JPS6244711B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6244711B2
JPS6244711B2 JP55098537A JP9853780A JPS6244711B2 JP S6244711 B2 JPS6244711 B2 JP S6244711B2 JP 55098537 A JP55098537 A JP 55098537A JP 9853780 A JP9853780 A JP 9853780A JP S6244711 B2 JPS6244711 B2 JP S6244711B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
type
semiconductor layer
energy gap
layer
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55098537A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5723281A (en
Inventor
Kazuhisa Takahashi
Hirobumi Namisaki
Wataru Suzaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP9853780A priority Critical patent/JPS5723281A/ja
Publication of JPS5723281A publication Critical patent/JPS5723281A/ja
Publication of JPS6244711B2 publication Critical patent/JPS6244711B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0232Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L31/02327Optical elements or arrangements associated with the device the optical elements being integrated or being directly associated to the device, e.g. back reflectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、半導体受光素子に関するもので、
特に光分波機能を有する受光素子に係るものであ
る。
従来、光分波機能を有する受光素子として第1
図に示すものがあつた。この図において、1はp
形InP基板、2はEgAのエネルギーギヤツプを有
するp形InGaAsP層、3は同じくEgAのエネルギ
ーギヤツプを有するn形InGaAsP層、4はn形
InP層、5はEgB(EgB>EgA)のエネルギーギ
ヤツプを有するn形InGaAsP層、6はn形InP
層、7は前記n形InP層6の表面の一部から選択
的にn形InGaAsP層5に達するまで拡散により
p形化されたp形拡散層、8はn側共通電極、
9,10はそれぞれp側電極である。
この従来例では、入射光はエネルギーギヤツプ
gBに相当する波長λgBより短い波長帯のものと
エネルギーギヤツプEgAに相当する波長をλgA
してλgB〜λgAの波長帯の2波長帯で検波される
にすぎない。3波長帯以上で検波するにはエネル
ギーギヤツプの異なるInGaAsP層を多層設ける
ことにより可能であるが、結晶成長においてそれ
だけ困難さが増すことになる。
この発明は、従来の半導体受光素子では事実上
なし得なかつた多数の波長帯を有する入射光をそ
れぞれの波長帯ごとに検波できる受光素子として
実現するためになされたものであり、光分波器と
してのグレーテイングを有する光導波路と、光検
出器としての受光素子とをモノリシツクに形成し
た新しい受光素子を提供するものである。以下、
この発明について説明する。
第2図はこの発明の一実施例を示す断面略図で
ある。第2図において、21はn形
In0.53Ga0.47As基板でそのエネルギーギヤツプは
0.75eVである。22はn形In0.53Ga0.47As基板2
1上に設けられたn形InP層で、そのエネルギー
ギヤツプは1.35eVである。23はn形
In0.78Ga0.22As0.52P0.48層でそのエネルギーギヤツ
プは1.02eVである。このn形
In0.78Ga0.22As0.52P0.48層23の表面には2次のグ
レーテイング波長がΛ、Λ、……、Λiであ
るi個のグレーテイング24を設けてある。25
は前記n形In0.53Ga0.47As基板21の裏面に選択
的にp形不純物を拡散して形成したi個のp形
In0.53Ga0.47As層であり、それぞれはi個のグレ
ーテイング24の直下に位置するように形成され
ている。26はi個のp形電極、27はn形共通
電極である。なお、矢印は光の入射方向を示して
いる。
第2図で示した構造においては、矢印で示した
方向から入射した光のうち、λi=Λiなる波長を
有する光がΛiのグレーテイング24によつてn
形In0.53Ga0.47As基板21方向に直角に曲げら
れ、n形In0.53Ga0.47As基板21とp形
In0.53Ga0.47As層25とで形成されているpn接合
により検出される。従つて、適当なグレーテイン
グ波長を有するグレーテイング24と、これと同
数のpn接合を適当な数だけ設けることにより入
射光をいくつにも分波、検出することが可能であ
る。
なお、以上の説明では結晶の材料としてInP、
In0.53Ga0.47As、In0.78Ga0.22As0.52P0.48の組合わ
せによつたが、この他の組成比のものでもよく、
またGaSb、GaAlSb、GaAlAsSbの組合わせでも
よいことはいうまでもない。
以上説明したようにこの発明は、第1の導電形
の第1の半導体層22の一主面上に、第1の導電
形で第1の半導体層のエネルギーギヤツプより小
さいエネルギーギヤツプを有し、かつその表面に
複数の波長の光を分波すべき互いに周期の異なる
複数のグレーテイングが施されている第2の半導
体23を設け、第1の半導体層の他の主面上に第
1の導電形で第2の半導体層のエネルギーギヤツ
プより小さいエネルギーギヤツプを有し、かつそ
の表面の一部が複数の部分に分かれて第2の導電
形に変換されている第3の半導体層21を設けて
半導体受光素子を構成したので、簡単な結晶構造
で入射光を任意の数に分波し、検出することがで
きる利点を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光分波機能を有する受光素子の
一例を示す断面図、第2図はこの発明の一実施例
を示す断面図である。 図中、21はn形In0.53Ga0.47As基板、22は
n形InP層、23はn形In0.78Ga0.22As0.52P0.48
層、24はグレーテイング、25はp形
In0.53Ga0.47As層である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 第1の導電形を有する第1の半導体層、この
    第1の半導体層の1主面上に設けられた第1の導
    電形で前記第1の半導体層のエネルギーギヤツプ
    より小さいエネルギーギヤツプを有し、かつその
    表面に複数の波長の光を分波すべき互いに周期の
    異なる複数のグレーテイングが施されている第2
    の半導体層、前記第1の半導体層の他の主面上に
    設けられた第1の導電形で前記第2の半導体層の
    エネルギーギヤツプより小さいエネルギーギヤツ
    プを有し、かつその表面の一部が複数の部分に分
    かれて第2の導電形に変換されている第3の半導
    体層からなることを特徴とする半導体受光素子。
JP9853780A 1980-07-17 1980-07-17 Semiconductor light-receiving element Granted JPS5723281A (en)

Priority Applications (1)

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JP9853780A JPS5723281A (en) 1980-07-17 1980-07-17 Semiconductor light-receiving element

Applications Claiming Priority (1)

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JP9853780A JPS5723281A (en) 1980-07-17 1980-07-17 Semiconductor light-receiving element

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Publication Number Publication Date
JPS5723281A JPS5723281A (en) 1982-02-06
JPS6244711B2 true JPS6244711B2 (ja) 1987-09-22

Family

ID=14222429

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JP9853780A Granted JPS5723281A (en) 1980-07-17 1980-07-17 Semiconductor light-receiving element

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JP (1) JPS5723281A (ja)

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Also Published As

Publication number Publication date
JPS5723281A (en) 1982-02-06

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