JPS6240358A - バッチ炉内における被加工品の迅速かつ均質な滲炭―拡散法 - Google Patents
バッチ炉内における被加工品の迅速かつ均質な滲炭―拡散法Info
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- JPS6240358A JPS6240358A JP61187010A JP18701086A JPS6240358A JP S6240358 A JPS6240358 A JP S6240358A JP 61187010 A JP61187010 A JP 61187010A JP 18701086 A JP18701086 A JP 18701086A JP S6240358 A JPS6240358 A JP S6240358A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
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- C23C8/22—Carburising of ferrous surfaces
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は炉内で装入物を迅速かつ均質に滲炭−拡散する
方法に関する。
方法に関する。
従来の技術
滲炭操作中における滲炭炉の雰囲気は一般に下記の諸成
分からなるものである（米国特許第４．１４５，２３２
号参照）： Ｃｏ ４−３０・チ Ｈ２１０−６０チ Ｎ２１Ｏ−８５％ ＣＯ２０−４％ Ｎ２ＱＯ−５％ 炭化水素 ０−１０％ 滲炭加工装入物の滲炭処理コストを減するために、当業
者は炉内に導入されるガスの流れを減することを切望し
ている。
分からなるものである（米国特許第４．１４５，２３２
号参照）： Ｃｏ ４−３０・チ Ｈ２１０−６０チ Ｎ２１Ｏ−８５％ ＣＯ２０−４％ Ｎ２ＱＯ−５％ 炭化水素 ０−１０％ 滲炭加工装入物の滲炭処理コストを減するために、当業
者は炉内に導入されるガスの流れを減することを切望し
ている。
過去に、ガス発生機、通称吸熱ガス発生機が必要な滲炭
雰囲気を作）出すのに用いられている。
雰囲気を作）出すのに用いられている。
従って、天然ガスを用いるガス発生機は主として約２０
チＣｏ、４０％Ｎ２及び４０％Ｎ２ をガス流に一定比
率で含有する雰囲気を生成する。
チＣｏ、４０％Ｎ２及び４０％Ｎ２ をガス流に一定比
率で含有する雰囲気を生成する。
更に最近では、吸熱ガス発生機がメタノールと窒素の混
合物の噴射により代見られて、前記限度内の雰囲気の組
成に変えることが可能である０メタノールは７５０’Ｃ
の温度を超えると、本質的に下式のように一酸化炭素と
水素に分解されることがよく知られている： ＣＨｓＯＨ−−→ＣＯ＋ ２Ｈ２ 一定の流率におけるガス源によるガス発生機の単なる代
用は後者の減少と節約とな少、同時に全く同品質の装入
物を提供する。この種の方法の一例は米国特許第４．５
１９，８５３号に明記しである。
合物の噴射により代見られて、前記限度内の雰囲気の組
成に変えることが可能である０メタノールは７５０’Ｃ
の温度を超えると、本質的に下式のように一酸化炭素と
水素に分解されることがよく知られている： ＣＨｓＯＨ−−→ＣＯ＋ ２Ｈ２ 一定の流率におけるガス源によるガス発生機の単なる代
用は後者の減少と節約とな少、同時に全く同品質の装入
物を提供する。この種の方法の一例は米国特許第４．５
１９，８５３号に明記しである。
現在では、更にこれらガス流の減少が考察されて、より
一層好ましい経済的バランスが得られている。
一層好ましい経済的バランスが得られている。
このガス流は種々の問題に遭遇するので最低限以下に減
少することができないことは当業者に公知である。
少することができないことは当業者に公知である。
炉の扉を閉じた時、かつ噴射したガスの流率が最低限度
（該炉と処理諸条件により実験的に決定された）より低
い場合、熱処理炉の流体密封性がないことにより空気が
侵入することになるｏ酸化性成分のこれらの侵入を補償
するために、当業者は炭化水素の付加的噴射をして所望
値以上に炭素ポテンシャルを保持している。現に、炭化
水素類のこの付加的噴射は煤析着のリスクを増加し、更
に所望に反して一酸化炭素と水素の濃度の希釈となる、
何故ならば、これらの濃度は秀れた滲炭にはできる限シ
高く保持しなければならないからである：即ち、滲炭雰
囲気中の炭素の被滲炭加工物への移行率が生成物ｐＨ２
ｘｐｃｏ （炉内におけるＮ２及びＣＯの分圧）による
ものであることはよく知られていることである（例えば
Ｊ、Ｈｅａｔ Ｔｒｅａｔｉｎｇ−１４−Ｖｏｌ、 １
． Ｆ’ｈ １３− ｒ滲炭用ガスの消費を減するた・
めの基本的要鯖Ｊ Ｕ、 Ｗｓｓ −ＲＨｏｆ ｆｍａ
ｎｎ及びＰ、 Ｎｅｕ−ｒｎａｎｎ 、更にＲ＋Ｊ、
Ｆｒｕｃｈｅｎ ｒＣＯ−Ｎ２雰囲気における鉄の滲炭
率Ｊ −Ｐａｒｔ １一温度の影響及びＣ０及びＮ２圧
カー冶金的処理−Ｖｏｌ、 ４−５ｅｐｔ 、 １９７
２−２１２３〜２１２７頁参照〕。
（該炉と処理諸条件により実験的に決定された）より低
い場合、熱処理炉の流体密封性がないことにより空気が
侵入することになるｏ酸化性成分のこれらの侵入を補償
するために、当業者は炭化水素の付加的噴射をして所望
値以上に炭素ポテンシャルを保持している。現に、炭化
水素類のこの付加的噴射は煤析着のリスクを増加し、更
に所望に反して一酸化炭素と水素の濃度の希釈となる、
何故ならば、これらの濃度は秀れた滲炭にはできる限シ
高く保持しなければならないからである：即ち、滲炭雰
囲気中の炭素の被滲炭加工物への移行率が生成物ｐＨ２
ｘｐｃｏ （炉内におけるＮ２及びＣＯの分圧）による
ものであることはよく知られていることである（例えば
Ｊ、Ｈｅａｔ Ｔｒｅａｔｉｎｇ−１４−Ｖｏｌ、 １
． Ｆ’ｈ １３− ｒ滲炭用ガスの消費を減するた・
めの基本的要鯖Ｊ Ｕ、 Ｗｓｓ −ＲＨｏｆ ｆｍａ
ｎｎ及びＰ、 Ｎｅｕ−ｒｎａｎｎ 、更にＲ＋Ｊ、
Ｆｒｕｃｈｅｎ ｒＣＯ−Ｎ２雰囲気における鉄の滲炭
率Ｊ −Ｐａｒｔ １一温度の影響及びＣ０及びＮ２圧
カー冶金的処理−Ｖｏｌ、 ４−５ｅｐｔ 、 １９７
２−２１２３〜２１２７頁参照〕。
発明が解決しようとする問題点
更に、炉内の低いガス流率は元の条件に戻すのに相応し
てより長いものとなる。炉の扉を装入物を装入するため
に開くと、室温の大量の空気が導入される。従ってこの
雰囲気は不適切な条件であシ、酸化性成分（ＣＯ２ｒ
０２１ Ｈ２Ｏ）の濃度は滲炭工程を正確に続行させう
るには余シにも高いものとなる。更に、通常８５０°Ｃ
〜１０５０’Ｃである炉の温灰は室温の装入物の装入に
よって降下する。炉温のこの降下は該雰囲気が爆発する
温度以下の安全な温朋より低い温度に推移することを伴
うものである。このリスクを減らすためには、該雰囲気
を希釈しかつ安全な規準以内とするために水素を炉中に
噴射する。このことは雰囲気の一酸化炭素及び水素の濃
度を減少することになる。従って、炉内の流率を最低限
にかつ”通常の９即ち、最低のＯＩＬ率より高くする（
装入物の品質によっては、加工品表面の視認外観、所定
期間の滲炭により得られる滲炭深さ及び装入物における
これら２種のパラメーターの均一性を意味する〕双方の
維持が不可能である。
てより長いものとなる。炉の扉を装入物を装入するため
に開くと、室温の大量の空気が導入される。従ってこの
雰囲気は不適切な条件であシ、酸化性成分（ＣＯ２ｒ
０２１ Ｈ２Ｏ）の濃度は滲炭工程を正確に続行させう
るには余シにも高いものとなる。更に、通常８５０°Ｃ
〜１０５０’Ｃである炉の温灰は室温の装入物の装入に
よって降下する。炉温のこの降下は該雰囲気が爆発する
温度以下の安全な温朋より低い温度に推移することを伴
うものである。このリスクを減らすためには、該雰囲気
を希釈しかつ安全な規準以内とするために水素を炉中に
噴射する。このことは雰囲気の一酸化炭素及び水素の濃
度を減少することになる。従って、炉内の流率を最低限
にかつ”通常の９即ち、最低のＯＩＬ率より高くする（
装入物の品質によっては、加工品表面の視認外観、所定
期間の滲炭により得られる滲炭深さ及び装入物における
これら２種のパラメーターの均一性を意味する〕双方の
維持が不可能である。
本発明はこれらの諸欠点を避けるものである。
問題点を解決するための手段
驚くべきことに、処理した加工品の所定の品質のために
は、拡散工程中ガスの流率を減じうることを知見した。
は、拡散工程中ガスの流率を減じうることを知見した。
ガスの流率は滲炭及び拡散工程中間−としなければなら
ないことはこの種技術で既に考察されていたので、この
ことは驚くべきことである。
ないことはこの種技術で既に考察されていたので、この
ことは驚くべきことである。
本発明は、処理炉の扉を開き、予じめ滲炭温度条件とし
た前記炉中に装入物を導入し、該炉の扉を閉じ、滲炭工
程と称する第一工程で装入物に作用を受けさせ、この第
一工程中の雰囲気の炭素の加工品表面への移行割合が加
工品表面から加工品の内部への炭素の拡散率に対して優
勢な関係にあり、ついで、拡散工程と称する第二工程で
装入物に作用を受けさせ、この第二工程中前記拡散率が
前記移行割合に優勢な関係にあり、前記第二工程中に炉
の温度を降下させることができ、該装入物の取出しと新
規装入物を導入するために炉の扉を開く前に該装入物を
冷却することができ、炭化水素を添加しうる担体ガスは
この方法の全期間中炉中に導入されることからなる滲炭
−拡散法に関する。
た前記炉中に装入物を導入し、該炉の扉を閉じ、滲炭工
程と称する第一工程で装入物に作用を受けさせ、この第
一工程中の雰囲気の炭素の加工品表面への移行割合が加
工品表面から加工品の内部への炭素の拡散率に対して優
勢な関係にあり、ついで、拡散工程と称する第二工程で
装入物に作用を受けさせ、この第二工程中前記拡散率が
前記移行割合に優勢な関係にあり、前記第二工程中に炉
の温度を降下させることができ、該装入物の取出しと新
規装入物を導入するために炉の扉を開く前に該装入物を
冷却することができ、炭化水素を添加しうる担体ガスは
この方法の全期間中炉中に導入されることからなる滲炭
−拡散法に関する。
処理炉は装入物用の入口扉を具備し、この扉は炉内の制
御した雰囲気を維持しかつ空気の侵入を避けるように全
処理期間を通じて閉じられている。
御した雰囲気を維持しかつ空気の侵入を避けるように全
処理期間を通じて閉じられている。
本発明方法では、滲炭工程中の担体ガスの流率Ｄ１は次
式のように拡散工程中の担体ガスの流率Ｄ２に関連する
ものである。
式のように拡散工程中の担体ガスの流率Ｄ２に関連する
ものである。
１．２ Ｄ２≦０１≦２×Ｄ２
前記流率Ｄ２は使用される炉の最低限安全度より高いか
また等しいものである。Ｄｌは１．５Ｄ２よ勺高いか又
は等しいことが好ましい。
また等しいものである。Ｄｌは１．５Ｄ２よ勺高いか又
は等しいことが好ましい。
炉の扉の開放から閉鎖、即ち、該炉内で被滲炭装入物の
導入に尚シ、種々の選択的変形が可能である。できる限
シ迅速に秀れた品質の加工品を得ることを望む場合には
、このガス流率は値Ｄ１に等しいものとする。他方、で
きる限シガスの経済性と同時に滲炭サイクルを僅かに延
ばすことを望む場合には、このガス流率はＤ２に等しい
ものとする。
導入に尚シ、種々の選択的変形が可能である。できる限
シ迅速に秀れた品質の加工品を得ることを望む場合には
、このガス流率は値Ｄ１に等しいものとする。他方、で
きる限シガスの経済性と同時に滲炭サイクルを僅かに延
ばすことを望む場合には、このガス流率はＤ２に等しい
ものとする。
最後に、滲炭サイクルの継続期間を最高に減少すること
を望む場合には、このガス流率を０３＞Ｄｌに等しく、
かつ、好ましくは１．２Ｄ１より高いが２×Ｄ１より低
くする。この流率Ｄ５は、装入された装入物の滲炭温度
Ｔに戻るまで、温度の函数としてガス流の自動的調整に
関連して維持しうる〇一般に１担体ガスの流率Ｄ２は゛
慣用の″流率より低いものであシ、流率Ｄ１は”慣用の
”流率より高いものである。こ＼で言う”慣用の”流率
とは同一品質の処理済加工品を得るための滲炭−拡散の
際において、この種技術で通常用いられる一定の流率を
意味する。本発明による方法は慣用方法で得られるもの
と等しいか又はよりよい処理済加工品の品質を達成する
と共に、担体ガスの消費を減少させるものである。実際
に高い流’Ｊ＝ Ｄ Ｉの工程（滲炭〕では次のことが
知見されたニ ー この高い流率Ｄ１は対流により装入物の加熱を助長
するニ ー 炭化水素の過剰の添加なしに高い炭素ポテン
□シャルを保持することが可能である。何故ならト ば、この付加的炭化水素類は常に部分的に分解パされか
つ煤を生成する（平衡外の制御不可能な反応）。この少
ない炭化水素の噴射は炉内における煤の析着が少ないニ ー 雰囲気の炭素の加工品への移行率によっては、雰囲
気中のＣＯ含有慕が急速に増加され、滲炭サイクル期間
を減することができる０ 拡散工程に当っては、加工品の表面における炭素の所望
最終濃度に実質的に等しい雰囲気の炭素ポテンシャルを
保持するのに通常充分である。
を望む場合には、このガス流率を０３＞Ｄｌに等しく、
かつ、好ましくは１．２Ｄ１より高いが２×Ｄ１より低
くする。この流率Ｄ５は、装入された装入物の滲炭温度
Ｔに戻るまで、温度の函数としてガス流の自動的調整に
関連して維持しうる〇一般に１担体ガスの流率Ｄ２は゛
慣用の″流率より低いものであシ、流率Ｄ１は”慣用の
”流率より高いものである。こ＼で言う”慣用の”流率
とは同一品質の処理済加工品を得るための滲炭−拡散の
際において、この種技術で通常用いられる一定の流率を
意味する。本発明による方法は慣用方法で得られるもの
と等しいか又はよりよい処理済加工品の品質を達成する
と共に、担体ガスの消費を減少させるものである。実際
に高い流’Ｊ＝ Ｄ Ｉの工程（滲炭〕では次のことが
知見されたニ ー この高い流率Ｄ１は対流により装入物の加熱を助長
するニ ー 炭化水素の過剰の添加なしに高い炭素ポテン
□シャルを保持することが可能である。何故ならト ば、この付加的炭化水素類は常に部分的に分解パされか
つ煤を生成する（平衡外の制御不可能な反応）。この少
ない炭化水素の噴射は炉内における煤の析着が少ないニ ー 雰囲気の炭素の加工品への移行率によっては、雰囲
気中のＣＯ含有慕が急速に増加され、滲炭サイクル期間
を減することができる０ 拡散工程に当っては、加工品の表面における炭素の所望
最終濃度に実質的に等しい雰囲気の炭素ポテンシャルを
保持するのに通常充分である。
従って、滲炭工程中の流率に関連する１、２ ： ２の
要因により拡散工程中の担体ガスの流率を減することが
可能であシ、それによって活性の少ない雰囲気とし、平
均炭素ポテンシャルを約０．６〜０．８に減じ、従って
、加工品のより小さいスエービングを達成しかつ操作の
安全限度内の空気の侵入を許容する。
要因により拡散工程中の担体ガスの流率を減することが
可能であシ、それによって活性の少ない雰囲気とし、平
均炭素ポテンシャルを約０．６〜０．８に減じ、従って
、加工品のより小さいスエービングを達成しかつ操作の
安全限度内の空気の侵入を許容する。
従って、所望の雰囲気は加工品表面に対して中性である
保護雰囲気と言われる雰囲気に類似のものとしうる（滲
炭でも脱炭の何れでもない）。
保護雰囲気と言われる雰囲気に類似のものとしうる（滲
炭でも脱炭の何れでもない）。
本発明の他の実施態様によれは、米国特許第４．５１９
，８５３号及び米国特許第４，３０６，９１８号に記述
しである雰囲気組成に変更することもできる。
，８５３号及び米国特許第４，３０６，９１８号に記述
しである雰囲気組成に変更することもできる。
しかしながら、窒素の補助としてスプレー状でメタノー
ルを噴入して生成された雰囲気を選ぶことが好ましい。
ルを噴入して生成された雰囲気を選ぶことが好ましい。
本発明方法の第一の工程では、少なくとも２０％窒素と
補充するメタノールが通常用いられる。実際には、本発
明方法の確実な操作に当って、メタノールを圧縮空気で
噴霧するのが適切であることを知見し、この際窒素の最
低量は１０チであるが、２０％が好適である。この方法
では、米国特許第４，３０６，９１８号に明記しである
如く、メタノールのみを含有する雰囲気での炉内の煤と
メタノール噴射オリフィスの早期の目詰り等の重大な危
険が避けられる。例えば米国特許第４ 、２７９ 、４
０６号に明記されているような噴射管がこの操作に好適
である。メタノール（又は他の同等のアルコール）によ
り生成された雰囲気の使用が本質的に一定の比率ｐｃｏ
／ ｐＨ２を維持し得る。
補充するメタノールが通常用いられる。実際には、本発
明方法の確実な操作に当って、メタノールを圧縮空気で
噴霧するのが適切であることを知見し、この際窒素の最
低量は１０チであるが、２０％が好適である。この方法
では、米国特許第４，３０６，９１８号に明記しである
如く、メタノールのみを含有する雰囲気での炉内の煤と
メタノール噴射オリフィスの早期の目詰り等の重大な危
険が避けられる。例えば米国特許第４ 、２７９ 、４
０６号に明記されているような噴射管がこの操作に好適
である。メタノール（又は他の同等のアルコール）によ
り生成された雰囲気の使用が本質的に一定の比率ｐｃｏ
／ ｐＨ２を維持し得る。
本発明方法の第二工程では、約７０％の窒素と３０％の
メタノールからなる混合物を用いること □が好ま
しく、滲炭工程中に炉中に噴射されるガスの流率は、拡
散工程中に噴射されるガスの流率より約１．５高いもの
である。しかしながら、この拡散工程における窒素によ
るメタノールの希釈は正確に言えば米国特許Ｍ４．５１
９，８５３号に明記されている限界内で実質的に変更し
うる０ 本発明のよりよい理解のために、添付図面に基づきかつ
非限定的実施例の記述により以下に詳述する： 実施例１ 品質２０ ＭＣ５の鋼加工品の３５Ｋｇの装入物を急冷
浴を組み込んだ処理炉中に装入した。一定した組成の担
体ガスの流率は洛炭及び拡散の期間を通じて一定（８ｍ
／ ｈ ）である。滲炭温度Ｔ１は９２０６Ｃであシ
、拡散温度は第１図図示の温度グラフによって値Ｔ２８
７０°Ｃに急速に推移する。全装入加工品に得られた結
果は下記の通）である＝５５ＶＨ１における滲炭厚さ＝
０．９５〜１−０５ＷＭ。
メタノールからなる混合物を用いること □が好ま
しく、滲炭工程中に炉中に噴射されるガスの流率は、拡
散工程中に噴射されるガスの流率より約１．５高いもの
である。しかしながら、この拡散工程における窒素によ
るメタノールの希釈は正確に言えば米国特許Ｍ４．５１
９，８５３号に明記されている限界内で実質的に変更し
うる０ 本発明のよりよい理解のために、添付図面に基づきかつ
非限定的実施例の記述により以下に詳述する： 実施例１ 品質２０ ＭＣ５の鋼加工品の３５Ｋｇの装入物を急冷
浴を組み込んだ処理炉中に装入した。一定した組成の担
体ガスの流率は洛炭及び拡散の期間を通じて一定（８ｍ
／ ｈ ）である。滲炭温度Ｔ１は９２０６Ｃであシ
、拡散温度は第１図図示の温度グラフによって値Ｔ２８
７０°Ｃに急速に推移する。全装入加工品に得られた結
果は下記の通）である＝５５ＶＨ１における滲炭厚さ＝
０．９５〜１−０５ＷＭ。
淡灰色外観、
僅かな残留オーステナイト。
この実施例は担体ガスの“慣用の“流率による公知技術
を示す。装入物の品質は良好である。
を示す。装入物の品質は良好である。
実施例２
前述と同じ諸条件下で（第２図）あるが担体ガスは５
ｍ’／ ｈ の低い一定の流率（安全限度〕である。下
記の結果が得られる。
ｍ’／ ｈ の低い一定の流率（安全限度〕である。下
記の結果が得られる。
５５０ＶＨ１における滲炭厚す＝ ０．８０〜１．００
ｚｔｎ ｓ暗灰色外観、 一部分に煤析着。
ｚｔｎ ｓ暗灰色外観、 一部分に煤析着。
装入物品質は普通であり、得られた滲炭厚さは同等の期
間及び温度では減少し、不均質性は明白に増加しかつ表
面外観は悪い。
間及び温度では減少し、不均質性は明白に増加しかつ表
面外観は悪い。
実施例３
実施例１と同一諸条件であるが、滲炭工程中は８ ｍ’
／ ｈの担体ガスの流率（”慣用流率”）で、拡散工程
中は５ ｍ３／ ｈであシ（第３図）、下記の結果が得
られた： ５５０ＶＨＩ Ｋおける滲炭厚さ＝ ０．９５〜１．０
５ ｍｍ、明灰色外観、 残留オーステナイトは観察されない。
／ ｈの担体ガスの流率（”慣用流率”）で、拡散工程
中は５ ｍ３／ ｈであシ（第３図）、下記の結果が得
られた： ５５０ＶＨＩ Ｋおける滲炭厚さ＝ ０．９５〜１．０
５ ｍｍ、明灰色外観、 残留オーステナイトは観察されない。
装入物の品質は秀れておりかつ実施例１のものより高い
ものである。
ものである。
一般に、実施例３は秀れた品質の処理を得ることが可能
であシ（実施例１と同等か又はより高いもの）、同時に
ガス消費総計は最低である。
であシ（実施例１と同等か又はより高いもの）、同時に
ガス消費総計は最低である。
前記した３個の実施例において、滲炭工程中に噴射され
る雰囲気は８０％メタノール及び２０チ窒索からなシ、
一方拡散工程で噴射される雰囲気は約３０％のメタノー
ルと７０％の窒素からなシ、同時にこれら雰囲気の炭素
ポテンシャルは、通常であるが３個の実施例で同様であ
る、滲炭及び拡散両工程の限度内に保持された。
る雰囲気は８０％メタノール及び２０チ窒索からなシ、
一方拡散工程で噴射される雰囲気は約３０％のメタノー
ルと７０％の窒素からなシ、同時にこれら雰囲気の炭素
ポテンシャルは、通常であるが３個の実施例で同様であ
る、滲炭及び拡散両工程の限度内に保持された。
通常の滲炭及び拡散温度で一酸化炭素と水素を生成し得
る公知物質（特にアルコール＠）でメタノールを置換し
うろことは理解しうるところである。
る公知物質（特にアルコール＠）でメタノールを置換し
うろことは理解しうるところである。
また、公知方法の炭窒化処理を行なうために、前記雰囲
気群にアンモニアを添加しうる。
気群にアンモニアを添加しうる。
第１図及び第２図は公知技術の雰囲気ガス流率と温度の
関係を示すグラフ、第３図は本発明方法の同様のグラフ
を示ス。
関係を示すグラフ、第３図は本発明方法の同様のグラフ
を示ス。
Claims (9)
- （１）処理炉の扉を開き、予じめ滲炭温度条件とした前
記炉中に装入物を導入し、該炉の扉を閉じ、滲炭工程と
称する第一工程で装入物に作用を受けさせ、この第一工
程中の雰囲気の炭素の加工品表面への移行割合が加工品
表面から加工品の内部への炭素の拡散率に対して優勢な
関係にあり、ついで、拡散工程と称する第二工程で装入
物に作用を受けさせ、この第二工程中前記拡散率が前記
移行割合に優勢な関係にあり、前記第二工程中に炉の温
度を降下させることができ、該装入物の取出しと新規装
入物を導入するために炉の扉を開く前に該装入物を冷却
することができ、炭化水素を添加しうる担体ガスはこの
方法の全期間中炉中に導入され、その際滲炭工程中の担
体ガスの流率Ｄ＿１は、次式により拡散工程中の担体ガ
スの流率Ｄ＿２に関連し、 １．２Ｄ＿２≦Ｄ＿１≦２×Ｄ＿２ 前記流率Ｄ＿２は当該炉の最低安全限界より高いか又は
等しいものであることを特徴とする炉内における装入物
の迅速かつ均質な滲炭−拡散法。 - （２）前記流率Ｄ＿１が１．５Ｄ＿２より高いか又は等
しい特許請求の範囲第１項記載の炉内における装入物の
迅速かつ均質な滲炭−拡散法。 - （３）前記扉の開放から閉鎖に亘つて炉中に噴射される
ガスの流率が流率Ｄ＿２に等しい特許請求の範囲第１項
又は第２項記載の炉内における装入物の迅速かつ均質な
滲炭−拡散法。 - （４）前記扉の開放から閉鎖に亘つて炉中に噴射される
ガスの流率がＤ＿２に等しい特許請求の範囲第１項又は
第２項記載の炉内における装入物の迅速かつ均質な滲炭
−拡散法。 - （５）前記扉の開放から閉鎖に亘つて炉中に噴射される
ガスの流率が流率Ｄ＿１より高いＤ＿３に等しい特許請
求の範囲第１項又は第２項記載の炉内における装入物の
迅速かつ均質な滲炭−拡散法。 - （６）滲炭を予じめ決めた温度Ｔ＿１で開始し、炉中に
噴射されるガスの流率Ｄ＿３を温度Ｔ＿１に戻るまで流
率Ｄ＿１より高く存続する特許請求の範囲第５項記載の
炉内における装入物の迅速かつ均質な滲炭−拡散法。 - （７）流率Ｄ＿１及びＤ＿３が次式に関連する：１．２
×Ｄ＿１≦Ｄ＿３≦２×Ｄ＿１ である特許請求の範囲第５項又は第６項記載の炉内にお
ける装入物の迅速かつ均質な滲炭−拡散法。 - （８）前記流率の少なくとも１つの変更の時に、炉中に
噴射される雰囲気の組成を変更することからなる特許請
求の範囲第１項乃至第７項の何れか一項に記載の炉内に
おける装入物の迅速かつ均質な滲炭−拡散法。 - （９）前記炉中に噴射される雰囲気が窒素及びメタノー
ルの混合物から作られる特許請求の範囲前記各項の何れ
か一項に記載の炉内における装入物の迅速かつ均質な滲
炭−拡散法。
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| FR8512379 | 1985-08-14 | ||
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