、これラバ本
発明の純粋な錯体化合物を得るために常圧または減圧下
蒸留によシ反応混合物から容易に除去され得る。蒸留の
前に不溶物を源過によシ除くことができる。さらに溶媒
の例は酸アミド例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ホルムアミド0そしてスルホキシド及び
スルホン例えばジメチルスルホキシド、ジメチルスルホ
ン及びテトラメチルスルホンである。
反応は室温(約20℃)から150℃で行なわれ、好ま
しくは50℃までである。反応物(無水プロトン酸、酸
無水物、酸エステル、酸ハロゲン化物)を加えると、強
い発熱反応が通常観察される。従っである場合には反応
混合物を冷却するのが便利である。溶媒を除去するため
に、反応混合物を加熱することが必要である。
同様な好ましい反応栄件は方法(b)にも適用される。
方法(C)で使用した金属、半金属及びオキシメタルア
ルコレートを、別の既知の方法で製造しても良い。この
ことに関する記述は例えば米国特許第4404408号
第14段第38行ないし第15段第30行にその可能性
が開示されている。さらにその詳細は、同第15段第3
1行ないし第20段第19行に、1式1で表わされる化
合物”は“Z”という表現で見られる。該頁に関しては
本明細書の記載の部分として考慮される。本発明の錯体
化合物中の整数qは米国特許第4404408号に開示
されたものよシ小さいということも考慮すべきである。
式■で表わされる錯体化合物は、陰イオン、陽イオン及
び式1で表わされる錯化化合物及び、それらの含有比に
依存して、結晶性、ワックス状、流動性また粘性濃度を
呈する。それらは著しい高温安定性を有し、これは式I
で表わされる錯化化合物が堅固に結合していることを示
す。
この記載は、多くの代表的物質が、その組成を変えるこ
となしに適当な溶媒から再結晶させることができる結晶
性化合物であるという事実によシ支持されている。
特に注目に値する特性は、多くの有機溶媒非極性、液体
炭化水素の様な非プロトン性溶媒にさえも式■で表わさ
れる化合物が驚くべき高い溶解度を示すことである。式
Iで表わされる錯化化合物の種類及び数によシ溶解度に
影響を及ぼすことは可能である。天然及び合成ポリマー
、潤滑油、燃料及び作動液への適合性もまた非常に良い
式■で表わされる化合物は非常に良好な静電防止及び安
定化特性を有する。
従って本発明は天然または合成ポリマー、天然または合
成潤滑剤、燃料または作動液並びに少なくとも1種の式
■で表わされる錯体化合物から収る組成物にも関する。
本発明の組成物中の天然及び合成ポリマーの例を次に示
す。
1、−E/オレフィン及びジオレフィンかう誘導される
ポリマー、例えば場合をこより架橋していてもよいポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブ
テン−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソグレンま
たはポリフタジエン、並びにシクロオレフィン例、tば
シクロペンテンもしくはノルボルネンのポリマー。
′2−1)で示したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンおよびポリイソブチレンの混合物。
五 モノオレフィンおよびジ−オレフィン同士または他
のビニルモノマーとのコポリマー、例エバ、エチレン/
フロピレンコポリマー、プロピレン/ブテンー1;ポリ
マー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン
/ブテン−1コポリマー、プロピレン/ブタジェンコポ
リマー、イソブチレン/イソグレンコポリマー、エチレ
ン/アルキルアクリレートコポリマー、エチレン/アル
キルメタクリレートコポリマー、エチレン/ビニルアセ
テートコポリマーまたはエチレン/アクリル酸コポリマ
ー及びそれらの塩(イオノマー)ならびにエチレンとプ
ロピレン及びジエン、例工ばヘキサジエン、ジシクロペ
ンタジェンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリ
マー 〇 4、 ポリスチレン及びポリ−(p−メチルスチレン)
5 スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/マレイン酸無水物また
はスチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート:
スチレンコポリマーと他のポリマー、例えば、ポリアク
リレート、ジエンポリマーまたはエチレン、/プロピレ
ン/ジェンターポリマーから得られる耐衝撃性樹脂混合
物:さらにまたスチレンのブロックコポリマー、例エバ
、スチレン/フタジエン/スチレン、スチレン/イソプ
レン/スチレン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチ
レンまたはスチレン/エチレン/ブチレン/スチレン。
& スチレンのグラフトコポリマー、例えば、スチレン
の結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロニ
トリルの結合したポリブタジェン、スチレン及びマレイ
ン酸無水物の結合したポリブタジェン、スチレン及びア
ルキルアクリレートもしくはメタクリレートの結合した
ポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルの結合
したエチレン/プロピレン/ジェンターポリマー、スチ
レン及びアクリロニトリルの結合したポリアルキルアク
リレートまたはポリアルキルメタクリレートまたはスチ
レン及びアクリロニトリルの結合したアクリレート/ブ
タジェンコポリマー、及びこれらと5)に挙げたコポリ
マーとの混合物、例えば、人BS、MBS、人8A−!
たはAESポリマーとして知られるコポリマー混合物。
Z ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロログレン、
塩素化ゴムまたは塩素化もしくはクロロスルホン化ポリ
エチレン及ヒエビクロロヒドリンのホモ及びコポリマー
、特にハロゲン含有ビニル化合物から得られるポリマー
、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リフッ化ビニルまたはポリフッ化ビニリデン;並びにこ
れらのコポリマー、たとえば塩化ビニル/塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢
酸ビニルコポリマー。
& α、!−不飽和酸及びその誘導体から誘導されるポ
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
9、 8)に挙げたモノマー同士のコポリマーまたは8
)lこ挙げたモノマーと他の不飽和モノマーとのコポリ
マー、例えば、アクリロニトリル/ブタジェンコポリマ
ー、アクリロニトリル/アルキルアクリレートコポリマ
ー、アクリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレー
トコポリマー、アクリロニトリル/ノ〜ロゲン化ビニル
コポリマーまたはアクリロニトリル/アルキルメタクリ
レート/ブタジェンターポリマー。
1(L  不飽和アルコール及びアミンまたはそれらの
アシル誘導体またはアセタールから誘導されるポリマー
、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ステアリン酸ビニル、ポリビニルベンゾエート、ポリビ
ニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフ
タレートまたはポリアリルメラミン。
11、環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド
、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシ
ジルエーテルとのコポリマー。
12− ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、
ならびにコモノマー、たとえばエチレンオキシドを含有
するポリオキシメチレン。
1エ ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレンス
ルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレ
ンの混合物。
抹 末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエステル及
びポリブタジェンと1.脂肪族または芳香族ポリイソシ
アネートとから誘導されるポリウレタン、並びにそれら
の前駆物質。
は ジアミンおよびジカルボン酸から、および/または
アミノカルボン酸もしくは相当するラクタムから誘導さ
れるポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポリアミ
ド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6
/10、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリ−2,
4,4−トリメチルへキサメチレンテレブタルアミド及
びポリ−m−フェニレンイソフタルアミド、並びにこれ
らとポリエーテル、たとえば、ポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレン
グリコールとのコポリマー。
1& ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよ
びポリベンズイミダゾール。
1z  ジカルボン酸およびジアルコールから、及び/
またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンか
ら誘導されるポリエステル、例えば、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、およ
びポリヒドロキクベンゾエート、並びに末端水酸基をも
つポリエーテルから誘導されルフロックホリエーテルー
エステル。
1& ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネー
ト。
侃 ポリスルホン、ポリエーテル−スルホン並びにポリ
エーテルケトン。
2α アルデヒドと、フェノール、尿素またはメラミン
とから誘導される架橋ポリマー、例えば、フエ/−ル/
ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂及
びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。
2t  乾性及び不乾性アルキド樹脂。
乙 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと
の、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステルから
誘導される、不飽和ポリエステル樹脂並びにそのハロゲ
ン原子を含む難燃性の変性樹脂。
ム 置換アクリル酸エステル、例えば、エポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−
アクリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂。
24、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリカーボネートマた
はエポキシ樹脂と混合したアルキド樹脂、ポリエステル
樹脂及びアクリレート樹脂。
ム ポリエポキシド、例えば、ビス−グリシジルエーテ
ルまたは脂環式ジエボキシドから誘導される架橋エポキ
シ樹脂。
2& 天然のポリマー、例えば、セルロース、天然ゴム
、ゼラチン及びそれらを重合同族体として化学変性した
誘導体、例えば、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース、セルロースブチレート並ヒにセルロースエーテル
、例えばメチルセルロース。
d 上記のポリマーの混合物(ポリブレンド)、例えば
PP/EPDM 、ポリアミド6 /EPDMt 7’
Ci ABS、PVC/EVA、 PVC/ABS、 
PVC/MBS、PC/ABS%PBTP/ABS。
玉 純粋な七ツマー化合物またはこれらの混合物である
天然及び合成有機材料、例えば、鉱油、動物及び植物脂
肪、油およびワックス、または合成エステル(例えば、
フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリ
テート)をベースとする、油、脂肪及びワックス並びに
適当な重量比で混合された合成エステルと鉱油との混合
物、例えばポリマーの成形剤として或いは繊維紡腋油と
して使用されるもの、並びに上記材料の水性エマルジョ
ンとして使用される混合物。
29、  天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例
えば、天然ゴムラテックスまたはカルボキシル化スチレ
ン/ブタジェンコポリマーのラテックス。
本発明の組成物は、例えば熱可塑性樹脂及び少なくとも
1種の式且で表わされる錯体化合物を含有するもの並び
にエラストマー及び少なくとも1種の式■で表わされる
錯体化合物全含有するものである。
上記のクラスのポリマーを含有する組成物は、さらに別
の通常の添加剤、式Iで表わされる化合物の使用のため
に上記した例えばクラス1ないし9の酸化防止剤、並び
に1種またはそれ以上の下記の添加剤を加えても良い。
例えば5′−メチル−13′、5′−ジー第三ブチル−
15′−第三プチル−15’−(1,1,5,3−ナト
2メチルブチル)−15−クロロ−5′。
5′−ジー第三ブチル−15−クロロ−31−第三ブチ
ル−5′−メチル−13′−第二ブチル−・5′−第三
プチル−14′−オクトキシ−13′、5/−ジー第三
アミル−13/、s/−ビス−(α、α−ジメチルベン
ジル)−誘導体。
例えば4−ヒドロキシ−14−メトキシ−14−オクト
キシ−14−デシルオキシ−14−ドデシルオキシ−,
4−ベンジルオキシ−14,2’、4’−)リヒドロキ
シー及び2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘
導体。
2−3  置換および非置換安息香酸エステル例えばフ
ェニルサリチレート、4−第三プチル−フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス−(4−alE三ブチルベンゾイ
ル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾル7ノール、3
.5−ジーg三ブチルー4−ヒドロキシ安息香酸2,4
−ジー第三ブチル−フェニルエステル及び5.5−ジー
第三ブチル−4−ヒドロキ7安息香酸ヘキサデシルエス
テル。
例えばα−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸エ
チルエステルまたはイソオクチルエステル、α−カルボ
メトキシ−シンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−
p−、itチル−p−メトキシ−シンナミル酸メチルエ
ステルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−p
−メトキシ−シンナミル殴メチルエステルN−(//−
カルボメトキシ−I−シアンビニル)−2−メチル−イ
ンドリン。
例えば2.2′−チオ−ビス−(4−(1,f、35−
テトラメチルブチル)フェノール〕の、所望によpn−
ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはN−シクロ
ヘキシル−ジェタノールアミンのような他の配位子を含
んでいてもよい1:1錯体または1:2錯体、ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−s*s
−シーtiX三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキ
ルエステル例えばメチル、エチルまたはブチルエステル
のニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば2−ヒ
ドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケトンオキ
シムのニッケル錯体、所望によシ他の配位子を含んで^
てもよい1−7エニルー4−ラウロイル−5−ヒドロキ
シ−ピラゾールのニッケル錯体。
2−6  立体障害アミン 例えばビス−(2,2,6,6−チトラメチルペリジル
)セバケート、ビス−(L 2e 2e 6s6−ベ/
タメチルビペリジル)セバケート、n−ブチル−3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−マロン酸
ビス−(1,2,2゜6.6−ペンタメチルピペリジル
)エステル、1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸と
の縮合生成物、N、 N’−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)−へキサメチレンジアミンお
よび4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−5−)リアジンとの縮合生成物、トリス−(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ビペリジルンニトリ
ロトリアセテート、テトラキス−(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル) −1,2,3゜4−ブ
タンテトラカルボン酸、1.1’−(1,2−エタンジ
イルンービス−(3,5,5,5−テトラメチルピペラ
ジノン)。
例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2
,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジー第三ブチル
−オキサニリド、2.2’−ジ−ドブフルオキシ−5,
5′−ジー第三プテルオキテニリド、2−エトキシ−2
′−エチルオキサニリド、N、N’−ビス−(5−ジメ
チルアミノプロヒル)−蓚酸ジアミド、2−エトキシ−
5−第三プチル−2′−エチルオキサニリドおよびこれ
と2−エトキシ−2−エチル−5,4−シー第三ブチル
オキサニリドとの混合物、オルト−およびバラ−エトキ
シm=置換オキサニリドの混合物並びにオルト−および
バラ−エトキシm=置換オキサニリドの混合物。
五 金塊不活性化剤 例えばN、N’−ジフェニル蓚酸ジアミド、N−サリテ
2ルーN′−サリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス
−サリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス−(3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヒドラジン、5−サリチロイルアミノ−1,2,
4−)リアゾール、とスーペンジリデンー蓚酸ジヒドラ
ジド。
4 ホスフィツトおよびホスホナイト 例えばトリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
(ノニルフェニル)ホスフィツト、トリラウリルホスフ
ィツト、トリオクタデシ〃ホスフィツト、ジステアリル
ーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−(2
,4−シーM三7’テルフェニル)ホスフィツト、ジイ
ンデシルベンタエリトリトールジホスフィット、ジー(
2,4−ジー第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリルーツルビトールト
リホスフィツト、テトラキス−(2,4−ジー第三ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト
、3,9−ビス−(2,4−ジー第三ブチルフェノキシ
−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホス7
アスビロ[5,5]ウンデカン。
例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例として
はラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシル
エステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは2−メ
ルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペン
タエリトリトールテトラキス−(β−ドデシルメルカプ
ト)グロピオネート。
例えば沃化物および/または燐化合物と共に用いる銅塩
および2価マンガンの塩。
Z 塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジクアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例え
ばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパ
ルミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモンまたは
ピロカテコール錫。
a 造核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフ
ェニル酢酸。
2 充填剤および補強剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、タ
ルク、カオリン、実母、硫酸バリウム、金属酸化物およ
び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎加
工剤、静電防止剤、発泡剤。
さらに本発明の組成物は、例えば潤滑剤または作動液及
び少なくとも1種の式■で表わされる錯体化合物からな
るものでもある。
典型的な潤滑剤及び作動液は式Iで表わされる化合物を
混入させることに適していることをすでに記述した。式
■で表わされる化合物を含有することに加えて、潤滑剤
及び作動液組成物が、さらにその潤滑剤としての基体的
特性を改善するために1その他の添加剤を含有しても良
h0その様な添加剤は、酸化防止剤、金属不活性化剤、
防錆剤、粘度指数改良剤、流動点降下剤、分散剤、表面
活性剤、極圧添加物及び耐摩耗剤である。その様な添加
剤の個々のものは、前に式Iで表わされる化合物を含有
する組成物に関して、本明細書第42頁ないし52頁t
/cあげた。
式■で表わされる化合物は、ポリマー、潤滑剤、燃料及
び作動液組成物に対して、好ましくはα001ないし1
5重量%添加され、特に好ましくは(101ないし10
重量−であ勺、最も好ましくは[LOlないし5]i量
チ例えば[Lolないし3重蓋チ添加される。
それ故に本発明は、式Iで表わされる化合物の天然及び
合成ポリマー、並びに天然または合成潤滑剤または作動
液の安定剤及び静電防止剤としての使用方法にも関する
式Hで表わされる錯体化合物を、熱可塑性樹脂及びエラ
ストマー用の安定剤及び静電防止剤として、並びに潤滑
剤及び作動液用の極圧及び耐摩耗添加剤として使用する
のが好ましい。
安定剤として使用する場合には、式■で表わされる化合
物は例えば有効な熱安定剤(加工安定剤)及び性能安定
剤(例えば酸化防止剤)である。それらは、潤滑剤及び
作動液用の有効な極圧及び耐摩耗添加剤でもある。該化
合物が添加される熱可塑性樹脂ポリマー、エラストマー
、潤滑剤及び作動液は上にあげたものである。
(実施例) 下記の実施例においてさらに本発明の詳細な説明する。
部及びチは特にことわシがない限9重量に基づいたもの
である。
実施例1: アミノンルビトール1alF、  1− (t−ブチル
チオ) −2,3−二ポキンプロパン29.2 t 及
ヒメタノール100 ml t−攪拌し、2時間還流す
る。
わずかな濁シをg過によシ清浄にし、その揮発性物ヲロ
ータリエバボレーシッンによシ留去し、次式: %式% で表わされる化合物47.Of(理論値の99チ)40
  。
金、高粘性物質n   、L5202として得る。
実施例2: アミノンルビトール9f((105モル)、1−(1−
ノニルチオ)−2,3−エポキシプロパン2五81F(
[1L11モル)、メタノール2(]wJ及びテトラヒ
ドロフラン20dt−清筐溶液が得られるまで64℃で
還流する。わずかな濁りを濾過によシ除去し、混合物を
パックイン油52.8?で希釈シ、揮発性w’tロータ
リエバボレーシミンにより留去し、次式: %式% で表わされる化合物65.49(理論値のtool)を
高粘性液体n D :t4876として得る。
さらに実施例1の方法に従って製造した化合物を第1表
に示した。
化合物表5及び6の製造のために、N−メチルアミノン
ルビトール及びN−エチルアミツノルビトール及び相当
する1−アルキルチオ−2゜5−エポキシプロパンが概
そ等モル証使用された。
実施例10: N i CJ *・6H,OA 6 tをメタノール5
0d中に溶解させ、その溶液に実施例3で得たアミノン
ルビトールと1−(1−ドデシルチオ)−2,5−エポ
キシプロパンとの反応生成物115Fを加える。溶Kを
減圧下留去する。残余結晶水を減圧下40℃でトルエン
と共に定量的に除去し、次式二 OH −CH,−8−C1,l(□)、・N1Cjllで表わ
される錯体化合物12.5M”i、ヘプタン及びその他
の非極性溶媒に容易に溶解する淡緑色の樹脂状物質とし
て得る。この50%溶液は屈折inD =t4B66f
示す。
実施例11: 実施例fG[おいてN1CIz−6H20の代わシにC
u804 ・5H!Of使用すると、次式:%式% で表わされる錯体化合物を収i12.9fで、ヘプタン
及びその他の非極性溶媒に容易に溶解する炎室緑色のガ
ラス状物質として得る。パラフィン油中50チの拵液は
屈折率nD =14856を示す。
実施例12: Cu(OOCCHsン、−H,010Fをメタノールに
溶解し、実施例7で得たアミノンルビトール及び1−(
インオクチルオキシ) −2,5−エポキシプロパンの
反応生成物27.7fを加える。次に燐d 4.9 t
を加え、そして溶媒をロータリエバポレーターで真空下
留去する。残った遊離酸ばを真上下トルエンと共に定量
的に除去し、次式二〇H −CH@ −0−C@l−111)2 ・CuHPO3
で表わされる化合物31.5ftl”、トルエン及びキ
シレンに容易に溶解する青緑色のガラス状物質として得
る。キシレン中50チ溶液は屈折率nD =1.484
6f示す。
実施例13: 実施例3で得たアミノンルビトールと1−(1−ドデシ
ルチオ) −2,3−エポキシプロパンとの反応生成物
54.99 i )ルエン200d中に溶解する。この
溶液にBa (OH)1 ・8 Heo 15.8 ?
を加え、そして結晶水及び反応水?mf攪拌しなから留
去する。冷却しながら、実施例3の生成物をさらに54
.9f及び盪酸−水和物’saFを20℃で滴加する。
その混合物を20℃で15分間攪拌する、そしで真空下
蒸留すると、次式:で表わされる化合物812を、トル
エン、キシレン及びその他の非極性溶媒に容易に溶解す
る高粘性物質として得る。
実施例14: オルト燐酸2.5 ft:メタノールに溶解し、その溶
液に実施例2で得たアミノソルビトールと1−(t−ノ
ニルチオ) −2,5−エポキシプロパンとの反応生成
物1!L5ft−加える。溶媒を減圧下除去すると、次
式: %式% で表わされる化合物17.8fft、キシレンKg易に
溶解する樹脂状物質として得る。キシレン中50チ溶液
は屈折$nD =L5407f示す。
次式二 H −CH,−8−’ C,、H□)、・H3P0゜で表わ
される化合物は、実施例3の生成物を使用して類似の方
法で得られる。キシレン中50チ溶液は屈折率n D=
t 5029を示す。
さらに式…で表わされる化合物は米国特許第44044
08号明細書第23段、第32行ないし第26段第14
行の詳細な記述に基づいて製造できる。
さらに次式: %式% で表わされる化合物を式■で表わされる化合物と反応さ
せると、米国特許第4404408号明細書の第1表(
第25段ないし40段)及び表(%*I、実施例1ない
し204)の左側の欄に掲載されている式…で表わされ
る錯体(例えば実施例10ないし14または前に述べた
方法A−F、 )を得る。
融着荷重(WL)及び摩耗痕直径(W8D)をシェル四
球装置(IP 259/75、油及びグリース−四球マ
シンのための極圧及び摩耗潤滑試験)を使用して、極圧
添加剤の濃度の作用として決定する。
’vVL=融着荷重二四球が10秒以内KM!R着する
荷重 WSD =摩耗痕直径:荷重40ON、10分後の三靜
止球がつくる平均摩耗直径 試験流体はISOVo 100 の粘度の鉱油である。
結果を第2表に示す。
第2表: 使用実施例1で記述した器具を用い、水(トリエチルア
ミンでpHa5Kl整した)K対するWL及びWSD値
を、式Iで表わされる添加剤の有無に関し決定する。
結果を第3表に示す。
第5表: 使用実施例1及び2の試験において、実施例1.2及び
5ないし9の化合物で比較的良好な結果を得た。非常に
良好なWL及びWSD値は実施例10なりし14の化合
物で得られ、特に使用実施例1で述べた試験において良
好な結果を得た。

Claims (36)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)潤滑剤または作動液及び少なくとも1種の次式
    I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式 −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1(式
    中、X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わ
    される基を表わす。〕 で表わされる化合物から成る組成物。
  2. (2)上記式 I 中、Xが次式: −S−、−CH_2−または−O− で表わされる基を表わし、R^1が直鎖または分岐鎖の
    炭素原子数5ないし16のアルキル基を表わし、R^2
    がメチル基、エチル基または次式: −CH_2−CH(OH)−CH_2X−R^1(式中
    、X及びR^1が上記と同じ意味を表わす。)で表わさ
    れる基を表わし、そしてnが4の整数を表わす化合物を
    含有する特許請求の範囲第1項記載の組成物。
  3. (3)上記式 I 中、nが4の整数を表わす化合物を含
    有する特許請求の範囲第1項記載の組成物。
  4. (4)上記式 I 中、R^2がメチル基またはエチル基
    を表わす化合物を含有する特許請求の範囲第3項記載の
    組成物。
  5. (5)上記式 I 中、Xが次式: −S− で表わされる基を表わす化合物を含有する特許請求の範
    囲第1項記載の組成物。
  6. (6)上記式 I 中、R^2が次式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1で表
    わされる基を表わす化合物を含有する特許請求の範囲第
    1項記載の組成物。
  7. (7)上記式 I 中、R^1が炭素原子数8ないし12
    のアルキル基を表わす化合物を含有する特許請求の範囲
    第1項記載の組成物。
  8. (8)次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、または−O−CO− で表わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし
    22のアルキル基を表わし、そしてR^2は次式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1(式
    中、X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わ
    される基を表わし、またはXが次式:−S− で表わされる基を表わす場合には水素原子、炭素原子数
    1ないし8のアルキル基またはヒドロキシル基により置
    換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表わす。 〕 で表わされる化合物。
  9. (9)上記式 I 中、nが4の整数を表わす特許請求の
    範囲第8項記載の化合物。
  10. (10)上記式 I 中、Xが次式:−S− で表わされる基を表わす特許請求の範囲第8項記載の化
    合物。
  11. (11)上記式 I 中、R^2が次式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1で表
    わされる基を表わす特許請求の範囲第8項記載の化合物
  12. (12)次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1(式
    中、X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わ
    される基を表わす。〕 で表わされる化合物を、本来は親水性の金属及び半金属
    塩、金属及び半金属水酸化物及び金属及び半金属酸化物
    に、及びプロトン酸に親油性の性質を付与する両極性配
    位子として使用する方法。
  13. (13)次式II: M^m_n・X^n_m・pY・qZ(II)〔式中、M
    は金属原子または半金属原子の原子価mの陽イオン、ま
    たはオキシメタル−またはジオキシメタル−陽イオンま
    たはプロトンを表わし、 Xはn−塩基性無機プロトン酸の原子価nの陰イオンま
    たはハロゲン原子及び/またはヒドロキシル基で置換さ
    れても良い炭素原子数8までの脂肪族及び環状脂肪族カ
    ルボン酸、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び/または
    ニトロ基で置換されても良い芳香族モノ、ジ及びトリカ
    ルボン酸、燐及び硫黄の有機オキシ酸、燐の有機チオ酸
    から成る群及びメルカプタンの群から選択されるn−塩
    基性有機酸の原子価nの陰イオンを表わし、該無機酸及
    び有機酸のpKa値は15.8以下であり、Mがプロト
    ンを表わす場合には、pKa値は11以下であり、また
    はX^nは次式:−OHまたはO で表わされる基または原子を表わし、 Yは陽イオンまたは陰イオンとともに配位結合を形成す
    る水分子または中性有機分子を表わし、 Zは次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2−CH(OH)−CH−X−R^1(式中、
    X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わされ
    る基を表わす。) で表わされる化合物を表わし、 pはゼロないし2の値を表わし、 qは1ないし8の値を表わし mは1ないし6の整数を表わし nは1ないし4の整数を表わす。〕 で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の錯
    体化合物。
  14. (14)上記式II中、陽イオンが、リチウム、ナトリウ
    ム、カリウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム
    、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジ
    ウム、ランタン、セリウム、ユウロピウム、チタン、ジ
    ルコニウム、ハフニウム、トリウム、バナジウム、ニオ
    ブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、ウ
    ラン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、
    パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、
    金、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、鉛及びビスマスから
    成る群から選択される金属原子から、または硼素、珪素
    、ゲルマニウム及びアンチモンから成る群から選択され
    る半金属原子から誘導される特許請求の範囲第13項記
    載の化合物。
  15. (15)上記式II中、Mがプロトンを表わす場合には、
    酸のpKa値が7以下、好ましくは4以下である特許請
    求の範囲第13項記載の化合物。
  16. (16)上記式II中、陰イオンがハロゲン化またはプソ
    イドハロゲン化水素酸及びセレン化水素酸、無機のオキ
    シ酸またはチオ酸、及びアシド配位子との酸錯体から成
    る群から選択される無機プロトン酸から誘導される特許
    請求の範囲第13項記載の化合物。
  17. (17)上記式II中、Xが酸化物イオン、水酸化物イオ
    ン、弗化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、沃化
    物イオン、シアン化物イオン、シアン酸イオン、チオシ
    アン化物イオン、アジ化物イオン、過塩素酸イオン、臭
    素酸イオン、沃素酸イオン、過沃素酸イオン、過マンガ
    ン酸イオン、硫化物イオン、硫化水素イオン、二弗化水
    素イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、亜硫酸イオン、
    硫酸イオン、チオ硫酸イオン、硫酸水素イオン、フルオ
    ロ硫酸イオン、亜硫酸水素イオン、燐酸イオン、燐酸水
    素イオン、亜燐酸イオン、次亜燐酸イオン、メタ燐酸イ
    オン、ポリ燐酸イオン、モノフルオロ燐酸イオン、炭酸
    イオン、炭酸水素イオン、チオ炭酸イオン、ジチオ炭酸
    イオン、トリチオ炭酸イオン、カルバミン酸イオン、キ
    サントゲン酸イオン、トリチオ燐酸イオン、テトラチオ
    燐酸イオン、トリチオ亜燐酸イオン、珪酸イオン、メタ
    珪酸イオン、チタン酸イオン、硼酸イオン、メタ硼酸イ
    オン、モリブデン酸イオン、バナジウム酸イオン、アル
    ミン酸イオン、クロム酸イオン、二クロム酸イオン、セ
    レン酸イオン、タングステン酸イオン、亜砒酸イオン、
    砒酸イオン、アンチモン酸イオン、錫酸イオン、チオ亜
    砒酸イオン、チオ砒酸イオン、チオアンチモン酸イオン
    、チオ錫酸イオン、チオモリブデン酸イオン、チオタン
    グステン酸イオン、テトラフルオロ硼酸イオン、ヘキサ
    フルオロ珪酸イオン、ヘキサフルオロチタン酸イオン、
    ヘキサフルオロアルミン酸イオン、ヘキサクロロ錫酸イ
    オン、ヘキサクロロ鉄酸イオン、ヘキサシアノ鉄酸イオ
    ン、オクタシアノモリブデン酸イオン、ヘキサフルオロ
    アンチモン酸イオン、ヘキサシアノクロム酸イオン、テ
    トラシアノニッケル酸イオン、トリオクサラトマンガン
    酸イオン、メチルホスホン酸イオン、メチルホスフィン
    酸イオン、 フェニルホスホン酸イオン、トシレート、フェニルスル
    ホン酸イオン、メチルスルフィン酸イオン、蟻酸イオン
    、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、
    テレフタル酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、トリク
    ロロ酢酸イオン、クロロ安息香酸イオン、トリフルオロ
    メチルスルホン酸イオン、蓚酸イオン、マロン酸イオン
    、マレイン酸イオン、フマル酸イオン、ヒドロキシ酢酸
    イオン、ナフチルスルホン酸イオン、ジチオプロピオン
    酸イオン、メチルメルカプチドイオン、フェニルメルカ
    プチドイオン、オクトキシカルボニルメチルメルカプチ
    ドイオンまたはβ−ヒドロキシエチルメルカプチトイオ
    ンを表わす特許請求の範囲第13項記載の化合物。
  18. (18)上記式II中、Xが酸化物イオン、水酸化物イオ
    ン、弗化物イオン、臭化物イオン、沃化物イオン、シア
    ン化物イオン、硫化物イオン、硫化水素イオン、硝酸イ
    オン、亜硫酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐
    酸イオン、亜燐酸イオン、燐酸水素イオン、メタ燐酸イ
    オン、ポリ燐酸イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、
    珪酸イオン、メタ珪酸イオン、蟻酸イオン、酢酸イオン
    及び蓚酸イオンから成る群から選択される特許請求の範
    囲第17項記載の化合物。
  19. (19)上記式II中、Xが塩化物イオン、燐酸水素イオ
    ン、燐酸イオン及び硫酸イオンから成る群から選択され
    る特許請求の範囲第18項記載の化合物。
  20. (20)上記式II中、Mが水素原子、金属原子ナトリウ
    ム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチ
    ウム、バリウム、アルミニウム、クロム、マンガン、鉄
    、コバルト、ニッケル、銅、銀、亜鉛、カドミウム、水
    銀、錫、鉛及び半金属原子硼素及び珪素から成る群から
    選択される特許請求の範囲第13項記載の化合物。
  21. (21)上記式II中、Mが水素原子、金属原子カルシウ
    ム、バリウム、銅、ニッケル、鉄及びコバルトから成る
    群から選択される特許請求の範囲第20項記載の化合物
  22. (22)上記式II中、Yがアルコール、エーテル、酸ア
    ミド、スルホキシドまたはスルホンを表わす特許請求の
    範囲第13項記載の化合物。
  23. (23)上記式II中、pがゼロを表わす特許請求の範囲
    第13項記載の化合物。
  24. (24)上記式II中、qが1ないし4、好ましくは1ま
    たは2の値を表わす特許請求の範囲第13項記載の化合
    物。
  25. (25)上記式II中、Zが上記式 I 中、nが4を表わ
    し、Xが次式:−S− で表わされる基を表わし、R^2が次式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1で表
    わされる基を表わす化合物である特許請求の範囲第13
    項記載の化合物。
  26. (26)次式II: M^m_n・X^n_m・pY・qZ(II)〔式中、M
    は金属原子または半金属原子の原子価mの陽イオン、ま
    たはオキシメタル−またはジオキシメタル−陽イオンま
    たはプロトンを表わし、 Xはn−塩基性無機プロトン酸の原子価nの陰イオンま
    たはハロゲン原子及び/またはヒドロキシル基で置換さ
    れても良い炭素原子数8までの脂肪族及び環状脂肪族カ
    ルボン酸、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び/または
    ニトロ基で置換されても良い芳香族モノ、ジ及びトリカ
    ルボン酸、燐及び硫黄の有機オキシ酸、燐の有機チオ酸
    から成る群及びメルカプタンの群から選択されるn−塩
    基性有機酸の原子価nの陰イオンを表わし、該無機酸及
    び有機酸のpKa値は15.8以下であり、Mがプロト
    ンを表わす場合には、pKa値は11以下であり、また
    はX^nは次式:−OHまたはO で表わされる基または原子を表わし、 Yは陽イオンまたは陰イオンとともに配位 結合を形成する水分子または中性有機分子を表わし、 Zは次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1(式
    中、X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わ
    される基を表わす。) で表わされる化合物を表わし、 pはゼロないし2の値を表わし、 qは1ないし8の値を表わし mは1ないし6の整数を表わし nは1ないし4の整数を表わす。〕 で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の錯
    体化合物を、製造するために (a)次式: M^m_n・X^n_mP′Y (式中、M、X、Y、m及びnは上記定義と同じ意味を
    表わし、p′はpと無関係にゼロないし10の値を表わ
    す。) で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の1
    モル当量を、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、n、X、R^1及びR^2は上記定義と同じ意
    味を表わす。) で表わされる化合物のq(1ないし8の値を表わす。)
    モル当量と反応させ、そして使用した溶媒を除去するか
    、または (b)(a)において得られた反応生成物を、陽イオン
    Mまたは陰イオンXの化合物と反応させて、イオン置換
    反応により該陽イオンMまたは該陰イオンXを他の陽イ
    オンまたは陰イオンに置換するか、または (c)陽イオンMから成る金属アルコレートまたは半金
    属アルコレート、またはプロトン性オキシ酸エステルを
    上記式 I で表わされる化合物のqモル当量と反応させ
    て、そして生成した錯体化合物を (α)次式: H_nX^n で表わされる酸、または次式: A_nX^n (式中、Aはアンモニウム陽イオンを表わす。)で表わ
    されるアンモニウム塩と化学量論的割合で反応させ、そ
    して生成するアルコール、アミンまたはアンモニアを除
    去するか、または (β)酸無水物、酸ハロゲン化物または基Xが誘導され
    る酸の酸エステルの化学量論的量と反応させ、そして生
    成するアルコールを除去する、 ことより成る式IIで表わされる化合物の製造方法。
  27. (27)該反応が溶媒、好ましくはアルコール、エーテ
    ルまたは炭化水素の存在下で行なわれる特許請求の範囲
    第26項記載の製造方法。
  28. (28)次式II: M^m_n・X^n_m・pY・qZ(II)〔式中、M
    は金属原子または半金属原子の原子価mの陽イオン、ま
    たはオキシメタル−またはジオキシメタル−陽イオンま
    たはプロトンを表わし、 Xはn−塩基性無機プロトン酸の原子価nの陰イオンま
    たはハロゲン原子及び/またはヒドロキシル基で置換さ
    れても良い炭素原子数8までの脂肪族及び環状脂肪族カ
    ルボン酸、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び/または
    ニトロ基で置換されても良い芳香族モノ、ジ及びトリカ
    ルボン酸、燐及び硫黄の有機オキシ酸、燐の有機チオ酸
    から成る群及びメルカプタンの群から選択されるn−塩
    基性有機酸の原子価nの陰イオンを表わし、該無機酸及
    び有機酸のpKa値は15.8以下であり、Mがプロト
    ンを表わす場合には、pKa値は11以下であり、また
    はX^nは次式: −OHまたはO で表わされる基または原子を表わし、 Yは陽イオンまたは陰イオンとともに配位結合を形成す
    る水分子または中性有機分子を表わし、 Zは次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2−CH(OH)−CH_2−X−R^1(式
    中、X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わ
    される基を表わす。) で表わされる化合物を表わし、 pはゼロないし2の値を表わし、 qは1ないし8の値を表わし mは1ないし6の整数を表わし nは1ないし4の整数を表わす。〕 で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の錯
    体化合物を、製造するために (a)次式: M^m_n・X^n_m・p′Y (式中、M、X、Y、m及びnは上記定義と同じ意味を
    表わし、p′とpと無関係にゼロないし10の値を表わ
    す。) で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の1
    モル当量を、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、n、X、R^1及びR^2は上記定義と同じ意
    味を表わす。) で表わされる化合物のq(1ないし8の値を表わす。)
    モル当量と反応させ、そして使用した溶媒を除去するか
    、または (b)(a)において得られた反応生成物を、陽イオン
    Mまたは陰イオンXの化合物と反応させて、イオン置換
    反応により該陽イオンMまたは該陰イオンXを他の陽イ
    オンまたは陰イオンに置換するか、または (c)陽イオンMから成る金属アルコレートまたは半金
    属アルコレート、またはプロトン性オキシ酸エステルを
    上記式 I で表わされる化合物のqモル当量と反応させ
    て、そして生成した錯体化合物を (α)次式: H_nX^n で表わされる酸、または次式: A_nX^n (式中、Aはアンモニウム陽イオンを表わす。)で表わ
    されるアンモニウム塩と化学量論的割合で反応させ、そ
    して生成するアルコール、アミンまたはアンモニアを除
    去するか、または (β)酸無水物、酸ハロゲン化物または基Xが誘導され
    る酸の酸エステルの化学量論的量とを反応させ、そして
    生成するアルコールを除去する、 ことより成る式IIで表わされる錯体化合物の製造方法に
    より製造される錯体化合物。
  29. (29)天然または合成ポリマー、天然または合成潤滑
    剤、燃料または作動液及び少なくとも1種の次式II: M^m_n・X^n_m・pY・qZ(II)〔式中、M
    は金属原子または半金属原子の原子価mの陽イオン、ま
    たはオキシメタル−またはジオキシメタル−陽イオンま
    たはプロトンを表わし、 Xはn−塩基性無機プロトン酸の原子価nの陰イオンま
    たはハロゲン原子及び/またはヒドロキシル基で置換さ
    れても良い炭素原子数8までの脂肪族及び環状脂肪族カ
    ルボン酸、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び/または
    ニトロ基で置換されても良い芳香族モノ、ジ及びトリカ
    ルボン酸、燐及び硫黄の有機オキシ酸、燐の有機チオ酸
    から成る群及びメルカプタンの群から選択されるn−塩
    基性有機酸の原子価nの陰イオンを表わし、該無機酸及
    び有機酸のpKa値は15.8以下であり、Mがプロト
    ンを表わす場合には、pKa値は11以下であり、また
    はX^nは次式: −OHまたはO で表わされる基または原子を表わし、 Yは陽イオンまたは陰イオンとともに配位結合を形成す
    る水分子または中性有機分子を表わし、 Zは次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2CH(OH)−CH_2−X−R^1(式中
    、X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わさ
    れる基を表わす。) で表わされる化合物を表わし、 pはゼロないし2の値を表わし、 qは1ないし8の値を表わし mは1ないし6の整数を表わし nは1ないし4の整数を表わす。〕 で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の錯
    体化合物から成る組成物。
  30. (30)潤滑剤または作動液及び少なくとも1種の式I
    Iで表わされる錯体化合物から成る特許請求の範囲第2
    9項記載の組成物。
  31. (31)熱可塑性樹脂及び少なくとも1種の式IIで表わ
    される錯体化合物から成る特許請求の範囲第29項記載
    の組成物。
  32. (32)エラストマー及び少なくとも1種の式IIで表わ
    される錯体化合物から成る特許請求の範囲第29項記載
    の組成物。
  33. (33)式IIで表わされる錯体化合物を0.01ないし
    10重量%含有する特許請求の範囲第29項記載の組成
    物。
  34. (34)次式II: M^m_n・X^n_m・pY・qZ(II)〔式中、M
    は金属原子または半金属原子の原子価mの陽イオン、ま
    たはオキシメタル−またはジオキシメタル−陽イオンま
    たはプロトンを表わし、 Xはn−塩基性無機プロトン酸の原子価nの陰イオンま
    たはハロゲン原子及び/またはヒドロキシル基で置換さ
    れても良い炭素原子数8までの脂肪族及び環状脂肪族カ
    ルボン酸、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び/または
    ニトロ基で置換されても良い芳香族モノ、ジ及びトリカ
    ルボン酸、燐及び硫黄の有機オキシ酸、燐の有機チオ酸
    から成る群及びメルカプタンの群から選択されるn−塩
    基性有機酸の原子価nの陰イオンを表わし、該無機酸及
    び有機酸のpKa値は15.8以下であり、Mがプロト
    ンを表わす場合には、pKa値は11以下であり、また
    はX^nは次式: −OHまたはO で表わされる基または原子を表わし、 Yは陽イオンまたは陰イオンとともに配位結合を形成す
    る水分子または中性有機分子を表わし、 Zは次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、nは2、3または4の整数を表わし、Xは次式
    : −S−、−O−、−O−CO−または−CH_2−で表
    わされる基を表わし、R^1は炭素原子数1ないし22
    のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル
    基またはフェニル基を表わし、R^2は水素原子、炭素
    原子数1ないし8のアルキル基、ヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基または次
    式: −CH_2−CH(OH)−CH−X−R^1(式中、
    X及びR^1は上記と同じ意味を表わす。)で表わされ
    る基を表わす。) で表わされる化合物を表わし、 pはゼロないし2の値を表わし、 qは1ないし8の値を表わし mは1ないし6の整数を表わし nは、ないし4の整数を表わす。〕 で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金属水酸
    化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン酸の錯
    体化合物を、天然及び合成ポリマー並びに天然または合
    成潤滑剤、燃料または作動液用の安定剤及び静電防止剤
    として使用する方法。
  35. (35)式IIで表わされる錯体化合物を、熱可塑性樹脂
    及びエラストマー用の安定剤及び静電防止剤として使用
    する特許請求の範囲第34項記載の方法。
  36. (36)式IIで表わされる錯体化合物を、潤滑剤及び作
    動液用の極圧及び耐摩耗添加剤として使用する特許請求
    の範囲第34項記載の方法。
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