JPS6240350A - 溶融金属めつき付着量制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、溶融金属めっき付着量制御方法、特にガスワ
イピングによる溶融金属めっき付着量制御方法に関する
。

（従来の技術） 溶融金属浴から引き上げられたストリップにガスを吹き
付けるいわゆるガスワイピングによって付着量を制御す
る溶融金属めっき法において、ストリップ両端のエツジ
部の付着量が中心のセンタ一部などの他の個所に比較し
て非常に多くなる、いわゆるエツジオーバコートが問題
になっている。

エツジオーバコートの原因と考えられるのは、（１）対
向するノズルから噴射されたガス同士の衝突によりエツ
ジ部のワイピングガスの気流が乱れること、 （２）エツジ部がより冷却されるため、熔融金属、例え
ばＺｎの粘性があがり、絞りにくくなること、そして （３）ノズルによりかき落とされた溶融金属がエツジ部
に拡がってしまい、結局、持ち上げ量が多くなってしま
うこと、 等である。

したがって、従来より、その対策としては、ワイピング
ノズルの真上もしくは下に補助ノズルを設け、強制的に
余剰めっき金属をかき落とす手段が提案され、一部すで
に実用上採用されてきた。

確かに、補助ノズルの使用によってエツジ部のワイピン
グガスの圧力、つまりかき落とし力が大きくなり、それ
によって余剰めっき金属をかき落とすことができると考
えられる。しかしながら、実際には、逆にエツジ部のワ
イピングガス流量が増大するため、エツジ部が過度に冷
却され、かえってかき落とし力が十分に発１下されず、
場合によっては、反対に付着量を増す結果になることが
ある。

したがって、補助ノズルを用いるだけでは、前述のよう
なエツジオーバコートの問題は解消されないことが判明
した。

（発明が解決しようとする問題点） よって、本発明の目的は、エフジオ−バコードのない溶
融金属めっきを行う方法を提供することである。

本発明の別の目的は、ガスワイピングによるエツジ部の
エツジオーバコートを完全に防止するために、補助ノズ
ルの効果をさらに改善した、溶融金属めっき付着量の制
御方法を提供することである。

さらに、本発明の別の目的は、補助ノズルの利用を実用
的たらしめ、溶融金属めっき付着量の正確な制御を可能
とした、溶融金属めっき付着量の制御方法を提供するこ
とである。

（問題点を解決するための手段） かくして、本発明の要旨とするところは、　溶融金属浴
から引き上げられたストリップにガスを吹き付けるガス
ワイピングによって溶融金属めっきの付着量を制御する
方法において、該ストリップの幅方向に伸びた主ノズル
とともに該ストリップのエツジ部に向かってガスワイピ
ングを行う補助ノズルをエツジ部に設け、さらに加熱さ
れたガスを該補助ノズルに供給することを特徴とする、
溶融金属めっきの付着量の制御方法である。

上記の加熱されたガスはストリップエツジ部を過度に冷
却しないものであればその加熱程度は特に制限されない
が、好ましくはストリップ面上で５０℃以上となる程度
まで加熱されたガスを使用するのが好ましい。

ここに、上記溶融金属としては、ＺｎＳＡｌ、　Ｐｂ等
特に制限されないが、最も一般的には、Ｚｎである。

また、ガスワイピングそれ自体はすでに良く知られた内
容であって、本発明において、その趣旨に反しない限り
、特定のものにのみ制限されるものではない。

前記補助ノズルの取付位置は、ストリップの長さ方向に
は主ノズルの真上あるいは真下であってもよいが、可及
的に近接させるのがよい。一方、ストリップ幅方向には
エツジオーバコートが生じる領域をカバーするだけ十分
長ければ良く、それ以上は何ら制限されないが、一般に
は１０〜１００ｍｍ程度であればよい。このような補助
ノズルはストリップエツジの両端にそれぞれ配置され、
また主ノズルと同様にストリップを挟んで対称に設けら
れるのが好ましい。

（作用） ここで、添付図面にしたがって、鋼ストリップに溶融亜
鉛めっきを行う場合を例にとり、本発明をさらに詳細に
説明する。

第１図は、本発明において使用する補助ノズルを備えた
ガスワイピング装置を略式で説明する線図である０図中
、溶融亜鉛めっき浴１０から連続的に引き上げられる綱
ストリップ１１は溶融亜鉛めっき浴面より適宜距離にお
いて主ノズル１２と補助ノズル１３とから成るガスワイ
ピング装置に入り、そこで離間配置されたノズル１２お
よび補助ノズル１３からのワイピングガスによって所定
量のめっき付着量に払拭される。

本発明の好適態様によれば、上記補助ノズル１３に供給
されるガスを加熱して、吹き付はガスがストリップ面に
当たるときに少なくとも５０℃の温度を保持できるよう
にまで高温度に加熱されていることが好ましい。

第２図は、補助ノズル１３を主ノズル１２の真下に設け
た例を示すものである。符号は第１図に同じである。

これらの補助ノズルは手動によってもしくはＥＰＣ（Ｅ
ｄｇｅ　Ｐｏ５ｉｔｉｏｎ　Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）と
連動さセテ自動的に幅方向に移動することができるよう
に構成しでもよい。補助ノズルからの加熱ガスの圧力は
、好ましくは、０．３〜４．ＯＫｇｆ／ｍｍ２である。

なお、処理条件如何によっては、上記加熱ガスのストリ
ップ面上での温度が５０°Ｃ未満であると十分なかき落
としができず、エツジオーバコートを防止できないこと
があるため、好適例としては加熱温度はストリップ面上
での〆詰度が５０℃以上となるように調整するのが好ま
しい。より好ましくは１００℃以上である。

ストリップ面上での温度の測定は、熱電対などの適宜手
段で直接測定してもよいが、簡便な推定法として例えば
以下のようにして推定してもよい。

！ Ｆ　・　□　・　Ｔ＋ｆ−ｔ ≧　５０℃ ρ Ｆ　・　□　　　＋　ｆ し ただし、Ｆ：主ノズル流量（Ｎｍ’／ｈｒ）、ｆ：補助
ノズル流Ｗｋ　（Ｎｍ’／ｈｒ）、Ｌ：主ノズル幅（＋
ａｍ）、 １：補助ノズル幅（＋＋Ｕａ）、 Ｔ；主ノズルガス温度（℃）、 ｔ：補助ノズルガス温度（’Ｃ）。

実際上、補助ノズルガス温度は、ノズルを出るときの温
度として１００℃以上が好ましく、ガスの種類としては
、燃焼排ガス、加熱した不活性ガス等、本発明の趣旨に
反しないかぎり特に制限されない。

次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。

実施例 主ノズルの真上に補助ノズルを設けた第１図と同様な装
置によって、第１表に示すように各処理条件を変えて溶
融亜鉛めっきを行い、その付着量の制御を行った。

結果は同じく第１表にまとめて示す。

本発明によれば、エツジオーバコートは完全に防止され
、従来のように常温のガスを吹き付ける場合と比較して
著しい効果が得られるのが分かる。

第３図はこれらの結果をグラフにまとめて示すものであ
る。

なお、例１は２００℃の加熱空気を使用した本発明にか
かる方法であり、例２は空気を使用し、補助ノズルのガ
ス温度を従来のように常温（約２０℃）とした例であり
、また、例３は補助ノズルを用いなかった場合を示す例
である。

それぞれの場合において、主ノズルからのワイピングガ
スとしては空気を使用した。

星土去 １１　　　　　　１１２　　　　　　秒　３主ノズル（
１ケ） 流量（Ｎｌｌコ／ｈｒ）　　１５００　　　　同左　　
同左幅（ｍｍ）　　１４００ ガス温度（℃）２０ 補助ノズル（両端２ケ所） 流ｆｔｔ　（Ｎｍ’／ｈｒ）　　１００　　　１００　
　　−幅（ｍａ＋）　　５０　５０　− ガス温度（℃）２００　　　　常温　　　−ストリップ
面 推定温度（’Ｃ）１４０　　　　常温　　常温めっき付
着量（ｇ／ｍ２） センタ一部　　２３５　　　２３５　　　２３５工ツジ
部　　　　２３１　　　２５７　　　２６９エフジオ−
バコード （％）　　　　　−２＋１０　　　　＋１５（発明の効
果） このように、本発明によればエンジオ−バコードは実質
上解消されるのであって、そのすぐれた効果のみならず
、加熱ガスと組合せることによってはじめて補助ノズル
を実用的たらしめた点において斯界に多大の貢献をなす
ものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明を実施するための装置を示す略式線図
： 第２図は、同じく補助ノズルを主ノズルの下側に設けた
例を示す略式線図：および 第３図は、実施例の結果をまとめて示すグラフである。 ｌＯ：溶融亜鉛めっき浴　　１１；鋼ストリップ１２：
主ノズル　　　　　　１３：補助ノズル順回　　　　　
　尾２図 尾３Ｉ２］ ストリ、、プｉシ方如距青箆

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）溶融金属浴から引き上げられたストリップにガス
   を吹き付けるガスワイピングによって溶融金属めっきの
   付着量を制御する方法において、該ストリップの幅方向
   に伸びた主ノズルとともに該ストリップのエッジ部に向
   かってガスワイピングを行う補助ノズルをエッジ部に設
   け、さらに加熱されたガスを該補助ノズルに供給するこ
   とを特徴とする、溶融金属めっきの付着量の制御方法。
2. （２）ストリップ面上で５０℃以上となる加熱されたガ
   スを前記補助ノズルに供給する、特許請求の範囲第１項
   記載の方法。