JPS6237590B2 - - Google Patents

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JPS6237590B2
JPS6237590B2 JP52079314A JP7931477A JPS6237590B2 JP S6237590 B2 JPS6237590 B2 JP S6237590B2 JP 52079314 A JP52079314 A JP 52079314A JP 7931477 A JP7931477 A JP 7931477A JP S6237590 B2 JPS6237590 B2 JP S6237590B2
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JP
Japan
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laser beam
laser
intensity level
output
plate
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JP52079314A
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English (en)
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JPS5413343A (en
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Takehiko Kyohara
Hideaki Sato
Kazuo Yoshido
Nobuhiro Imai
Kimio Kono
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Canon Inc
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Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS5413343A publication Critical patent/JPS5413343A/ja
Publication of JPS6237590B2 publication Critical patent/JPS6237590B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 レーザビームを電子計算機、フアクシミリ画像
送信機等の画像送信機からの図形・文字等の画像
情報によつて偏向変調制御することにより、転写
方式電子写真法又はヒートモード記録法を用い、
高速に高品質のハードコピーを出力する装置はす
でに提案されている。
本発明は前記装置等に用いられるレーザ光源部
に関するものである。本発明の目的は品質の良い
記録画像が得られる記録装置を提供することにあ
る。
すなわち、本発明は画情報に基づいて変調され
たレーザービームを出射するレーザービーム形成
手段より得たレーザービームを走査手段により記
録媒体上に繰り返し走査し記録するレーザビーム
記録装置において、前記レーザビーム形成手段か
ら出射するレーザビームを入射し、入射したレー
ザビームの強度レベルを判別するとともに、前記
レーザビームの強度レベルを所定強度レベルとす
るべく判別結果に応じた制御信号をホールドする
制御信号発生手段と、前記レーザビームの走査位
置に設けられ前記走査手段により走査されたレー
ザビームを入射してレーザビームの位置信号をレ
ーザビームの走査毎に繰り返し出力するビーム頭
出し検知手段と、前記ビーム頭出し検知手段から
出力された位置信号に基づいて前記画情報の前記
レーザビーム形成手段への印加タイミングを決定
するタイミング決定手段とを設け、前記レーザビ
ームが前記画情報の変調を受けない期間内で、前
記ビーム頭出し検知手段が発生するビーム位置信
号に同期し、かつ前記レーザビームが前記ビーム
頭出し検知手段を走査する前の一定期間に前記制
御信号発生手段によりホールドされた制御信号に
もとづいて前記レーザビーム形成手段のレーザ駆
動電流レベルを制御し、出射するレーザビームの
強度レベルを所定強度レベルに制御する記録装置
を提供することにある。
本実施例は、半導体レーザ素子、(以下LD素子
(レーザダイオード)と称する)、の小型でありな
がら高出力、しかも駆動電流をパルス化する事に
より変調が直接行い得る等の特徴を活かして極め
て小型で高出力のレーザビーム光源装置及び前記
光源装置を用いた記録装置に関するものである。
本発明の目的は安定したビーム記録が行なえる
記録装置の提供にある。
従来、前述のごとき記録装置には主としてガ
ス・レーザが用いられてきている。代表的なガ
ス・レーザとしてはHe−Neガス・レーザ、Ar+
レーザ、炭酸ガス・レーザが上げられる。これら
のガスレーザの発振はレーザ管と、レーザ管の前
後に設けられた反射鏡によつて行なわれ、レーザ
管の長さは数十センチから数メートルに及んでい
る。又高出力のものは水冷装置が付属して全体が
大がかりになつている。
一方LD素子は第1図に示す如く、正電極コン
タクト51、P層52、N層、53、負荷極用コ
ンタクト54、反射面57及びP−N接合に電流
を流す為の電源55、放熱器56等を有するもの
であり、P−N接合に直接電流を流すことによつ
て少数担体を多量に注入し反転分布を形成させ
る。この状態は不安定で10-9〜10-3秒以内に価電
子帯の正孔と再結合し、準位の差に相当するエネ
ルギをもつ光子が放射される、このとき誘導放出
も可能になつて、条件を満たせばレーザ発振を起
す。レーザに使用される半導体材料はCdS、
ZnTe、CdSe、GaAs1−xPx、GaAs、GaAlAs、
InP、InSb、PbTeが上げられる。
初期のLDは室温での発振が低いデユーテイ比
でのパルス発振にかぎられ、連続動作等はおもい
もつかない状態だつたが1970年代になつてダブル
ヘテロ構造の開発によつて連続動作が可能になつ
た。第2図はかかるダブルヘテロ構造のLDを示
すものであり、61は正電極コンタクト、62は
P−GaAs層63はP−GaAlAs層、64はGaAs
層、65はn−GaAlAs層、66はn−GaAs層
67は負電極用コンタクトである。
ダブルヘテロ構造はバンド・ギヤツプの大きい
物質の接合を発光部の両側に設けることによつて
電流の流れる方向、いわば縦方向にキヤリヤと光
の閉じ込めを行なつて良い結果を得たのであつた
がこれらの閉じ込めをメサ・エツチング等の手法
により横方向にも行なうことによつて更に単一モ
ード化や低電流動作化や出力密度の増大が計られ
ている。現在得られる所の連続発振出力の最高は
20mw程度である。LDを室温で連続的に動作させ
る為には、現在のところヒートシンクにマウント
してダイオード内部で生じた熱を有効に逃す必要
がある。
第3図はLD素子の内部構造を示す為、一部を
破断した斜視図である。1がLDチツプで0.5mm
以下の大きさで電極の一方がインジユーム半田等
でヒートシンク2に溶着されている。電極の他方
はリード線3がボンデングされている。前記ヒー
トシンク2は防塵ガラス4aと取付ねじ4bを有
す金属シール鑵にインジユム半田等で固定される
ことにより外気から遮断されている。
前記LDチツプは室温で連続発振動作はする
が、外部温度の変動、及び、変調時間の長程によ
る内部温度の変動によつて発光出力の変動が起き
る。パルス変調の他にビーム強度変調を行う目的
の為には発光出力の変動比を1%以下に押える必
要がある。又パルス変調の場合、記録体の記録感
度の飽和領域内に入射エネルギーレベルを設定し
ても実験の結果では、変動比を10%以下にする必
要があつた。前記発光出力の変動を小さくする為
に、本実施例の装置に於いては、前記LD素子4
を積極的に外部から冷却ないし加熱することによ
りLDチツプ1の温度を定常化する手段と発光出
力を検出して発光出力の変動に応じて動作電流の
レベルを制御して前記発光出力変動を小さくする
出力変動制御手段を有している。
第4図はLD素子4を外部から温度調整を行う
為の装置部を示す斜視図である。
5は電子冷却素子で、数10個の素子が電気的に
直列に接続されており両面をセラミツク絶縁基板
5a,5bで絶縁されている。電子冷却素子5は
不純物のビスマス、テルル、セレン、アンチモン
等の複合合金からなり、リード線5c,5dから
直流電流を給電するとペリチエ効果により例えば
セラミツク板5a面で熱の発生、セラミツク板5
bで熱の吸収がおこるものであり、電流の向きを
逆にすると熱の発生する面と吸収する面は逆にな
る。6は前記電子冷却素子が発生する熱を空中に
放熱する為の大型放熱器であり、放熱セラミツク
板5aと密接している。7は前記電子冷却素子5
が吸熱することによつて冷却を行なうための電熱
導率の高い純銅で作られた冷却部材で吸熱セラミ
ツク板5b面と密接しており前記LD素子4及び
温度検知用のサーミスター素子8が取付けられて
いる。前記サーミスター素子8は温度変化により
端子8a,8b間の抵抗が変るものであるから、
前記抵抗変化に対応して、前記冷却素子5への電
流量及び電流の向きを制御することにより前記
LD素子4の温度を定常化するものである。
二点鎖線9で示した部分は熱絶縁物を示すもの
で前記冷却素子5、冷却部材7、LD素子4、サ
ーミスタ素子8等を前記熱絶縁体9、例えばポリ
ウレタン樹脂、コルク等で包括することにより前
記大型放熱器6より冷却部材7への熱の帰還が減
少し、前記冷却素子5の冷却効率が高まる。第5
図は発光半導体素子光源装置の一実施例を示す立
体斜視図、第6図は第5図に於けるA−A方向視
断面図である。
断熱箱9a内において、放熱器6の下面6a
と、LD素子4、サーミスター素子8が設けられ
た冷却部材7との間に冷却素子5が設けられ、更
に断熱材9によつてそれらが固定されている。嵌
台孔部を有する円柱10,10,10が放熱
器6の下面6aにねじ10aのねじ込みによつて
植立している。
前記円柱10,10,10の嵌合孔部にね
じ軸11,11,11がねじ部11aで螺合
した状態で嵌装されている。
前記放熱器6は前記ねじ軸11,11,11
先端によつて底板12の面上に植立している。
又前記放熱器6の下方空間は側板13、接続端子
器14aが設けられた後板14、ビーム放射窓1
5aを有する前板15によりかこまれている。前
記下方空間内に、LD素子4の温度、光量、発光
時間を制御する制御回路基板16が設けられてい
る。前記底板12は、ガイド部材17、渡し部材
18、前記渡し部材に設けられた調整ねじ部材1
9によつて直線摺動を行う移動板20に固定され
ている。更に前記ガイド部材17は基礎板21に
固定されている。前記基礎板21上にレンズ取付
板22が設けられており、レンズ取付板22には
ヘリコイド調整環23、集光レンズ鏡筒24が設
けられている。
チユーブ25は、可とう性のゴム、プラスチツ
ク等の材質からなる管であり、その一端は前記前
板に、他の端は前記鏡筒に密着して設けられてい
る。チユーブ25により前記LD素子4近傍の空
気を外気からしや断することによつて冷却による
前記LD素子4出射面の露結防止をするものであ
る。前記基礎板21は蝶番ばね部材26を介して
取付板27に取付けられている。取付板27には
本装置全体を必要な箇所に取付けるに際して利用
する、取付穴27a,27bを有している。第6
図に基ずいて更に構成を詳細に説明する。
LD素子4は冷却部材7にねじ部4bを通して
ナツトねじ4Cによつて締込み固定されている。
ねじ部4bとリード線3を電気回路基板16に接
続することにより前記LD素子の光量、発光時間
は制御される。温度検知素子8は冷却部材7に埋
込み固定されており、リード線8a,8bを電気
回路基板16に接続することにより、前記LD素
子4近傍の温度情報を前記電気回路基板16に伝
えるものである。
冷却素子5の両面は放熱器6と冷却部材7に密
接固定されており、リード線5c,5dから前記
温度検知素子8からの情報に基づいて給電が行な
われることにより冷却部7に対して吸熱又は発熱
が行なわれる。
前記LD素子4、冷却素子5、冷却部材7、温
度検知素子8は冷却箱9a内に配設されており、
更に冷却箱内は断熱材9により充填されている。
前記断熱材9により前記冷却箱9a内が熱的に外
部から断熱することにより前記放熱器6から冷却
部材7への熱帰還量が減少するものであるから、
前記冷却素子5の冷却効率が高まり、断熱しない
場合より少ない電流で冷却温度を下げることが出
来る。制御回路基板16上の制御回路は後板14
に設けられたコネクター14aにより外部駆動回
路と接続している。
ねじ軸11の先端部は第5図示のごとく前記低
板12面上の長孔溝12aに、ねじ軸11の先
端部は低板12面上の丸孔溝12bに夫々落込
み、又ねじ軸11の先端部は底板12面上に接
触した状態になつているため、前記放熱器6の前
記底板12の面上からの逸脱は規制されるが前記
放熱器6の回動は自由に出来る。心軸28の一端
に設けられたねじ部28aは、電気回路基板1
6、放熱器6に設けられた大き目の孔を貫通し、
更に外周にばね29を配設したばね押えねじ30
と螺合している。前記ばね30の押付け力は座金
31を通して放熱器6を常に底板12に押圧せし
める作用をしている。一応心軸28の他端に設け
られたねじ部28b、及び角柱形成部28Cは、
底板12の角孔12C及び移動板20及び基礎板
21を貫通して外周にばね32を配設したばね押
えねじ33と螺合している。前記ばね33の圧縮
力はばね30の圧縮力より大きく設定されてお
り、前記ばね33の圧縮力は前記心軸28を前記
底板12の方向に移動する力を付勢している。前
記底板12の角孔12Cと前記心軸28の角柱形
成部28Cは嵌合状態にあるので、心軸28が底
板12に対して回動せず、したがつて前記ばね押
えねじ30及び33を前記心軸28に容易にねじ
込むことが出来る。又角柱形成部28Cの外径が
心軸28の外径より小さい為、角孔12C位置で
前記心軸28のばね32による底板12の方向の
移動が停止さられる。以上のごとき構成で、ねじ
軸11,11,11を等しい量だけ回動する
ことにより、放熱器6の基礎板21からの高さを
上下させることが出来、従つて放熱器6に付属す
るLD素子4を上下させることが出来る。又前記
ねじ軸11,11,11の内1箇所のみを回
動することによつて、他の回動しないねじ軸の先
端を支点として基礎板21に対して放熱器6を回
転することが出来る。従つて放熱器に付属する
LD素子を同じく回転することが出来るものであ
る。又2個のガイド部材17,17aに狭持され
た移動板20は第5図示の渡し部材18に設けら
れた調整ねじ部材19の回転移動に連動して前記
LD素子のビーム光出射方向と直角な方向に摺動
移動する。従つて前記移動板20上に塔載されて
いるLD素子も同じく移動を行う。上記述のごと
き方法によりレンズ鏡筒24に対するLD素子4
の相対位置関係を調整後、ばね押えねじ30を心
軸28に深くねじ込むと、ばね押えねじ30の端
部が座金31に追突する。更にねじ30の回動を
続けると心軸28がばね32の力に抗して上の方
向にもち上げられ、最後にばね押えねじ33の鍔
部33aと基礎板21の座刳り面21aとが当
り、前記基礎板21と放熱器6とが締付けられて
一体化する。前記基礎板21にはレンズ取付板2
2が設けられている。前記レンズ取付板22の中
央に設けられた孔に直進ヘリコイド環34が直進
移動が可能なように、又ねじヘリコイド環35は
回転可能なように嵌合している。又直進ヘリコイ
ド環34とねじヘリコイド環35は螺合してい
る。前記ねじヘリコイド環35はスペーサ部材3
6、押え環37により前記レンズ取付板22から
抜け出ないように留められている。一方調整環2
3は前記ねじヘリコイド環35と連結しており調
整環23を回動すると、直進ヘリコイド34は同
じく直進ヘリコイド34に設けられたキー溝34
aとガイドピン38により回転作用が規制され、
直進方向のみ移動を行う。前群レンズG1は金物
39により保持されている。後群レンズを構成す
るレンズG2,G3は金物40と押え環41により
保持されている。更に前記金物39と40は鏡筒
24と押え環24aにより保持されている。前記
鏡筒24は前記直進ヘリコイド34と嵌合し、ね
じ部24bにより螺合して固定されている。G1
〜G3によつて構成されている集光レンズは、前
記LD素子4から出射する発散光束を集めて平行
ビーム化するものであるが前記LD素子4から出
射するビーム発散角を充分にカバーする大きな
NA(開口数)、と、長いワーキング・デイスタン
スを有するものである。基礎板21と取付板27
の先端は蝶番部材26により連結している。取付
板27に設けられた板ばね42は前記基礎板21
に前記蝶番部材26を支点とする反時計方向の回
転を与えている。一方取付板27に設けられたね
じ部材43に前記基礎板21に設けられた孔を通
して螺合しているボルトねじ44は前記基礎板2
1の反時計方向の回転を必要な角度位置で維持す
るものであり、ビスねじ45は前記ボルトねじ4
4の作用をロツクするはたらきをするものであ
る。第7図に基づいて本実施例の光源装置を用い
た記録装置を説明する。
101は電子写真プロセスを利用した記録部
で、感光ドラム102、現像器103、熱定着器
104帯電器105、給紙機構106及び記録紙
106a等からなり画像光に基ずいて公知の電子
写真プロセスにより感光ドラム102面上に形成
された電子潜像を帯電器5、現像器103により
可視化し、更に給紙機構106により給紙された
記録紙に前記潜像に基づく画像を印刷出力するも
のである。前記記録部101内に各種光学要素及
び前記光学要素を塔載する為の光学載台107が
収められている。前記光学載台107には、感光
ドラム102に画情報ビームを入力させるための
光源である半導体レーザ装置108、前記半導体
レーザ装置から出射するレーザビームの一部を透
過、一部を反射する半透鏡109、前記半透鏡1
09から反射するビーム光を入力して検出するビ
ーム強度検出装置110、前記半透鏡109を透
過して来たビーム光を屈曲するための反射ミラー
111、前記反射ミラー111から反射されたビ
ームの径を拡大するビーム・エクスパンダ・レン
ズ112、ビームを前記感光ドラム102面上に
走査するためのガルバー・ミラー・スキヤナ11
3、前記スキヤナ113によつて走査されたビー
ム光を前記感光ドラム面に結像するための結像レ
ンズ114前記結像レンズ114から出射した先
頭走査ビームを反射するビーム位置検知ミラー1
15、前記ミラー115からのビーム光を検知し
て頭出し信合を発生するビーム位置検出装置11
6が配設されている。下部ケース117には電源
部118、シーケンス制御回路部119、画像信
号制御回路部120が収納されている。前記光学
載台107面上に前記エクスパンダ・レンズ11
2の取付け孔を有する板121、前記結像レンズ
の取付け孔を有する板122、光軸設定用の孔を
有し、更に孔の裏側に光検出器123aを備えた
板123が、前記孔群の中心が光学的に一直線上
にあるごとく機械的に位置が定められて固定され
ている。
又前記エクスパンダ・レンズ112の先端に光
軸設定用の孔を有する円板124が前記孔中心が
前記エクスパンダ・レンズ112の光軸と一致す
るごとく取りはずし自在に嵌装している。前記板
123及び円板124の孔の周辺一面に波長8000
〜9000Åの光で励起して可視光を発する螢光体が
設けられている。第6図記載のボルトネジ44を
回すと、前記半導体レーザ装置108から出射す
るレーザビームの像は、前記円板124に設けら
れた螢光体面上で矢印Zの方向に移動する。又反
射ミラー111を矢印Xの方向に移動することに
よつて前記レーザビームの像は前記円板124に
設けられた螢光体面上で矢印Xの方向に移動す
る。前記ガルバノ・ミラー・スキヤナ113を取
りはずし前記エクスパンダーレンズから出射する
レーザビームの像を、前記板123に設けられた
螢光体面上に投影することによつて前述同様レー
ザビーム像の移動が観測出来る。又前記レーザビ
ームの向きを前記エクスパンダ・レンズ112の
光軸と平行にするのは、前記反射ミラー111の
反射面を回転することによつて行なわれる。前記
光路調整手段により前記レーザビームの全光束が
前記板123及び円板124の孔を通る結果、前
記板123に設けられている光検出器123aの
出力が最高になる。前記光検出器123aの出力
を知ることにより光路が正しく設定されたことが
確認出来るものである。前記結像レンズ114と
感光ドラム102の間の前記光学載台107面上
に走査ビーム通過のための長孔を有する板125
が前記長孔の短辺中心と前記結像レンズ114の
走査平面の中心が一致するごとく機械的に位置が
定められて固定されている。前記長孔の周辺には
前記螢光体が配設されている。前記結像レンズ1
14から出射するレーザビームの光路設定は前記
ガルバノ・ミラー・スキヤナ113を再び前記光
学載台に取り付け、前記スキヤナ113をX軸′
軸及びY′軸を中心に回転調整することによりス
キヤナ113、結像レンズによつて走査、収束さ
れたレーザビームを前記板125の長孔を通過さ
せ、ドラム102面上に結像させることにより行
なわれる。なお、前記板125面上の螢光体の発
光により前記走査ビームの前記板125面上の位
置が検知される。
次に、コンピユータからの図形・文字情報を受
け取り、本実施例に示した装置にて、所望のハー
ドコピーを作製するまでの動作を、第8図を参照
しながら説明する。コンピユータ201からの情
報は直接或いは、磁気テープ、磁気デイスク等の
記憶媒体を介して、本装置のインターフエイス回
路202に定められたフオーマツトで入力され
る。コンピユータからの種々の命令は、インスト
ラクシヨン実行回路204で解読され且つ実行さ
れる。データはデータメモリー203に一定の量
ずつ貯えられる。データの形式は、文字情報の場
合には、2進コードで与えられ、図形情報の場合
には、図形を構成する画像単位のデータである場
合又は、図形を構成する線のデータ(所謂ベクト
ルデータ)である場合がある。これらのモード
は、データに先立つて指定され、インストラクシ
ヨン実行回路204は、前記指定モードに従つ
て、データを処理する様にデータメモリー20
3、ラインデータジエネレータ206を制御す
る。ラインデータジエネレータ206では1スキ
ヤンライン分の最終データを発生させる。
即ち、データが文字コードで与えられた時は、
キヤラクタジエネレータ205から文字パターン
を読み出し、1行分の文字パターンを並べてバツ
フアするか、或いは1行分の文字コードをバツフ
アし逐次キラクタジエネレータ205より文字バ
ターンを読み出して1スキヤンライン分のレーザ
光を変調するためのデータを順次作成する。デー
タが図形情報である場合にも、データをスキヤン
ラインデータに変換して順次1スキヤンライン分
のレーザ光を変調するためのデータを作り出す。
1スキヤンライン分のデータは、1スキヤンライ
ン分の画素数に等しい数のビツト数を持つシフト
レジスタ等からなる第1ラインバツフア207及
び第2ラインバツフア208に、バツフアスイツ
チ制御回路209の制御により交互に入力され
る。更に、第1ラインバツフア207及び第2ラ
インバツフア208のデータは、ビーム検出器1
16からのビーム検出信号をトリガ信号として、
1スキヤンライン分1ビツトずつ順次読み出さ
れ、レーザ変調御回路211に加えられる。スキ
ヤナー113の反射面が、感光ドラム上を回転方
向に垂直な線に沿つて走査する間に、ラインバツ
フアに貯えられた1スキヤンライン分のデータが
レーザ発振器108に加えられ、1スキヤンライ
ンの明暗のパターンが感光ドラム102に与えら
れる。第1及び第2ラインバツフア207,20
8からは、バツフアスイツチ制御回路209の制
御により交互に読み出される。これらの時間的関
係を第9図に示す。即ちラインバツフアの片方か
ら読み出している時、他方のラインバツフアへ書
き込んでいる。この方式により、スキヤナー11
3が感光ドラム102上を掃引するのに、最初の
走査と次に続く走査の間隔が非常に短い時に、も
れなくデータを変調器に加えることが出来る。1
スキヤンラインを走査する間に、感光ドラム10
2は定速回転を続け、適当なスキヤンライン間隔
分だけ移動する。
更に、印刷部101を制御するプリンタ制御回
路212は、インストラクシヨン実行回路204
からのスタート命令を受けると、プリンタ動作を
開始させると共に、プリンタレデイ212a、レ
ーザレデイ215a、スキヤナ113により制御
される自動発振回路214によつて制御される。
スキヤナ駆動回路213より導出される走査レデ
イ213a、温度制御回路216から導出される
レーザ作動温度レデイ216aの信号をインスト
ラクシヨン実行回路204に返す。レーザ発振器
108に信号が加えられ、感光ドラムへ1頁の最
初のデータが書き込まれると、この書き込まれた
データが、転写位置に於て、丁度頁の頭の部分に
転写されるべく、タイミングをとつて、プレーン
ペーパー記録紙106aが給紙機器106により
送り出される。
かくして、コンピユータ201からの文字・図
形情報は、普通紙上に鮮明なハードコピーとして
出力される。
前記レーザレデイ信号215aは、レーザ発振
器108の出力するレーザビームを光路中に設け
た光分割器109によつて分割し、光検知器11
0に前記分割されたレーザビームを入射させて前
記光検知器110の出力を検出回路215で検出
することによつて得られたものである。
又前記光検知器110の出力を検出回路215
で検出して得られたレーザビーム強度信号により
レーザ駆動電源210が制御され、レーザ発振器
108の出力するレーザビームの強度が一定化さ
れる。
即ち前記レーザ発振器108の出力するレーザ
ビームの強度が一定強度以上又は以下になると、
前記ビーム出力検出回路215は前記光検出器1
10の出力が規準レベル以上又は以下になること
を検出して、前記出力と規準レベルの差をサンプ
ル・ホールドする。前記出力レベルが規準レベル
の定められた範囲内だと前記ビーム出力検出回路
215は前記レーザレデイ信号215aを発生す
るものである。又前記ビーム出力検出回路215
は、前記出力と規準レベル差のサンプル・ホール
ド値に比例して、前記駆動電源210が前記レー
ザ発振器に入力する電流のレベルを制御すること
によつて、レーザ発振器108の出力するレーザ
ビームの強度を一定化するものである。前記レー
ザ発振器108の出力するレーザビームは、スキ
ヤナー113が1スキヤン・ラインを走査する
間、前記ラインバツフア207又は208からの
画情報信号により変調を受ける為前記光検知器に
入射する前記レーザビームの強度及び発光時間は
時間的に不規則に変化する。又1スキヤン・ライ
ンの画情報信号がブランクの場合、前記光検知器
110に入射するレーザビームはOFFするため
光検知器110の出力が0となり測定不能にな
る。
前記問題を解決する為に本実施例では、前記レ
ーザビームが前記変調を受けている期間外に、前
記ビーム位置検出器116の発生するビーム位置
信号に同期した一定期間中に前記レーザビームを
前記光検知器に入射さしめる手段を用いている。
これらの時間関係を第10図に示す。即ちレー
ザ変調制御回路211に内蔵する自走タイマーは
ビーム位置検出器116のビーム検知信号によつ
てスタートし、T1時間後Hiレベルに転じ前記レ
ーザ変調制御回路211の前記レーザ発振器10
8の動作スイツチを開き、更に次のビーム検知信
号によつてリセツトされる。
前記バツフアスイツチ回路209は前記ビーム
検知信号に応答し、T2時間後T3時間の間、画情
報はき出しゲートを開く。前記ラインバツフア2
07又は208は、前記T3時間の間、画情報を
前記レーザ変調制御回路に注入する。
前記レーザ変調制御回路211は前記T3,T5
時間のみ前記レーザ発振器108を動作モードに
する。T4はスキヤナー113のもどり時間でT4
が短くなる程走査効率が上る。
前記レーザ発振器108が動作モードになつて
いるT5の間に前記ビーム検出回路は前記レーザ
発振器の出力するレーザビームの強度と規準レベ
ルとの差をサンプル・ホールドし、前記サンプ
ル・ホール値に比例して前記レーザ駆動電源21
0のレーザ駆動電流レベルを制御して一定レベル
に修正する。
以上説明した様に本発明によれば、品質の良い
記録画像が得られる記録装置を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は半導体レーザ素子の斜視図、
第3図は半導体レーザの一部断面斜視図、第4図
は半導体レーザユニツトを示す斜視図、第5図、
第6図は半導体レーザユニツト及びレンズユニツ
トを載置した調整基台を示す斜視図及び断面図、
第7図は本発明を適用した記録装置を示す斜視
図、第8図は第7図に示した記録装置のブロツク
ダイアグラム、第9図、第10図は第8図の動作
説明に供する波形図、ここで4はLD素子、10
1は記録部、102は感光ドラム、108は半導
体レーザ装置、109は半透鏡、110はビーム
強度検出装置、111は反射ミラー、113はミ
ラースキヤナ、114は結像レンズ、115はビ
ーム位置検知ミラー、116はビーム位置検出装
置、である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 画情報に基づいて変調されたレーザービーム
    を出射するレーザービーム形成手段より得たレー
    ザービームを走査手段により記録媒体上に繰り返
    し走査し記録するレーザビーム記録装置におい
    て、前記レーザビーム形成手段から出射するレー
    ザビームを入射し、入射したレーザビームの強度
    レベルを判別するとともに、前記レーザビームの
    強度レベルを所定強度レベルとするべく判別結果
    に応じた制御信号をホールドする制御信号発生手
    段と、前記レーザビームの走査位置に設けられ前
    記走査手段により走査されたレーザビームを入射
    してレーザビームの位置信号をレーザビームの走
    査毎に繰り返し出力するビーム頭出し検知手段
    と、前記ビーム頭出し検知手段から出力された位
    置信号に基づいて前記画情報の前記レーザビーム
    形成手段への印加タイミングを決定するタイミン
    グ決定手段とを設け、前記レーザビームが前記画
    情報の変調を受けない期間内で、前記ビーム頭出
    し検知手段が発生するビーム位置信号に同期し、
    かつ前記レーザビームが前記ビーム頭出し検知手
    段を走査する前の一定期間に前記制御信号発生手
    段によりホールドされた制御信号にもとづいて前
    記レーザビーム形成手段のレーザ駆動電流レベル
    を制御し、出射するレーザビームの強度レベルを
    所定強度レベルに制御することを特徴とする記録
    装置。
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