JPS624343A - Master-slice-type semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Master-slice-type semiconductor integrated circuit device

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JPS624343A
JPS624343A JP14501285A JP14501285A JPS624343A JP S624343 A JPS624343 A JP S624343A JP 14501285 A JP14501285 A JP 14501285A JP 14501285 A JP14501285 A JP 14501285A JP S624343 A JPS624343 A JP S624343A
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JP
Japan
Prior art keywords
flip
flop
regions
semiconductor integrated
integrated circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP14501285A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Ouchi
大内 雅弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS624343A publication Critical patent/JPS624343A/en
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Abstract

PURPOSE:To optimize the construction of a call for decreasing the parasitic capacity, by providing specific logic circuit regions such as a flip-flop, or exclusive OR or NOR gate in specific areas in an inner cell region. CONSTITUTION:A master-slice-type semiconductor integrated circuit device is constituted by bonding pads 111-11n, 121-12n, 131-13n and 141-14n, power supply circuits 21-24 and inner cell region 4. The inner cell region 4 consists of flip-flop regions 51-5m, gate regions 61-6m+1 and cell connecting regions 71-7m. Since the flip-flop regions 51-5m are isolated from the gate regions 61-6m+1, a pattern can be laid out in an optimum manner for constituting a flip-flop. Accordingly, the parasitic capacity produced by ineffective wiring regions can be decreased.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、配線工程を除く工程まで共通に形成され、配
線工程のみを変えることによって各種論理回路が構成さ
れるマスタースライス型半導体集積回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a master slice type semiconductor integrated circuit that is formed in common up to the process excluding the wiring process, and various logic circuits are configured by changing only the wiring process. .

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種のマスタースライス型半導体集積回路装置
は、例えば第3図に示すように、ポンディングパッド1
0ss 、10□、・・・、101%、10□、1〜.
・・・。
Conventionally, this type of master slice type semiconductor integrated circuit device has a bonding pad 1 as shown in FIG.
0ss, 10□,..., 101%, 10□, 1~.
....

101Me 1081e to、、 ”’e 10St
l* 1041* 1041* ”・−、104%と各
種電源回路11□、 11.、11.、11.と入・出
力パッシア回鮎12..12.、12.、12.と、内
部セル領域13で構成され、入・出力バッファ回路12
1〜124と内部セル領域13の配線工程のみをかえて
、各種論理回路が構成されていた。
101Me 1081e to,, ”'e 10St
l* 1041* 1041* ”・-, 104%, various power supply circuits 11□, 11., 11., 11., input/output passive circuit 12..12., 12., 12., and internal cell area 13, an input/output buffer circuit 12
Various logic circuits were constructed by changing only the wiring steps of 1 to 124 and the internal cell region 13.

第3図の例では、内部セル領域13は3人力のノアゲー
トで構成されている。また、内部セル領域13の構成は
、へイボーラ系ではTTL、I”L、STp。
In the example shown in FIG. 3, the internal cell region 13 is composed of three NOR gates. Further, the configuration of the internal cell region 13 is TTL, I''L, and STp in the Heibora system.

ECL等があり、特に高速のマスタースライス集積回路
装置ではECLロジックが多く使用される。
There are ECL logics, etc., and ECL logics are often used especially in high-speed master slice integrated circuit devices.

第4図は、ECLロジックで構成した3人カノアゲート
の例で差動対を構成するトランジスタ14゜15,16
,17.定電流源用のトランジスタ18、エミッタフォ
ロワー用トランジスタ19で構成されている。高速論理
回路の高速性を妨げる1つの要因として、配線および抵
抗の寄生容量がある、第4図において20 、21なる
部分に寄生する容量が特に問題になることはよく知られ
ている。20はセル内の配線および抵抗の寄生容量、2
1は主にセル間の配線に寄因する容量と考えられる。し
たがうて、第4図に示したゲートを複数個用いて排他的
オアlノアゲート、フリップフロップ等を構成しようと
した場合、セル間の配線が長くなり、そのため(:寄生
容量が増大し、結果として高速性を損うことC:なる。
Figure 4 shows an example of a three-person Kanoa gate constructed using ECL logic, with transistors 14, 15, and 16 constituting a differential pair.
,17. It is composed of a constant current source transistor 18 and an emitter follower transistor 19. It is well known that parasitic capacitance of wiring and resistors is one of the factors that impede the high speed performance of high-speed logic circuits, and that the parasitic capacitance at portions 20 and 21 in FIG. 4 is particularly problematic. 20 is the parasitic capacitance of wiring and resistance within the cell, 2
1 is considered to be the capacitance mainly due to the wiring between cells. Therefore, when attempting to construct an exclusive-OR-NOR gate, a flip-flop, etc. using a plurality of gates shown in FIG. C: Impairing high speed.

このために縦°積の排他的オアlノアゲート、フリップ
フロップを多数使用されることが予想される場合には、
第5図に示すように多数個のトランジスタ、抵抗を1つ
のセルにして、1つの論理回路を構成した時、配線に寄
因する容量を減らして高速性を損わないようにする。こ
のセル構造のセルでラッチを構成したのが第6図である
。この場合も22〜23および24〜25なる内部配線
および抵抗、セル間配線に寄因する寄生容量がある。
If it is expected that a large number of vertical product exclusive-or-nor gates and flip-flops will be used for this purpose,
As shown in FIG. 5, when one logic circuit is constructed by combining a large number of transistors and resistors into one cell, the capacitance caused by the wiring is reduced so as not to impair high speed performance. FIG. 6 shows a latch constructed with cells having this cell structure. In this case as well, there are parasitic capacitances due to internal wirings 22 to 23 and 24 to 25, resistances, and intercell wirings.

第5図のようなセル構成にすることにより、ある程度寄
生容量を減らし、高速性を保つことができる。しかし、
ある決まったセル構成で複数の論理回路を構成するため
には、セル構造にある程度の冗長性を持たせることにな
り、このことは、ある論理回路を構成した時には無駄な
部分があることを意味し、この無駄となる部分が寄生素
子となり、高速性を妨げる要因となっている。また、回
路形成として、レフトレジスタ、カクンタ尋のツリツブ
フロップが縦続接続された部分が多い場合は、配線領域
を介しての接続もフリップフロップの縦続接続という点
から見れば無駄な部分となる。
By configuring the cell as shown in FIG. 5, parasitic capacitance can be reduced to some extent and high speed performance can be maintained. but,
In order to configure multiple logic circuits with a certain cell configuration, a certain degree of redundancy must be provided in the cell structure, which means that when a certain logic circuit is configured, there will be some wasted parts. However, this wasted portion becomes a parasitic element, which is a factor that hinders high speed performance. Furthermore, if the circuit configuration has many parts in which left registers and cascaded flip-flops are connected in cascade, connections through wiring areas will also be a wasteful part from the point of view of cascade connection of flip-flops.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述した従来のマスタースライス型半導体集積回路装置
は、セル構造に冗長性を持つことと、マスタースライス
特有のセル間の配線があるという点から、そのマスター
スライス型半導体集積回路装置を構成しているデバイス
が本来持りている高速性を犠牲にしているという欠点が
ある。
The conventional master slice semiconductor integrated circuit device described above has redundancy in its cell structure and has wiring between cells that is unique to the master slice. The drawback is that it sacrifices the device's inherent high speed.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のマスタースライス半導体集積回路装置は、論理
回路を構成する内部セル領域の特定の領域に特定の論理
回路を有している。
The master slice semiconductor integrated circuit device of the present invention has a specific logic circuit in a specific area of the internal cell area that constitutes the logic circuit.

このように、内部セル領域の特定の領域にフリップフロ
ップ、排他的オアlノアゲート等の特定の論理回路を設
けることにより、セル構成を最適化でき、このため従来
は無駄な配線領域に寄因していた寄生容量を減少させる
ことができ、高速のマスタースライス型半導体集積回路
装置を製造できる。
In this way, by providing specific logic circuits such as flip-flops and exclusive-OR-NOR gates in specific areas of the internal cell area, the cell configuration can be optimized. This makes it possible to reduce the parasitic capacitance that previously existed, and to manufacture a high-speed master slice type semiconductor integrated circuit device.

〔実 施 例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明のマスタースライス型半導体集積回路装
置の一実施例の構成図である。
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of a master slice type semiconductor integrated circuit device of the present invention.

本実施例のマスタースライス型半導体集積回路装置は、
ポンディングパッド1゜、1□、・・・v 1tss 
1altle ”’a  11%p  l1ls 1n
e ”’p 11%s 141s 141y ””a 
i4sと、各種電源回路2H2@−2B−24と、入・
出力バッフ1回路3..3.、3.、3.と内部セル領
域4で構成され、内部セル゛領域4はフリッププロップ
領域5、、5.、−・・、5.と従来のゲート領域S、
、 S、、・・・。
The master slice type semiconductor integrated circuit device of this example is as follows:
Ponding pad 1゜, 1□,...v 1tss
1altle ”'a 11%p l1ls 1n
e ”'p 11%s 141s 141y ””a
i4s, various power supply circuits 2H2@-2B-24, and
Output buffer 1 circuit 3. .. 3. , 3. , 3. and an internal cell area 4, and the internal cell area 4 is comprised of flip-flop areas 5, , 5 . ,-...,5. and the conventional gate region S,
, S,...

6よ、とセル間の配線領域71# ’y、、・・・、7
.で構成されている。   。
6 y, and wiring area 71#'y,...,7 between cells
.. It consists of .

このようにフリップフロップ領域51〜5.とゲート領
域6.〜6゜、を分離することにより、ツリツブフロッ
プ領域51〜5.は、フリップフロップを構成するため
の最適のパターンレイアクトが可能になり、またゲート
領域61〜aw、においては、従来、ツリツブフロップ
を1セル〜2セルで構成できる構造のセルでは冗長性が
ありすぎて無駄になっていた部分がツリツブフロップを
構成しないために、少なくなり、このために寄生容量が
減り、ある程度高速性を保つことができる。また、フリ
ップフロップ領域5.〜5.を設けることにより、シフ
トレジスタ、カクンタ等の縦続接続がある場合、フリッ
プフロップ間の接続を、配線領域7.〜7.を介して行
なわずに隣接するセルの入力端子8、出力端子9を第2
図に示すようにセルの左右辺に置くことにより最短距離
でフリッププロップを接続することができる。また、本
実施例では、特定領域中の論理回路がフリップフロップ
であったが、回路形式によっては、排他的オアlノアゲ
ートでもよい。
In this way, the flip-flop areas 51-5. and gate area 6. ~6°, the tree tube flop regions 51 to 5. This enables an optimal pattern layout for configuring a flip-flop, and in the gate region 61 to aw, there is too much redundancy in the conventional structure in which a flip-flop can be constructed from 1 to 2 cells. The portion that would otherwise have been wasted is reduced because it does not form a tree flop, which reduces parasitic capacitance and maintains high speed to some extent. Also, flip-flop area 5. ~5. By providing cascade connections such as shift registers and kakuntas, connections between flip-flops can be made in the wiring area 7. ~7. The input terminal 8 and output terminal 9 of the adjacent cell are connected to the second
By placing the flip-flops on the left and right sides of the cell as shown in the figure, flip-flops can be connected over the shortest distance. Further, in this embodiment, the logic circuit in the specific area is a flip-flop, but depending on the circuit type, it may be an exclusive-or-nor gate.

なお、本発明では、フリップフロップおよびゲート領域
を構成するセル構造については特に規定していないが、
ソリツブフロップおよびゲートを構成する最適のレイア
ウトにするようなセル構成にすることは言うまでもない
Note that, although the present invention does not particularly specify the cell structure constituting the flip-flop and gate region,
Needless to say, the cell configuration should be designed to provide an optimal layout for configuring the solid flop and gate.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、内部セル領域の特定の領
域にブリップフロップ、排他的オアlノアゲート等の特
定の論理回路領域を設けることC二より、(1)セル構
成を最適化でき、このためC:従来は無駄な配線領域に
存置していた寄生容量を減少させることができ、高速の
マスタースライスを製造できる、(2)特定の領域のセ
ル間の接続は入出力端子位置を適当に置くことにより、
配線領域を介さずに最短で接続することができ、このた
めに配線長を短くする事ができ、その結果、セルの出力
端子に付く寄生容量が減少することになり、セル内部の
消費電力も減少させることができ、集積度も上げられる
という効果がある。
As explained above, the present invention enables (1) to optimize the cell configuration by providing a specific logic circuit area such as a flip-flop or an exclusive-OR-NOR gate in a specific area of the internal cell area; Therefore, C: It is possible to reduce the parasitic capacitance that conventionally existed in wasted wiring areas, and it is possible to manufacture high-speed master slices. (2) Connections between cells in specific areas can be made by appropriately positioning the input and output terminals. By placing
Connections can be made at the shortest possible distance without going through the wiring area, and therefore the wiring length can be shortened, resulting in a reduction in parasitic capacitance attached to the output terminal of the cell, and power consumption inside the cell. This has the effect of reducing the number of devices and increasing the degree of integration.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

積回路装置の従来例の構成図、・第4図は第3図の内部
セルの回路例を示す図、第5図は縦積の排他的オアlノ
1回路、ブリップフロップを考慮したセル構成を示す図
、第6図は第5図のセル構造でラッチを構成した例を示
す図である。 l1ls l1m5 ””y i、%* 111# 昂
、・・・、18%# lIn14、・・・e 11f&
* 141# to・・・、14%:ポンディングパル
領域、5m、5□・・・tss”フリッププロップ領域
、 61p s、、・・・、6%、パゲート領域、71
#  7!t ・・・、73:配線領域。
A configuration diagram of a conventional example of a product circuit device. ・Figure 4 is a diagram showing an example of the circuit of the internal cell in Figure 3. Figure 5 is a cell configuration that takes into account vertical product exclusive-or-one circuit and flip-flop. FIG. 6 is a diagram showing an example of a latch configured with the cell structure of FIG. 5. l1ls l1m5 ””y i,%* 111# Ko,..., 18%# lIn14,...e 11f&
*141# to..., 14%: Ponding pal area, 5m, 5□...tss" flip flop area, 61ps,..., 6%, Pagate area, 71
#7! t..., 73: Wiring area.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、配線工程を除く工程まで共通に形成され、配線工程
のみを変えることによって各種論理回路が構成されるマ
スタースライス型半導体集積回路装置において、 各種論理回路を構成する内部セル領域中の特定の領域に
特定の論理回路が設けられていることを特徴とするマス
タースライス型半導体集積回路装置。 2、前記特定の領域中の特定の論理回路がフリップフロ
ップである特許請求の範囲第1項記載 のマスタースライス型半導体集積回路装置。 3、前記特定の領域中の特定の論理回路が排他的オア/
ノアゲートである特許請求の範囲第1項記載のマスター
スライス型半導体集積回路装置。
[Scope of Claims] 1. In a master slice type semiconductor integrated circuit device in which processes are commonly formed up to the process excluding the wiring process, and various logic circuits are formed by changing only the wiring process, internal cells forming the various logic circuits; A master slice type semiconductor integrated circuit device characterized in that a specific logic circuit is provided in a specific region of the regions. 2. The master slice type semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the specific logic circuit in the specific area is a flip-flop. 3. A specific logic circuit in the specific area is an exclusive OR/
The master slice type semiconductor integrated circuit device according to claim 1, which is a NOR gate.
JP14501285A 1985-07-01 1985-07-01 Master-slice-type semiconductor integrated circuit device Pending JPS624343A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63304641A (en) * 1987-06-04 1988-12-12 Nec Corp Master slice integrated circuit
US4945395A (en) * 1986-08-12 1990-07-31 Fujitsu Limited Semiconductor device
US6753702B2 (en) * 2001-08-29 2004-06-22 Nec Electronics Corporation Semiconductor integrated circuit and its layout method

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