JPH08225500A - 新規なグルカミン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規なグルカミン誘導体を提供する。 【解決手段】次式Ｉ： 【化１】 〔ｎ＝４の整数、Ｘ＝−Ｓ−、−Ｏ−または−ＣＨ₂
−、Ｒ¹ ＝Ｃ₁ −Ｃ₂₂のアルキル基、Ｒ² ＝水素原子、
Ｃ₁ −Ｃ₈ のアルキル基または次式： −ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ −Ｘ−Ｒ¹ （Ｘ及びＲ¹ は上記と同じ意味を表わす。）〕で表わさ
れる化合物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なグルカミン
誘導体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】グルカミン誘導体及びその製造方法は、
化粧品組成物用の添加剤として、例えば米国特許第 4,2
81,201号明細書及び日本国特許願第79／135,233 及び79
／163,829 号に開示されている。しかしながら、潤滑剤
用の添加剤としてのグルカミン誘導体は未だ開示されて
いない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】潤滑剤の添加剤として
需要が多い。特に、その添加剤は高温での酸化劣化に対
する潤滑剤の安定性を向上させなければならず、負荷特
性を増加しなければならず、腐蝕しやすい基材の存在下
高温で潤滑剤を適応させなければならない。最後にこれ
ら潤滑剤の耐摩耗特性を高めることもまた非常に重要な
必要条件である。潤滑剤にすぐれた極圧特性及び特に耐
摩耗特性を付与する化合物を開発することが可能となっ
た。

【０００４】

【課題を解決するための手段】従って、本発明は次式
Ｉ：

【化２】 〔式中、ｎは４の整数を表わし、Ｘは次式 −Ｓ−、−Ｏ−または−ＣＨ₂ − で表わされる基を表わし、Ｒ¹ は炭素原子数１ない２２
のアルキル基を表わし、および、Ｒ² は水素原子、炭素
原子数１ないし８のアルキル基または次式： −ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ −Ｘ−Ｒ¹ （式中、Ｘ及びＲ¹ は上記と同じ意味を表わす。）で表
わされる基を表わす。〕で表わされる化合物に関する。

【０００５】そして、本発明は式Ｉの化合物を利用した
組成物発明にも関連している。即ち、その発明は、潤滑
剤または作動液及び少なくとも１種の上記式Ｉの化合物
からなる組成物に関する。

【０００６】上記式Ｉ中、Ｘが次式： −Ｏ−，−ＣＨ₂ −または−Ｓ− で表わされる基で表わされる化合物を含有する組成物が
好ましく、次式： −Ｓ− で表わされる基で表わされるものが特に好ましい。

【０００７】上記式Ｉ中、Ｒ¹ が炭素原子数１ないし２
２のアルキル基を表わす場合には、炭素原子数１ないし
２２の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、第二ブチル基または第三ブチル基、ペンチル基、
１−メチルペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチル−
ｎ−ヘキシル基（イソオクチル基）、ｎ−ヘプチル基、
１−メチルヘプチル基、直鎖または分岐鎖オクチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、エイコシル基またはドコシル
基から成る群から選択されて良い。第三アルキル基が特
に好ましい。

【０００８】上記式Ｉ中、Ｒ¹ が好ましくは、炭素原子
数１ないし４の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、最
も好ましくは炭素原子数５ないし１８のアルキル基であ
り、炭素原子数８ないし１２のアルキル基が特に好まし
い。

【０００９】本発明の化合物の特に好ましい実施態様
は、式Ｉ中、Ｒ¹ が第三ノニル基または第三ドデシル基
であるものであり、第三ドデシル基である場合には例え
ば第三ドデシルメルカプタンとして“Ullmanns Enzyklo
padie der technischen chemie. ”第４版、第１８１な
いし１８２頁、ヒェミー社刊（Verlag Chemie）、バイ
ンハイム（Weinheim）に定義されているものとして理解
され、その結果Ｘが第三炭素に結合する。

【００１０】置換基Ｒ¹ 及びＸが式Ｉで表わされる化合
物中に一度より多く現われる場合には、それらは全く同
じでも違っていてもよく、好ましくは全く同じ置換基で
ある。

【００１１】上記式Ｉ中、Ｒ² が炭素原子数１ないし８
のアルキル基を表わす場合には、エチル基、イソプロピ
ル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基または第二ブチル
基、２−エチル−ｎ−ヘキシル基またはｎ−オクチル基
であって良く、メチル基またはエチル基が好ましい。Ｒ
² がヒドロキシル基で置換される炭素原子数２ないし４
のアルキル基で表わされる場合には、２−ヒドロキシル
基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基または２−ヒドロキシブチル基であって良く、２−
ヒドロキシエチル基が好ましい。さらにＲ² は好ましく
は次式： −ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ −Ｘ−Ｒ¹ （式中、Ｘ及びＲ¹ は上記定義と同じ意味を表わす。）
で表わされる基である。ｎは４の値を表わす整数であ
る。

【００１２】好ましい組成物は潤滑剤または作動液及び
少なくとも一種の上記式Ｉ中、Ｘが次式： −Ｓ−，−ＣＨ₂ −または−Ｏ− で表わされる基を表わし、Ｒ¹ が炭素原子数５ないし１
６の直鎖または分岐鎖アルキル基を表わし、Ｒ² がメチ
ル基、エチル基または次式： −ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ −Ｘ−Ｒ¹ （式中、Ｘ及びＲ¹ は与えられた意味を表わす。）で表
わされる基を表わし、ｎが４を表わす化合物から成るも
のである。

【００１３】上記式Ｉで表わされる化合物は例えば、

【化３】

【化４】 等である。

【発明の実施の形態】

【００１４】式Ｉで表わされる化合物は、それ自体公知
の方法で例えば次式III ：

【化５】 （式中、ｎは与えられた意味を表わし、Ｚは水素原子、
炭素原子数１ないし８のアルキル基またはヒドロキシル
基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表
わす。）で表わされる適当なグルカミンを次式IV：

【化６】 （式中、Ｘ及びＲ₁ は与えられた意味を表わす。）で表
わされるグリシジル化合物と反応させることにより製造
される。Ｚが水素原子を表わす場合には、式IIIで表わ
される化合物１モルに対して式IVで表わされる化合物少
くとも２モルを使用し、Ｚが水素原子でない場合には、
概そ等モル量を使用するのが便利である。

【００１５】式III で表わされるグルカミンはそれ自体
公知の方法で、例えば適当なモノサッカライドを適当な
第一アミンと反応させ、そしてひき続き反応生成物を還
元することにより製造できる。式IVで表わされるグリシ
ジル化合物は公知であるか、またはそれらは通常の方法
で容易に製造できる。

【００１６】式Ｉで表わされる化合物は、通常液体また
は粘性のある流体である。式Ｉで表わされる個々の化合
物は、非常に粘性があり、樹脂状またはタールの様な物
質で、必要ならば水中または適当なベースオイル中で高
度に濃縮された形態にして取扱い易くして使用しても良
い。

【００１７】本発明のグルカミン誘導体は、良好な極圧
特性及び耐摩耗特性により特徴づけられる潤滑剤添加物
を構成する。ごく少量混合した場合でも、式Ｉで表わさ
れる化合物は潤滑剤及び作動液中で有効で、この目的の
ために様々な基材に十分に溶解することは、必要条件で
ある。この様に式Ｉで表わされる化合物を該潤滑剤に基
づいて０．０１ないし５重量％、好ましくは０．０５な
いし３重量％含有する鉱油及び合成潤滑油及びそれらの
混合物、並びに作動液は、すぐれた特性特に極圧特性を
示し、潤滑されるべき部分の摩擦を減ずることは明らか
である。関連のある潤滑剤は当業者によく知られてお
り、そして例えば“潤滑剤と関連製品”〔フェアラーク
ヘミー（Verlag Chemie）、ワインハイム（Weinhei
m）、１９８２〕に配されている。

【００１８】式Ｉで表わされる添加剤は、特に自動車の
非オートマチック及びとりわけオートマチック変速機へ
の使用に適している。さらにそれらはモーターオイル、
ディーゼルエンジンオイルまたはタービンオイルに最も
効果的である。

【００１９】さらに、本発明の潤滑剤はその基本的性質
をさらに改良する為に添加される他の添加剤、例えば酸
化防止剤、金属不活性化剤、防錆剤、粘度指数改良剤、
流動点降下剤、分散剤、表面活性剤、極圧添加物及び耐
摩耗剤を含有することもできる。

【００２０】フェノール系酸化防止剤の例 １．アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ−第
三ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−エチルフェノール、２−第三ブチル−４，６
−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−
エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−
ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−第二
ブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチル−４−
メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシ
ル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ−シクロ
ヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
トキシメチルフェノール、及びｏ−第三ブチルフェノー
ル。

【００２１】２．アルキル化ハイドロキノン、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ
−第三−アミル−ハイドロキノン、及び２，６−ジフェ
ニル−４−オクタデシルオキシフェノール。

【００２２】３．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
ル、例えば２，２′−チオ−ビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２′−チオ−ビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（６−第三
ブチル−３−メチルフェノール）、及び４，４′−チオ
−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）。

【００２３】４．アルキリデンビスフェノール、例えば
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−第三
ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレン
−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−メ
チル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メ
チレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフ
ェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ
−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビ
ス（６−第三ブチル−４−第二ブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレン−
ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニル
フェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ
−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−
ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニル）ブタン、２，６−ジ−（３−第三ブチル−５−
メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノ
ール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメル
カプタン、エチレングリコール−ビス−［３，３−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチ
レート] 、ジ−（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５
−メチルフェニル）−ジシクロペンタジエン、及びジ−
［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−
メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニ
ル］テレフタレート。

【００２４】５．ベンジル化合物、例えば１，３，５−
トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフ
ィド、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス−（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオールテレフタレート、１，３，５−トリ
ス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアネート、１，３，５−トリス−（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル−ホスホン酸ジオクタデシル、及び３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホ
ン酸モノエチルのカルシウム塩。

【００２５】６． アシルアミノフェノール、例えば４
−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシ−
ステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカ
プト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ）−ｓ−トリアジン、及びＮ−（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルカルバ
ミン酸オクチル。

【００２６】７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価また
は多価アルコールとのエステル、例えば、メタノール、
オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリ
スリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレー
ト、またはジヒドロキシエチルオキサニル酸ジアミド。

【００２７】８． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一価
または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、ネ
オペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタ
エリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌ
レート、またはジヒドロキシエチルオキサニル酸ジアミ
ド。

【００２８】９．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば
Ｎ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミンまた
は、Ｎ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００２９】アミン酸抗酸化剤の例 Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３
−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジ（ナフチル−２）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−
Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−
メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミ
ド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−
フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナ
フチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、４−ｎ−
ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノー
ル、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイ
ルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェ
ノール、ジ（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−
ジ第三ブチル−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェ
ノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，
４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′
−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタ
ン、１，２−ジ［（２−メチルフェニル）アミノ］エタ
ン、１，２−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−ト
リル）ビグアニド、ジ［４−（１′，３′−ジメチルブ
チル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル
−１−ナフチルアミン及びモノ−並びにジアルキル化第
三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物。

【００３０】金属、例えば銅のための不動態化剤、例え
ば、ベンゾトリアゾール、テトラヒドロベンゾトリアゾ
ール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２，５−ジメ
ルカプトチアゾール、サリチリデン−プロピレンジアミ
ン、及びサリチルアミノグアニジンの塩。

【００３１】錆止剤の例 ａ）有機酸およびそのエステル、金属塩およびその無水
物、例えば：Ｎ−オレオイル−サルコシン、ソルビタン
−モノオレエート、ナフタレン酸鉛無水ドデセニルコハ
ク酸、アルケニル酸半エステル及び４−ノニルフェノキ
シ−酢酸。

【００３２】ｂ）窒素含有化合物、例えば： Ｉ．第一、第二、第三脂肪族アミンまたは脂環式アミン
並びに有機酸および無機酸のアミン塩、例えば油溶性ア
ルキルアンモニウムカルボン酸塩。 ＩＩ．複素環式化合物、例えば置換性イミダゾリンまた
はオキサゾリン。

【００３３】ｃ）リン含有化合物、例えば：リン酸部分
エステルのアミン塩。

【００３４】ｄ）硫黄含有化合物、例えば：バリウムジ
ノニルナフタレン−スルホネート、カルシウム石油−ス
ルホネート。

【００３５】粘度指数改良剤の例 例えば、ポリメタクリレート、ビニルピロリドン／メタ
クリレートコポリマー、ポリブテン、オレフィンコポリ
マー、スチレン／アクリレートコポリマー。

【００３６】流動点降下剤の例 例えば、ポリメタクリレートおよびアルキル化ナフタレ
ン誘導体。

【００３７】分散剤／界面活性剤の例 例えば、ポリブテニルコハク酸イミド、ポリブテニルリ
ン酸誘導体、塩基性のマグネシウムスルホネート及びフ
ェノレート、カルシウムスルホネート及びフェノレート
並びにバリウムスルホネートおよびフェノレート

【００３８】耐摩耗添加剤の例 例えば、硫黄及び／またはリン及び／またはハロゲン原
子を含む化合物、例えば硫黄化された植物油、ジアルキ
ルジチオ燐酸亜鉛、トリトリルホスフェート、塩素化パ
ラフィン、アルキルジスルフィド及びアリールジ−スル
フィド。

【００３９】式Ｉで表わされる化合物は、さらに本来は
親水性の金属及び半金属塩、金属及び半金属水酸化物そ
して金属及び半金属酸化物に、及びプロトン酸に親油性
の性質を付与する両極性配位子として特に適している。
従ってこれら化合物は本来は親水性の、好ましくは無機
の化合物を疎水系での使用のために可溶化するための本
発明の実施に使用しても良い。

【００４０】金属及び半金属塩並びに特定のジオール及
びトリオールから成るプロトン酸の錯体化合物は米国特
許第４３３６１４８号及び同第４４０４４０８号明細書
に開示され、それらの化合物によって、該塩または該酸
の親油性を同様に修正することもできる。広範囲の利用
に特に適した安定な錯体化合物がその様な、親水性の化
合物を式Ｉで表わされる化合物で錯体化することにより
得られる。驚くべきことに、該錯体は疎水系においてよ
り良好な溶解性を示し、そして公知の錯体の場合より
も、親油性の性質を付与するためにより少い両極性配位
子が必要とされる。

【００４１】それ故に本発明に関連した発明は、一般式
II：

【化７】 （式中、Ｍは金属原子または半金属原子の原子価ｍの陽
イオン、またはオキシメタル−またはジオキシメタル−
陽イオンまたはプロトンを表わし、Ｘはｎ−塩基性無機
プロトン酸の原子価ｎの陰イオンまたはハロゲン原子及
び／またはヒドロキシル基で置換されても良い炭素原子
数８までの脂肪族及び環状脂肪族カルボン酸、ヒドロキ
シル基、ハロゲン原子及び／またはニトロ基で置換され
ても良い芳香族モノ、ジ及びトリカルボン酸、燐及び硫
黄の有機オキシ酸、燐の有機チオ酸からなるメルカプタ
ンの群から選択されるｎ−塩基性有機酸の原子価ｎの陰
イオンを表わし、該無機酸及び有機酸のｐＫａ値は１
５．８以下であり、Ｍがプロトンを表わす場合にはｐＫ
ａ値は１１以下であり、またはＸⁿ は次式： −ＯＨまたはＯ で表わされる基または原子を表わし、Ｙは陽イオンまた
は陰イオンとともに配位結合を形成する水分子または中
性有機分子を表わし、Ｚは上記式Ｉで表わされる化合物
を表わし、ｐはゼロないし２の値を表わし、ｑは１ない
し８の値を表わし、ｍは１ないし６の整数を表わし、ｎ
は１ないし４の整数を表わす。）で表わされる金属塩、
半金属塩、金属または半金属水酸化物、金属または半金
属酸化物、またはプロトン酸の錯体化合物にも関するも
のである。

【００４２】原子価ｍの陽イオンは、好ましくは周期律
表の１ａないし８ａ族及び１ｂないし５ｂ族の金属原子
から、ランタノイド、ウラン、プルトニウムから、また
は半金属原子硼素、珪素、ゲルマニウム及びアンチモン
から誘導される。原子価ｍ取陽イオンは周期律表の元素
の位置から誘導される。本明細書において、原子価取は
電荷ｍを持つ金属イオンを形成するために金属原子が引
き離すことのできる取子の数ｍの意味である。常識であ
るが、元素は異なった安定原子価状態、例え取錫では二
価または四価、クロムでは二価または三価、銅では一価
または二価を取り得る。タングステンヘキサフルオリド
は例えば原子価６を示す。原子価ｍは好ましくは１ない
し５であり、最も好ましくは１ないし３である。

【００４３】陽イオンは好ましくは、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカン
ジウム、ランタン、セリウム、ユウロピウム、チタン、
ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、バナジウム、ニ
オブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、
ウラン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウ
ム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、
銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、鉛、ビスマスの
金属原子から、及び硼素、珪素、ゲルマニウム及びアン
チモンの半金属原子から誘導されるものである。

【００４４】さらに好ましくは、陽イオンが、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、チタ
ン、ジルコニウム、バナジウム、クロム、モリブデン、
タングステン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、
銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、錫、鉛及びビスマスか
ら成る群の金属原子から、及び硼素、珪素及びアンチモ
ンからなる群の半金属原子から誘導されるものである。

【００４５】最も好ましくは、Ｍが水素原子、金属原
子、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、クロ
ム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、亜
鉛、カドミウム、水銀、錫、鉛及び半金属原子硼素また
は珪素、特にカルシウム、バリウム、銅、ニッケル、鉄
またはコバルトを表わす化合物である。

【００４６】多くの金属原子は、１個または２個の酸素
原子を含有するオキシメタル陽イオンを形成することも
できる。これらの陽イオン中、チタニル基、バナジル
基、ジルコニル基及びウラニル基が好ましい。四価の陽
イオンタングステニル基及び一価の陽イオンアンチモニ
ル基及びビスマシル基もまたあげ得る。

【００４７】陰イオンが誘導される無機酸及び前に定義
した有機酸は、１０以下のｐＫａ値を有し、好ましくは
４以下のｐＫａ値を有する。最も強い酸のｐＫａ値は、
約−１０である。常識ではあるが、ｐＫａ値は酸の強さ
の目安であり、水系のプロトン分解でプロトン分解反応
の平衡定数の逆数の常用対数として定義される。同様の
定義がｐＫａ値にもまた適用され、塩基の強さの目安で
ある。強酸から誘導される式IIで表わされる錯体化合物
は特に安定であることが解った。ｐＫａ値の上限１５．
８はまた弱酸として水も包含する。Ｘ基はオキソラジカ
ルＯ＝の意味を表わすと理解されても良い。

【００４８】Ｘは上記した様なｎ＝塩基性無機または有
機プロトン酸の陰イオン、またはＯラジカルを表わす。
この定義は遊離の形で存在せず、それらの塩の形で例え
ばアンモニウム塩としてのみ存在するプロトン酸をも包
含する。塩基度ｎは、ｎ個のプロトンの遊離により陰イ
オンに形成される負の電荷数を示す。一塩基酸例えば塩
酸の陰イオンに加えて四塩基酸例えば珪酸またはチタン
酸陰イオンもまた知られており、その結果ｎは１ないし
４の整数を表わす。Ｘは重合性陰イオン例えば珪酸イオ
ン、チタン酸イオン、燐酸イオン、砒酸イオン、ジルコ
ニウム酸イオン、バナジウム酸イオン、硼酸イオン、モ
リブデン酸イオン、タングステン酸イオン及びアンチモ
ン酸イオンの重合性陰イオンをも包含する。

【００４９】陰イオンＸは好ましくは、ハロゲン化及び
プソイドハロゲン化水素酸及びセレン化水素酸、無機オ
キシ酸またはチオ酸、及び無機錯体酸の群から選択され
る無機プロトン酸から誘導される。プソイドハロゲン化
水素の典型的な例は次式：ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｈ
Ｉ、ＨＣＮ、ＨＣＮＯ、ＨＣＮＳ及びＨＮ₃で表わされ
る化合物である。

【００５０】無機オキシ酸は好ましくは、炭素、窒素、
燐、砒素、硫黄、セレン、塩素、臭素及び沃素の元素ま
たは両性元素及び半金属元素から誘導されるものであ
る。無機チオ酸は好ましくは次式：Ｈ₂ Ｓで表わされる
化合物であり、または炭素、バナジウム、モリブデン、
タングステン、錫、燐、砒素、アンチモン及び硫黄の元
素から誘導されるものである。

【００５１】上記元素から成るオキシ酸の陰イオンの代
表的な例は、炭酸イオン、炭酸水素イオン、亜硝酸イオ
ン、硝酸イオン、次亜燐酸イオン、亜燐酸イオン、オル
ト燐酸イオン、ポリ燐酸イオン例えば二燐酸イオン、メ
タ燐酸イオン例えばメタ燐酸イオン、メタ三燐酸イオン
またはメタ四燐酸イオン、フルオロ燐酸イオン、亜砒酸
イオン、砒酸イオン、亜硫酸イオン、硫酸イオン、ペル
オクソ二硫酸イオン、チオ硫酸イオン、亜二チオン酸イ
オン、二チオン酸イオン、ピロ亜硫酸イオン、ポリチオ
ン酸イオン、フルオロ硫酸イオン、セレン酸イオン、亜
テルル酸イオン、テルル酸イオン、次亜塩素酸イオン、
亜塩素酸イオン、塩素酸イオン、過塩素イオン、亜臭素
酸イオン、臭素酸イオン、沃素酸イオン、過沃素酸イオ
ンである。

【００５２】硫化物に加えてチオ酸の陰イオンは、ポリ
硫化物イオン例えば二硫化物イオン、チオ炭酸イオン、
ジチオ炭酸イオン、トリチオ炭酸イオン、チオバナジウ
ム酸イオン、チオモリブデン酸イオン、チオタングステ
ン酸イオン、チオ錫酸イオン、チオアンチモン酸イオ
ン、チオ砒酸イオン、チオ亜砒酸イオン、チオ亜アンチ
モン酸イオン、トリチオ燐酸イオン、テトラチオ燐酸イ
オン及びトリチオ亜燐酸イオンである。

【００５３】両性元素及び半金属元素のオキシ酸の代表
的な例は、硼酸イオン、メタ硼酸イオン、珪酸イオン、
メタ珪酸イオン、ゲルマニウム酸イオン、亜アンチモン
酸イオン、アンチモン酸イオン、アルミン酸イオン、チ
タン酸イオン、ジルコニウム酸イオン、バナジウム酸イ
オン、クロム酸イオン、二クロム酸イオン、モリブデン
酸イオン、タングステン酸イオン、マンガン酸イオン、
過マンガン酸イオン、亜錫酸イオン及び錫酸イオンであ
る。

【００５４】無機錯体酸の陰イオンにより中心金属また
は半金属原子を含有すること及びアシド配位子をキレー
ト化することからなるものを意味する。適当な金属及び
半金属の例は、硼素、珪素、ゲルマニウム、砒素、アン
チモン、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、バナジ
ウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タング
ステン、マンガン、アエン、カドミウム、鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オ
スミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、錫、鉛及び
ビスマスである。適当なアシド配位子の例は、塩化物イ
オン、好ましくは弗化物イオン及び塩化物イオン、プソ
イド塩化物イオン、好ましくはシアン化物イオン及びチ
オシアン化物イオン、次式：−ＣＯで表わされる基及び
蓚酸イオンである。この様な錯体陰イオンは基本的に次
式： 〔ＭＸ^' ₄〕ⁿ 、〔ＭＸ^' ₅〕ⁿ 及び〔ＭＸ^' ₆〕ⁿ 型 （式中、Ｍは金属または半金属イオンを表わし、Ｘ' は
アシド配位子を表わし、ｎは金属または半金属の原子価
及びアシド配位子の電荷に帰因する塩基度（負電荷）を
表わす。）に属する。多くの錯体陰イオンのうち、多核
陰イオンも知られていることも、ここで触れておくべき
である。例えば、テトラフルオロ硼酸イオン、ヘキサフ
ルオロ珪酸イオン、ヘキサフルオロ砒酸イオン、ヘキサ
フルオロアンチモン酸イオン、ペンタフルオロアンチモ
ン酸イオン(III) 、ヘキサフルオロ燐酸イオン、テトラ
フルオロアルミン酸イオン、ヘキサフルオロアルミン酸
イオン、ヘキサフルオロチタン酸イオン、ヘキサフルオ
ロモリブデン酸イオンまたはヘキサフルオロタングステ
ン酸イオン、ヘキサフルオロクロム酸イオン(III) 、ヘ
キサフルオロ鉄酸イオン、ヘキサフルオロコバルト酸イ
オン、ヘキサフルオロ白金酸イオン、テトラフルオロ亜
鉛酸イオン、ヘキサフルオロ錫酸イオン、ヘキサフルオ
ロ鉛酸イオン、ヘキサフルオロマンガン酸イオン、ヘキ
サフルオロロジウム酸イオン、ヘキサフルオロタンタル
酸イオン、ヘキサフルオロニオブ酸イオン、ヘキサクロ
ロアルミン酸イオン、ヘキサクロロチタン酸イオン、ヘ
キサクロロバナジウム酸イオン、テトラクロロバナジウ
ム酸イオン、ヘキサクロロクロム酸イオン、ヘキサクロ
ロマンガン酸イオン、ヘキサクロロモリブデン酸イオ
ン、ヘキサクロロタングステン酸イオン、ヘキサクロロ
鉄酸イオン、テトラクロロニッケル酸イオン、ヘキサヨ
ードテクネチウム酸イオン、ヘキサクロロレニウム酸イ
オン、ヘキサクロロルテニウム酸イオン、ヘキサクロロ
オスミウム酸イオン、ヘキサクロロ錫酸イオン、ヘキサ
クロロ鉛酸イオン、ヘキサクロロアンチモン酸イオン、
ヘキサクロロビスマス酸イオン、テトラブロモカドミウ
ム酸イオン、テトラシアノ亜鉛酸イオン、テトラクロロ
−、テトラブロモ−またはテトラヨード水銀酸イオン、
テトラシアノ水銀酸イオン、テトラチオシアン酸水銀酸
イオン、ヘキサシアノバナジウム酸イオン、トリ蓚酸バ
ナジウム酸イオン、ヘキサシアノクロム酸イオン、トリ
蓚酸クロム酸イオン、ペンタシアノニトロソクロム酸イ
オン、ヘキサシアノマンガン酸イオン、ヘキサチオシア
ン酸マンガン酸イオン、トリ蓚酸マンガン酸イオン、ヘ
キサシアノ鉄酸イオン、テトラシアノコバルト酸イオ
ン、テトラシアノニッケル酸イオン、テトラシアノカプ
トレート、テトラ蓚酸ジルコニウム酸イオン、ヘキサロ
ダン酸モリブデン酸イオン、オクタシアノモリブデン酸
イオン、オクタシアノタングステン酸イオン、オクタシ
アノレニウム酸イオン、ヘキサシアノ白金酸イオン、ヘ
キサシアノオスミウム酸イオン、テトラシアノパラジウ
ム酸イオン、ペンタカルボニルマンガン酸イオン、テト
ラカルボニル鉄酸イオン、テトラカルボニルコバルト酸
イオンである。

【００５５】多くの酸錯体は遊離の形で知られている。
しかし他のものは塩の形、例えばアンモニウム塩でのみ
知られている。

【００５６】Ｘはハロゲン原子またはヒドロキシル基で
置換されても良い炭素原子数８以下、好ましくは１ない
し４のｎ−塩基性脂肪族または環状脂肪族カルボン酸の
陰イオンであっても良い。カルボン酸は好ましくはα−
位で置換され、特に弗素原子、塩素原子または臭素原子
により置換され、そして好ましくは一塩基酸または二塩
基酸である。その様な陰イオンは例えば、蟻酸イオン、
酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、蓚酸イ
オン、マロン酸イオン、コハク酸イオン、フマル酸イオ
ン、マレイン酸イオン、ジチオプロピオン酸イオン、ヒ
ドロキシ酢酸イオン、モノ−、ジ−及びトリブロモ酢酸
イオン、またはモノ−、ジ−及びトリクロロ酢酸イオ
ン、α−クロロプロピオン酸イオン、α−クロロマロン
酸イオン、α−ブロモマロン酸イオン、１，２−ジ−ク
ロロコハク酸イオンまたは１，２−ジブロモコハ酸イオ
ンである。

【００５７】Ｘはハロゲン原子好ましくは弗素原子、塩
素原子または臭素原子、またはニトロ基で置換されても
良い一ないし三塩基性安息香酸及びナフタリン酸から成
る群から選択されることが好ましい炭素原子数１２以下
の芳香族カルボン酸の陰イオンであっても良い。その様
な陰イオンは例えば、安息香酸イオン、イソフタル酸イ
オン、テレフタル酸イオン、２−ナフテン酸イオン、
２，６−ジナフテン酸イオン、クロロ安息香酸イオン及
びニトロ安息香酸イオンである。

【００５８】Ｘは燐及び硫黄の有機オキシ酸及び燐の有
機チオ酸陰イオンであっても良い。その様な酸は、好ま
しくはホスホン酸、ホスフィン酸、チオホスホン酸、チ
オホスフィン酸、スルホン酸及びスルフィン酸である。
燐を含む酸は下記一般式：

【化８】 （式中、Ｒ⁴ はハロゲン原子好ましくは弗素原子または
塩素原子により置換されても良い、好ましくは炭素原子
数１８以下最も好ましくは８以下の脂肪族または芳香族
炭化水素基を表わし、Ｘ''及びＸ''' は独立して酸素原
子または硫黄原子を表わし、及びＲ⁵ は次式： −Ｘ''Ｈ で表わされる基、または水素原子、またはＲ⁴ とは独立
してＲ⁴ と同じ意味を表す。）で表わされうる。

【００５９】硫黄を含むオキシ酸は次式：

【化９】 （式中、Ｒ⁴ は上記定義と同じ意味を表わし、ｙはゼロ
または１を表わし、Ｒ⁴は弗素原子または塩素原子また
は炭素原子数１ないし６のアルキル基で置換されても良
い直鎖または分岐鎖アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基またはアルアルキル基を表わすことができる）
で表わすことができる。シクロアルキル基は好ましくは
シクロヘキシル基であり、そしてアリール基及びアルア
ルキル基は好ましくはそれぞれフェニル基及びナフチル
基から誘導されるものである。

【００６０】その様な基は例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、オクチル
基、オクタデシル基、フェニル基、ナフチル基、ｐ−メ
チルフェニル基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル
基、ヘキシルフェニル基、クロロメチル基、クロロエチ
ル基、クロロフェニル基、フルオロメチル基、トリフル
オロメチル基である。

【００６１】Ｘは好ましくは炭素原子数１８以下、最も
好ましくは１２以下のメルカプタンの陰イオンであって
も良い。メルカブタンは好ましくは次式： Ｒ⁶ −ＳＨ （式中、Ｒ⁶ は酸素原子を介在しても良い直鎖または分
岐鎖アルキル基を表わし、またはヒドロキシアルキル
基、アルコキシカルボニルアルキル基、フェニル基また
は炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されても
良いフェニル基を表わす。）で表わされるものである。
その様な基は例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、β−ヒドロキシエチル基、β−ヒドロ
キシプロピル基、アルコキシカルボニルメチル基及びβ
−アルコキシカルボニルエチル基例えばイソオクトキシ
カルボニルメチル基またはイソオクトキシカルボニルエ
チル基、フェニル基及びノニルフェニル基である。

【００６２】陰イオンＸは部分的にエステル化された、
好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルカノールまた
はフェノールで部分エステル化された、二塩基酸ないし
四塩基酸から誘導されても良い。

【００６３】上記式II中、Ｘが前に定義したのと同じ意
味を表わす式IIの錯体化合物、並びにＸがアルコレート
陰イオンを表わす１種またはそれ以上の式IIで表わされ
る化合物の混合物を含有する混合物もまた発明の範囲内
である。アルカノレート陰イオンは好ましくは炭素原子
数１ないし８のアルカノールまたはフェノールから誘導
されうるがその場合、Ｘは同時に式Ｉの化合物を錯体化
することから誘導されるアルコレートアニオンであって
もよい。好ましくはＸは単独に最後に述べたアルコレー
ト陰イオンである。これらの混合物は前記のアルコール
及び少なくとも二価の金属または半金属から誘導される
金属アルコレートまたは半金属アルコレートを次式：Ｈ
_n Ｘⁿ で表わされる無水化合物の過剰量または次式：Ａ
_n Ｘⁿ で表わされるアンモニウム塩と反応させることに
より得られる。この反応は、不規則な混合物をもたら
し、その組成は過剰量により大きく左右される。この混
合物は、未反応の出発物質をも含有していてよい。Ｘが
アルカノレートまたはフェノレート陰イオンであるなら
ば、金属または半金属のアルコレートまたはフェノレー
トの反応生成物を、式Ｉで表わされる過剰の錯化する化
合物と反応させるのが好都合である。

【００６４】好ましいＸ基の代表的なものは例えば、酸
化物イオン、水酸化物イオン、弗化物イオン、塩化物イ
オン、臭化物イオン、沃化物イオン、シアン化物イオ
ン、シアン酸イオン、チオシアン化物イオン、アジ化物
イオン、過塩素酸イオン、臭素酸イオン、沃素酸イオ
ン、過沃素酸イオン、過マンガン酸イオン、硫化物イオ
ン、硫化水素イオン、二弗化水素イオン、亜硝酸イオ
ン、硝酸イオン、亜硫酸イオン、硫酸イオン、チオ硫酸
イオン、硫酸水素イオン、フルオロ硫酸イオン、亜硫酸
水素イオン、燐酸イオン、燐酸水素イオン、亜燐酸イオ
ン、次亜燐酸イオン、メタ燐酸イオン、ポリ燐酸イオ
ン、モノフルオロ燐酸イオン、炭酸イオン、炭酸水素イ
オン、チオ炭酸イオン、ジチオ炭酸イオン、トリチオ炭
酸イオン、カルバミン酸イオン、キサントゲン酸イオ
ン、トリチオ燐酸イオン、テトラチオ燐酸イオン、トリ
チオ亜燐酸イオン、珪酸イオン、メタ珪酸イオン、チオ
ン酸イオン、硼酸イオン、メタ硼酸イオン、モリブデン
酸イオン、バナジウム酸イオン、アルミン酸イオン、ク
ロム酸イオン、二クロム酸イオン、セレン酸イオン、タ
ングステン酸イオン、亜砒酸イオン、砒酸イオン、アン
チモン酸イオン、錫酸イオン、チオ亜砒酸イオン、チオ
砒酸イオン、チオアンチモン酸イオン、チオ錫酸イオ
ン、チオモリブデン酸イオン、チオタングステン酸イオ
ン、テトラフルオロ硼酸イオン、ヘキサフルオロ珪酸イ
オン、ヘキサフルオロチタン酸イオン、ヘキサフルオロ
アルミン酸イオン、ヘキサクロロ錫酸イオン、ヘキサク
ロロ鉄酸イオン、ヘキサシアノ鉄酸イオン、オクタシア
ノモリブデン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イ
オン、ヘキサシアノクロム酸イオン、テトラシアノニッ
ケル酸イオン、トリオクサラトマンガン酸イオン、メチ
ルホスホン酸イオン、メチルホスフィン酸イオン、フェ
ニルホスホン酸イオン、トシレート、フェニルスルホン
酸イオン、メチルスルフィン酸イオン、蟻酸イオン、酢
酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、テレ
フタル酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、トリクロロ
酢酸イオン、クロロ安息香酸イオン、トリフルオロメチ
ルスルホン酸イオン、蓚酸イオン、マロン酸イオン、マ
レイン酸イオン、フマル酸イオン、ヒドロキシ酢酸イオ
ン、ナフチルスルホン酸イオン、ジチオプロピオン酸イ
オン、メチルメルカプチドイオン、フェニルメルカプチ
ドイオン、オクトキシカルボニルメチルメルカプチドイ
オンまたはβ−ヒドロキシエチルメルカプチドイオンで
ある。

【００６５】特に好ましいＸ基は、酸化物イオン、水酸
化物イオン、弗化物イオン、臭化物イオン、沃化物イオ
ン、シアン化物イオン、硫化物イオン、硫化水素イオ
ン、硝酸イオン、亜硫酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素
イオン、燐酸イオン、亜燐酸イオン、燐酸水素イオン、
メタ燐酸イオン、ポリ燐酸イオン、炭酸イオン、炭酸水
素イオン、珪酸イオン、メタ珪酸イオン、燐酸イオン、
酢酸イオン及び蓚酸イオンであり、塩化物イオン、燐酸
水素イオン、燐酸イオン及び硫酸イオンが最も好まし
い。

【００６６】式IIで表わされる化合物中、式IIのこれら
の陰イオンは、ｐＫａ値が７．５以下の無機酸及びｐＫ
ａ値が４以下の有機酸から誘導されるものが好ましい。
Ｍがプロトンである場合、ｐＫａ値は好ましくは９．５
以下であり、最も好ましくは４以下である。

【００６７】Ｙは式IIで表わされる化合物中、陽イオン
または陰イオンとも配位結合を形成する水分子を表わし
ても良い。即ち結晶水の形であることができる。時に水
分子を完全に除去することは不可能である。その化合物
は全然水を含まないかまたはほんの少し水を含有するこ
とが好ましい。

【００６８】Ｙは配位結合を形成する有機分子であって
も良く、好ましくはアルコール、エーテル、酸アミド、
スルホキシドまたはスルホンであり、例えばメタノー
ル、エタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホンまたはテ
トラメチルスルホンである。式IIで表わされる錯体化合
物は、それらが相当する溶媒中で製造される場合には、
酸化合物の少しの残留量を含んでいても良い。

【００６９】しかしながら、通常上記の水分子及び有機
化合物は、完全に除去することができる、そこでｐは好
ましくはゼロないし１の値であり、最も好ましくはゼロ
である。

【００７０】ｑの値は式IIで表わされる化合物中の錯体
を形成している式Ｉで表わされる化合物の数を示す。ｑ
の値は好ましくは１ないし４であり、特に１または２で
あり、最も好ましくは１である。

【００７１】式IIで表わされる化合物は、西ドイツ国特
許第２３３０９０６号または米国特許第４４０４４０８
号及び同４３３６１４８号明細書に開示されたのと同一
のまたは類似の方法で製造できる。

【００７２】本発明を利用する別の発明はさらに、
（ａ） 次式：

【化１０】 （式中、Ｍ、Ｘ、Ｙ、ｍ及びｎは上記定義と同じ意味を
表わし、ｐ' はｐと無関係にゼロないし１０の値を表わ
す。）で表わされる金属塩、半金属塩、金属または半金
属水酸化物、金属または半金属酸化物、またはプロトン
酸の１モル当量を、次式Ｉ：

【化１１】 （式中、ｎ、Ｘ、Ｒ¹ 及びＲ² は上記定義と同じ意味を
表わす。）で表わされる化合物のｑ（１ないし８の値を
表わす。）モル当量と反応させ、そして使用した溶媒を
除去するか、または（ｂ） （ａ）において得られた反
応生成物を、陽イオンＭまたは陰イオンＸの化合物と反
応させて、イオン置換反応により該陽イオンＭまたは該
陰イオンＸを他の陽イオンまたは陰イオンに置換する、
または（ｃ） 陽イオンＭから成る金属アルコレートま
たは半金属アルコレート、またはプロトン性オキシ酸エ
ステルを上記式Ｉで表わされる化合物のｑモル当量と反
応させて、そして生成した錯体化合物を（α） 次式： Ｈ_n Ｘⁿ で表わされる酸、または次式： Ａ_n Ｘⁿ （式中、Ａはアンモニウム酸イオンを表わす。）で表わ
されるアンモニウム塩と化学量論的割合で反応させ、そ
して生成するアルコール、アミンまたはアンモニアを除
去するか、または（β） 酸無水物、酸ハロゲン化物ま
たは基Ｘが誘導される酸の酸エステルの化学量論的量と
を反応させ、そして生成するアルコールを除去する、こ
とより成る式IIで表わされる化合物の製造方法にも関す
る。

【００７３】（ａ）の変法は、塩、水酸化物、酸化物ま
たは酸を式Ｉで表わされる化合物と直接反応させること
より「直接方法」と名づけても良い。この方法は溶媒を
用いないで行なわれても良いが、好ましくは溶媒中例え
ば水中、水性有機系中または有機溶媒中行なうのが良
い。反応温度は好ましくは０℃ないし１５０℃の範囲で
あり、特に１５℃ないし１００℃であり、例えば２０℃
ないし５０℃である。溶媒系は錯体の形成ののちに例え
ば蒸留により適宜除去される。（ｂ）の変法は、式IIで
表わされる錯体化合物をイオン置換反応により、別の錯
体化合物に変換する。これは錯体にしようと所望する塩
または酸が、使用される溶媒系中、十分に溶解しない場
合または直接の錯化が十分に進まない場合に都合が良
い。変換反応は、例えばイオン交換反応または中和反応
の形をとることができる。この方法では、式Ｉで表わさ
れる錯体中陰イオンＸまたは陽イオンＭを別の陰イオン
または陽イオンに交換することが可能である。反応条件
及び反応媒体は反応（ａ）に準ずる。（ｃ）の変法は、
錯化される陽イオンＸの化合物が、使用される溶媒に十
分に溶解しない場合または、直接の錯化が十分に進まな
い場合に特に適している。この場合、陽イオンＭのアル
コレートまたはプロトン性オキシ酸のエステルから出発
する。すでに述べた様に、アルコレートイオンまたはオ
キシ酸エステルのどちらかが生成錯体中で変換される。
好ましい反応条件は反応（ａ）及び（ｂ）に準ずる。変
法（ｂ）において、例えば無水金属塩または半金属塩ま
たはプロトン酸を錯化する式Ｉで表わされる化合物と直
接反応させる。この反応は加熱により加速される。式Ｉ
で表わされる結晶化合物を使用した場合には、溶媒を使
用しないならば融点以上に反応温度を選択するのが都合
が良い。反応は塩が溶解した後では完全に進んでいる。
不溶分をひき続き濾過し取り除くことができる。無水塩
は例えば次式： ＭｇＣｌ₂ 、ＣａＣｌ₂ 、ＺｎＣｌ₂ 、ＳｎＣｌ₂ 、Ｓ
ｎＢｒ₂ 、ＭｎＣｌ₂及びＣｕＣｌ₂ で表わされる化合物である。例えば次式： ＨＣｌまたはＨＢｒ で表わされるガス状酸は、反応槽に満たされた式Ｉで表
わされる化合物中に導かれることができる。

【００７４】別の製造方法は、結晶水を含有する金属塩
または半金属塩、または酸を使用し、そしてこれらを式
Ｉで表わされる錯化化合物と反応させることより成る。
この方法では、結晶水は常圧または減圧下加熱により除
去することができ、または炭化水素例えばヘキサン、ヘ
プタン、石油エーテルまたはベンゼン、トルエン、キシ
レンまたはクロロホルムの様な有機溶媒との共沸蒸留に
より除去することができる。

【００７５】さらに別の方法では、式Ｉで表わされる化
合物を、適当な有機溶媒中に無水塩または結晶水を含有
する塩、または酸を溶解し、次にこの式Ｉで表わされる
錯化化合物を加えることにより得る。溶媒の除去後、所
望の物質を得る。この方法では、結晶水は通常溶媒と共
に除去される。好ましい溶媒は式Ｉで表わされる化合物
を溶解することもできるものである。適当な溶媒は例え
ばジエチルエーテルの様なエーテル、テトラヒドロフラ
ン、メタノール及びエタノールの様なアルコール、及び
クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシドまたはアセトニトリルであり、及び適当な塩は次
式： ＫＩ、ＮａＢｒ、ＡｇＮＯ₃ 、ＣｕＳＯ₄ ・５Ｈ₂ Ｏ、
Ｎａ₂ Ｓ₂ Ｏ₃ ・５Ｈ₂ Ｏ及びＣｄ（ＣＨ₃ ＣＯＯ）₂
・２Ｈ₂ Ｏ で表わされる化合物である。

【００７６】好ましい製造方法の変法において、式IIで
表わされる錯体化合物は、Ｘが水酸イオンを表わし、金
属水酸化物または金属酸化物またはそれらの水素化物と
水酸化物または酸化物１モルにつきｑモルの割合で式Ｉ
で表わされる錯化化合物とを反応させ、そして次に残存
する金属陽イオンの原子価に相当するヒドロキシル基の
数に十分な水を加えることにより製造される。金属酸化
物を使用する場合には、水を除去すると最初にアルコレ
ートが形成され、反応の水により再び加水分解されるこ
とが考えられる。

【００７７】この反応において、水溶液中でｐＫｂ値が
９以下好ましくは４．５以下である金属酸化物及び水酸
化物を使用することが好ましい。負の値は非常に強い塩
基であることを示す。例えばアルカリ金属及びアルカリ
土類金属、一価のタリウム及び銀の金属酸化物及び水酸
化物である。

【００７８】プロトン酸を使用する方法は、基本的に異
なるものではない。この様に錯体化されるプロトン酸
は、溶媒なしにまたは炭化水素の様な溶媒の存在下、式
Ｉで表わされる錯化化合物に直接加えられる。次の反応
において、反応混合物を溶液が澄むまで温度が５０℃を
越えない様に冷却することは有利である。希釈した水性
プロトン酸を使用する場合、式Ｉで表わされる錯化化合
物の存在下、共沸蒸留により水を除去することは有利で
あり、溶媒を使用しても良い。次式： ＨｎＸ及びＡｎＸ で表わされる化合物において、ｎは好ましくは１ないし
３の整数を表わし、そして酸のｐＫａ値は１５．８以下
であり、好ましくは７以下、最も好ましくは４以下であ
る。説明のために、１５．８というｐＫａ値は最も弱い
酸である水を包含することをつけ加えておく。

【００７９】製造の全ての変法において、反応は溶媒の
存在下、不存在下で行なわれる。特に適した有機溶媒は
エーテル例えばジエチルエーテル、アルコール例えばメ
タノール、エタノール及び好ましくは炭化水素例えばペ
ンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレン
で、これらは本発明の純粋な錯体化合物を得るために常
圧または減圧下蒸留により反応混合物から容易に除去さ
れ得る。蒸留の前に不溶物を濾過により除くことができ
る。さらに溶媒の例は酸アミド例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ホルムアミドそしてスル
ホキシド及びスルホン例えばジメチルスルホキシド、ジ
メチルスルホン及びテトラメチルスルホンである。

【００８０】反応は室温（約２０℃）から１５０℃で行
なわれ、好ましくは５０℃までである。反応物（無水プ
ロトン酸、酸無水物、酸エステル、酸ハロゲン化物）を
加えると、強い発熱反応が通常観察される。従ってある
場合には反応混合物を冷却するのが便利である。溶媒を
除去するために、反応混合物を加熱することが必要であ
る。同様な好ましい反応条件は方法（ｂ）にも適用され
る。

【００８１】方法（ｃ）で使用した金属、半金属及びオ
キシメタルアルコレートを、別の既知の方法で製造して
も良い。このことに関する記述は例えば米国特許第４４
０４４０８号第１４段第３８行ないし第１５段第３０行
にその可能性が開示されている。さらにその詳細は、同
第１５段第３１行ないし第２０段第１９行に、“式Ｉで
表わされる化合物”は“Ｚ”という表現で見られる。該
頁に関しては本明細書の記載の部分として考慮される。
本発明の錯体化合物中の整数ｑは米国特許第４４０４４
０８号に開示されたものより小さいということも考慮す
べきである。

【００８２】式IIで表わされる錯体化合物は、陰イオ
ン、陽イオン及び式Ｉで表わされる錯化化合物及び、そ
れらの含有比に依存して、結晶性、ワックス状、流動性
また粘性濃度を呈する。それらは著しい高温安定性を有
し、これは式Ｉで表わされる錯化化合物が堅固に結合し
ていることを示す。この記載は、多くの代表的物質が、
その組成を変えることなしに適当な溶媒から再結晶させ
ることができる結晶性化合物であるという事実により支
持されている。

【００８３】特に注目に値する特性は、多くの有機溶媒
非極性、液体炭化水素の様な非プロトン性溶媒にさえも
式IIで表わされる化合物が驚くべき高い溶解度を示すこ
とである。式Ｉで表わされる錯化化合物の種類及び数に
より溶解度に影響を及ぼすことは可能である。天然及び
合成ポリマー、潤滑油、燃料及び作動液への適合性もま
た非常に良い。

【００８４】式IIで表わされる化合物は非常に良好な静
電防止及び安定化特性を有する。

【００８５】従って本発明は天然または合成ポリマー、
天然または合成潤滑剤、燃料または作動液並びに少なく
とも１種の式IIで表わされる錯体化合物から成る組成物
にも関する。

【００８６】本発明の組成物中の天然および合成ポリマ
ーの例を次に示す。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンから誘導される
ポリマー、例えば場合により架橋していてもよいポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ
ン−１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまた
はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシク
ロペンテンもしくはノルボルネンのポリマー。

【００８７】２．１）で示したポリマーの混合物、例え
ばポリプロピレンおよびポリイソブチレンの混合物。

【００８８】３．モノオレフィンおよびジオレフィン相
互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエ
チレン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブテ−１
−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマ
ー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン
／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコ
ポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマ
ー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エ
チレン／ビニルアセテートコポリマーまたはエチレン／
アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（イオノマ
ー）並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサ
ジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボ
ルネンとのターポリマー。

【００８９】４．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）。

【００９０】５．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／無
水マレイン酸または、スチレン／アクリロニトリル／メ
チルアクリレート；スチレンコポリマーと他のポリマ
ー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエ
チレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強
度の混合物；さらにまたはスチレンのブロックコポリマ
ー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン
／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレ
ン／スチレン、またはスチレン／エチレン／プロピレン
／スチレン。

【００９１】６．スチレンのグラフトコポリマー、例え
ばスチレンの結合したポリブタジエン、スチレンおよび
アクリロニトリルの結合したポリブタジエン、スチレン
および無水マレイン酸の結合したポリブタジン、スチレ
ンおよびアルキルアクリレートもしくはメタクリレート
の結合したポリブタジエン、スチレンおよびアクリロニ
トリルの結合したエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマー、スチレンおよびアクリロニトリルの結合したポ
リアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレ
ートまたはスチレンおよびアクリロニトリルの結合した
アクリレート／ブタジンコポリマー、およびこれらと
５．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、
ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られてい
るコポリマー混合物。

【００９２】７．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、または塩素化もしくはクロロ
スルホン化ポリエチレンおよびエピクロロヒドリンのホ
モ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物
から得られるポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ化ビ
ニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩
化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

【００９３】８．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリ
アクリロニトリル。

【００９４】９．上記８に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートコポリマーまたはアクリ
ロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリ
ロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンター
ポリマー。

【００９５】１０．不飽和アルコールおよびアミンまた
はそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから
誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベ
ンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラ
ール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミ
ン。

【００９６】１１．環状エーテルのホモポリマーおよび
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。

【００９７】１２. ポリアセタール、例えばポリオキシ
メチレン、並びにコモノマー、例えば、エチレンオキシ
ドを含有するポリオキシメチレン。

【００９８】１３．ポリフェニレンオキシドおよびスル
フィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレ
ンとの混合物。

【００９９】１４. ヒドロキシ末端基を含むポリエーテ
ル、ポリエステルおよびポリブタジエンと、脂肪族また
は芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレ
タンならびにその前駆物質。

【０１００】１５. ジアミンおよびジカルボン酸および
／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリ
アミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミ
ド６／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−
２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタル
アミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド並
びに、これらとポリエーテル、例えばポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメ
チレングリコールとのコポリマー。

【０１０１】１６. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド
−イミドおよびポリベンズイミダゾール。

【０１０２】１７. ジカルボン酸およびジオールから、
および/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラ
クトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル。

【０１０３】１８. ポリカーボネートおよびポリエステ
ル−カーボネート。

【０１０４】１９. ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ンおよびポリエーテルケトン。

【０１０５】２０．アルデヒドと、フェノール、尿素ま
たはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェ
ノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒ
ド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

【０１０６】２１．乾性もしくは非乾性アルキド樹脂。

【０１０７】２２．飽和および不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポ
リエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂およ
び燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変樹脂。

【０１０８】２３．置換アクリル酸エステル、例えばエ
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル
樹脂。

【０１０９】２４．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートまたはエポキシ樹脂と混合したアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。

【０１１０】２５．ポリエポキシド、例えばビスグリシ
ジルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから
誘導された架橋エポキシ樹脂。

【０１１１】２６．天然ポリマー、例えば、セルロー
ス、天然ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同
族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース、セルロースブチレート、並びにセルロースエーテ
ル、例えばメチルセルロース。

【０１１２】２７．前述のポリマーの混合物（ポリブレ
ンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ
またはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶ
Ｃ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

【０１１３】２８．純粋なモノマー化合物またはそれら
の混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱
油、動物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは
合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフ
ェートまたはトリメリテート）をベースとするオイル、
脂肪およびワックス、ならびにポリマー用可塑剤とし
て、または紡糸製剤油として用いられているいかなる重
量比での合成エステルと鉱油との混合物。

【０１１４】２９．天然または合成ゴムの水性エマルジ
ョン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化ス
チレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。

【０１１５】本発明の組成物は、例えば熱硬化性樹脂及
び少なくとも１種の式ＩＩで表わされる錯体化合物を含
有するもの並びにエラストマー及び少なくとも１種の式
ＩＩで表わされる錯体化合物を含有するものである。

【０１１６】上記のクラスのポリマーを含有する組成物
は、さらに別の通常の添加剤、式Ｉで表わされる化合物
の使用のために上記した例えばクラス１ないし９の酸化
防止剤、並びに１種またはそれ以上の下記の添加剤を加
えても良い。

【０１１７】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾールの誘導体 、例えば、５’−メチル、３’，
５’−ジ−第三ブチル−、５’−第三ブチル−、５’−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −、５−クロ
ロ−３’−第三ブチル−５’−メチル−、３’−第二ブ
チル−５’−第三ブチル−、４’−オクトキシ−、
３’，５’−ジ−第三アミル−、３’，５’−ビス−
（α，α−ジメチルベンジル）誘導体。

【０１１８】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ンの誘導体、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ
−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデ
シルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′
−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′
−ジメトキシ誘導体。

【０１１９】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えばフェニル＝サリチレート、４−第
三ブチルフェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート。

【０１２０】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。

【０１２１】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。

【０１２２】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンとの
縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，
１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，
５−テトラメチルピペラジノン）。

【０１２３】２．７． 蓚酸ジアミド、例えば４，４′
−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジオクチ
ルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，
２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサ
ニリド、２−エトキシ−２′−エトキサニリド、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミ
ド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキ
サニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル
−５，４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物，ｏ−
およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およ
びｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

【０１２４】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド。

【０１２５】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ジ（２，４
−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフ
ィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、３，９−
ビス−（２，４−ジ−第三ブチルフェノキシ−２，４，
８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ
［５，５］ウンデカン。

【０１２６】５． 過酸化物分解化合物、例えばβ−チ
オジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステア
リル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプ
トベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイ
ミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜
鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネー
ト。

【０１２７】６． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。

【０１２８】７． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、
リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、ピロカテ
コールアンチモン塩およびピロカテコール錫塩。

【０１２９】８． 核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【０１３０】９． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオ
リン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および金属水酸
化物、カーボンブラック、グラファイト。

【０１３１】１０．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎加工剤、静電防止剤
および発泡剤。

【０１３２】さらに本発明の組成物は、例えば潤滑剤ま
たは作動液及び少なくとも１種の式IIで表わされる錯体
化合物からなるものである。

【０１３３】典型的な潤滑剤及び作動液は式Ｉで表わさ
れる化合物を混入させることに適していることをすでに
記述した。式IIで表わされる化合物を含有することに加
えて、潤滑剤及び作動液組成物が、さらにその潤滑剤と
しての基本的特性を改善するために、その他の添加剤を
含有しても良い。その様な添加剤は、酸化防止剤、金属
不活性化剤、防錆剤、粘度指数改良剤、流動点降下剤、
分散剤、表面活性剤、極圧添加物及び耐摩耗剤である。
その様な添加剤の個々のものは、前に式Ｉで表わされる
化合物を含有する組成物に関して、本明細書第６頁ない
し１１頁にあげた。

【０１３４】式IIで表わされる化合物は、ポリマー、潤
滑剤、燃料及び作動液組成物に対して、好ましくは０．
００１ないし１５重量％添加され、特に好ましくは０．
０１ないし１０重量％であり、最も好ましくは０．０１
ないし５重量％例えば０．０１ないし３重量％添加され
る。

【０１３５】それ故に本発明に関連する別の発明は、式
Ｉで表わされる化合物の天然及び合成ポリマー、並びに
天然または合成潤滑剤または作動液の安定剤及び静電防
止剤としての使用方法にも関する。

【０１３６】式IIで表わされる錯体化合物を、熱可塑性
樹脂及びエラストマー用の安定剤及び静電防止剤とし
て、並びに潤滑剤及び作動液用の極圧及び耐摩耗添加剤
として使用するのが好ましい。

【０１３７】安定剤として使用する場合には、式IIで表
わされる化合物は例えば有効な熱安定剤（加工安定剤）
及び性能安定剤（例えば酸化防止剤）である。それら
は、潤滑剤及び作動液用の有効な極圧及び耐摩耗添加剤
でもある。該化合物が添加される熱可塑性樹脂ポリマ
ー、エラストマー、潤滑剤及び作動液は上にあげたもの
である。

【０１３８】

【実施例】下記の実施例においてさらに本発明を詳細に
説明する。部及び％は特にことわりがない限り重量に基
づいたものである。実施例１ ：アミノソルビトール１８．１ｇ，１−（ｔ−
ブチルチオ）−２，３−エポキシプロパン２９．２ｇ及
びメタノール１００mlを攪拌し、２時間還流する。わず
かな濁りを濾過により清浄にし、その揮発性物をロータ
リエバポレーションにより留去し、次式：

【化１２】 で表わされる化合物４７．０ｇ（理論値の９９％）を、
高粘性物質ｎＤ⁴⁰：１．５２０２として得る。

【０１３９】実施例２：アミノソルビトール９ｇ（０．
０５モル）、１−（ｔ−ノニルチオ）−２，３−エポキ
シプロパン２３．８ｇ（０．１１モル）、メタノール２
０ml及びテトラヒドロフラン２０mlを清澄溶液が得られ
るまで６４℃で還流する。わずかな濁りを濾過により除
去し、混合物をパラフィン油３２．８ｇで希釈し、揮発
性物をロータリエバポレーションにより留去し、次式：

【化１３】 で表わされる化合物６５．４ｇ（理論値の１００％）
を、高粘性物質ｎＤ²⁰：１．４８７６として得る。

【０１４０】実施例３ないし９：さらに実施例１の方法
に従って製造した化合物を第１表に示した。

【表１】 化合物４．５及び６の製造のために、Ｎ−メチルアミノ
ソルビトール及びＮ−エチルアミノソルビトール及び相
当する１−アルキルチオ−２，３−エポキシプロパンが
概そ等モル量使用された。

【０１４１】実施例１０：ＮｉＣｌ₂ ・６Ｈ₂ Ｏ ３．
６ｇをメタノール５０ml中に溶解させ、その溶液に実施
例３で得たアミノソルビトールと１−（ｔ−ドデシルチ
オ）−２，３−エポキシプロパンとの反応生成物１０．
５ｇを加える。溶媒を減圧下留去する。残余結晶水を減
圧下４０℃でトルエンと共に定量的に除去し、次式：

【化１４】 で表わされる錯体化合物１２．５ｇを、ヘプタン及びそ
の他の非極性溶媒に容易に溶解する淡緑色の樹脂状物質
として得る。この５０％溶液は屈折率ｎＤ⁴⁰＝１．４８
６６を示す。

【０１４２】実施例１１：実施例１０においてＮｉＣｌ
₂ ・６Ｈ₂ Ｏの代わりにＣｕＳｏ₄ ・５Ｈ₂ Ｏを使用す
ると、次式：

【化１５】 で表わされる錯体化合物を収量１２．９ｇで、ヘプタン
及びその他の非極性溶媒に容易に溶解する淡青緑色のガ
ラス状物質として得る。パラフィン油中５０％の溶液は
屈折率ｎＤ⁴⁰＝１．４８３６を示す。

【０１４３】実施例１２：Ｃｕ（ＯＯＣＣＨ₃ ）₂ ・Ｈ
₂ Ｏ １０ｇをメタノールに溶解し、実施例７で得たア
ミノソルビトール及び１−（イソオクチルオキシ）−
２，３−エポキシプロパンの反応生成物２７．７ｇを加
える。次に燐酸４．９を加え、そして溶媒をロータリエ
バポレーターで真空下留去する。残った遊離酢酸を真空
下トルエンと共に定量的に除去し、次式：

【化１６】 で表わされる化合物３１．５ｇを、トルエン及びキシレ
ンに容易に溶解する青緑色のガラス状物質として得る。
キシレン中５０％の溶液は屈折率ｎＤ⁵⁰＝１．４８４６
を示す。

【０１４４】実施例１３：実施例３で得たアミノソルビ
トールと１−（ｔ−ドデシルチオ）−２，３−エポキシ
プロパンとの反応生成物３４．９ｇをトルエン２００ml
中に溶解する。この溶液にＢａ（ＯＨ）₂ ・８Ｈ₂ Ｏ
１５．８ｇを加え、そして結晶水及び反応水９mlを攪拌
しながら留去する。冷却しながら、実施例３の生成物を
さらに３４．９ｇ及び硫酸一水和物５．８ｇを２０℃で
滴加する。その混合物を２０℃で１５分間攪拌する。そ
して真空下蒸留すると、次式：

【化１７】 で表わされる化合物８１ｇを、トルエン、キシレン及び
その他の非極性溶媒に容易に溶解する高粘性物質として
得る。

【０１４５】実施例１４：オルト燐酸２．５ｇをメタノ
ールに溶解し、その溶液に実施例２で得たアミノソルビ
トールと１−（ｔ−ノニルチオ）−２，３−エポキシプ
ロパンとの反応生成物１５．３ｇを加える。溶媒を減圧
下除去すると、次式：

【化１８】 で表わされる化合物１７．８ｇを、キシレンに容易に溶
解する樹脂状物質として得る。キシレン中５０％溶液は
屈折率ｎＤ²⁰＝１．５４０７を示す。

【化１９】 で表わされる化合物は、実施例３の生成物を使用して類
似の方法で得られる。キシレン中５０％溶液は屈折率ｎ
Ｄ²⁰＝１．５０２９を示す。さらに式IIで表わされる化
合物は米国特許第４４０４４０８号明細書第２３段、第
３２行ないし第２６段第１４行の詳細な記述に基づいて
製造できる。さらに次式：

【化２０】 で表わされる化合物を式Ｉで表わされる化合物と反応さ
せると、米国特許第４４０４４０８号明細書の第１表
（第２５段ないし４０段）及び表（“塩”、実施例１な
いし２０４）の左側の欄に掲載されている式IIで表わさ
れる錯体（例えば実施例１０ないし１４または前に述べ
た方法Ａ−Ｆ₇ ）を得る。

【０１４６】使用実施例１：融着荷重（ＷＬ）及び摩耗
痕直径（ＷＳＤ）をシエル四球装置（ＩＰ ２３９／７
３、油及びグリース−四球マシンのための極圧及び摩耗
潤滑試験）を使用して、極圧添加剤の濃度の作用として
決定する。 ＷＬ ＝融着荷重：四球が１０秒以内に融着する荷重 ＷＳＤ＝摩耗痕直径：荷重４００Ｎ，１０分後の三静止
球がつくる平均摩耗直径 試験流体はＩＳＯ ＶＧ １００の粘度の鉱油である。
結果を第２表に示す。

【表２】

【０１４７】使用実施例２：使用実施例１で記述した器
具を用い、水（トリエチルアミンでｐＨ８．５に調整し
た）に対するＷＬ及びＷＳＤ値を、式Ｉで表わされる添
加剤の有無に関し決定する。結果を第３表に示す。

【表３】

【０１４８】使用実施例１及び２の試験において、実施
例１，２及び５ないし９の化合物で比較的良好な結果を
得た。非常に良好なＷＬ及びＷＳＤ値は実施例１０ない
し１４の化合物で得られ、特に使用実施例１で述べた試
験において良好な結果を得た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 15/04 9450−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 15/04 // Ｃ１０Ｍ 133/08 Ｃ１０Ｍ 133/08 135/24 135/24 137/04 137/04 139/00 139/00 Ｚ 159/18 159/18 Ｃ１０Ｎ 10:02 10:04 10:06 10:08 10:12 10:14 10:16 30:00 30:06 30:08 30:10 40:00 40:04 40:08 40:25

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式Ｉ： 【化１】 〔式中、ｎは４の整数を表わし、Ｘは次式 −Ｓ−、−Ｏ−または−ＣＨ₂ − で表わされる基を表わし、Ｒ¹ は炭素原子数１ない２２
   のアルキル基を表わし、および、Ｒ² は水素原子、炭素
   原子数１ないし８のアルキル基または次式： −ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ −Ｘ−Ｒ¹ （式中、Ｘ及びＲ¹ は上記と同じ意味を表わす。）で表
   わされる基を表わす。〕で表わされる化合物。