JPS623393Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 (a) 考案の技術分野 本考案はメツキを行うメツキ用槽とメツキ液の
PH、温度を測定し、フイードバツクによりメツキ
液のPH、温度をコントロールするための循環用タ
ンクを備えた循還式メツキ装置に関する。

(b) 従来技術と問題点 一般に被加工物にメツキを行う場合、メツキ液
のPH値と温度を管理する必要がある。特に電気部
品等に用いられるパーマロイ合金等のメツキにお
いては、その組成によつてメツキ液温度が変るた
め可成り厳密にコントロールする必要がある。従
来より第１図イ，ロに示すようなメツキ装置１が
用いられており、それはメツキを行うメツキ用槽
２と該メツキ用槽内のメツキ液のPH、温度を測定
し、フイードバツクによりメツキ液のPH、温度を
コントロールするための循環用タンク３を持ち、
該循環用タンク３でコントロールしたメツキ液を
メツキ用槽２にポンプ４を用いて送り込み、又メ
ツキ用槽２からはオーバーフロー板５によるオー
バーフローによりメツキ作業によつて発生した異
物を除去してゆく構造である。

メツキ用槽２内のメツキ液の温度、PHを測定す
るために、該メツキ槽２の端側に温度測定器６と
PH測定器７を設け、該測定器６，７の測定子をメ
ツキ液９中におき、該測定子がメツキへの影響を
及ぼさないように槽と同材質でシヤヘイ板８を設
けている。又メツキ用槽２と循環用タンク３は管
により連結されてメツキ液は循環し、メツキ用槽
２内のメツキ液９の円滑なコントロールが行われ
るようになつている。なお、１３はアノードを示
す。

上記メツキ用槽２内でのメツキ液９は第２図の
矢印ａ，ｂ，ｃで示すように流れており、又該槽
２底部はシヤヘイ板８にシヤヘイされてないの
で、メツキ作業によつて発生したメツキ用槽２内
の異物のうち、沈澱しているもの１０は槽底部よ
りシヤヘイ板８で区切られた測定室１１に入り、
オーバーフロー板５の上部より溢れ落ち、循環用
タンク３に送られる。しかしインク槽２上部に浮
遊しているもの１２は軽いためにメツキ液流ａに
乗り切れず、又シヤヘイ板８の高さH₁がオーバ
ーフロー板５の高さH₂より高いため、シヤヘイ
板８に邪魔されるため、槽上方に浮いたまゝ除去
されないという問題がある。

(c) 考案の目的 本考案の目的は従来の上記問題を除去するため
メツキ用槽のシヤヘイ板の高さをオーバーフロー
板より低く構成し、メツキ作業により発生した異
物が清浄できるメツキ用槽としたメツキ装置を提
供することにある。

(d) 考案の構成 そしてこの目的は本考案によれば、メツキを行
うメツキ用槽と該メツキ液のメツキ条件を安定さ
せるために設けたPH、温度測定器と該測定器のメ
ツキへの影響を防ぐために設けたシヤヘイ板と、
さらにメツキ作業により発生した該メツキ用槽内
の異物を除去するためのオーバーフロー板を備え
るとともに、該メツキ液のPH及び温度の測定結果
をフイードバツクし、該メツキ液のPH及び温度を
コントロールする循環用タンクより構成されたメ
ツキ装置において、前記メツキ用槽内のシヤヘイ
板を前記オーバーフロー板の高さより低く構成し
たことを特徴とする循環式メツキ装置を提供する
ことによつて達成される。

(e) 考案の実施例 以下本考案の実施例を図面によつて詳述する。

第３図は本考案の循環式メツキ装置のメツキ用
槽の１実施例を示す断面図である。

図において、メツキ用槽２内で、測定器６，７
の測定子がメツキへの影響を及ぼさないように設
けたシヤヘイ板８′の高さH′₁がメツキ作業によつ
て発生した異物を除去するためのオーバーフロー
板５の高さH₂より低くしている。その他従来の
第２図と共通部分の符号はそのまゝ用い、説明は
省略する。

例えば、H₂−H′₁＝ｌ＞５mmとし、H′₁はアノ
ード１３の上端より充分高くすることによつて、
メツキ用槽２の表面に浮遊しているメツキ作業に
よつて発生した異物をシヤヘイ板８′の上部より
シヤヘイ板８′に邪魔されることなく、シヤヘイ
板８′で区切られた測定室１１に入り込み、オー
バーフロー板５の上部より溢れ落ち循環用タンク
３に送られる。又メツキ用槽２底部に沈澱してい
る異物１０は従来と同じようにシヤヘイ板８′下
部よりシヤヘイ板８′で区切られている測定室１
１に入り、オーバーフロー板５の上部より溢れ落
ち循環用タンク３へ送られる。

以上実施例のようにシヤヘイ板８′の高さH′₁を
オーバーフロー板５の高さH₂より低くすること
により、メツキ作業によつて発生したメツキ用槽
２内の異物１０，１２が、従来のようにシヤヘイ
板８′に邪魔されることなく清浄することができ
る。

(f) 考案の効果 以上、詳細に説明したように、本考案の循還式
メツキ装置はメツキ用槽内のシヤヘイ板をオーバ
ーフロー板の高さより低く構成することによりメ
ツキ用槽内のメツキ作業によつて発生した異物が
シヤヘイ板に邪魔されることなく清浄される効果
は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のメツキ装置を説明するための図
で、イは断面図、ロは平面図、第２図は従来のメ
ツキ用槽の断面図、第３図は本考案のメツキ用槽
の１実施例の断面図を示す。 図において、２はメツキ用槽、５はオーバーフ
ロー板、６，７は測定器、８′はシヤヘイ板、９
はメツキ液、１０，１２は異物、１１は測定室、
１３はアノードである。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. メツキを行うメツキ用槽と該メツキ液のメツキ
   条件を安定させるために設けたPH、温度測定器と
   該測定器のメツキへの影響を防ぐために設けたシ
   ヤヘイ板と、さらにメツキ作業により発生した該
   メツキ用槽内の異物を除去するためのオーバーフ
   ロー板を備えるとともに、該メツキ液のPH及び温
   度の測定結果をフイードバツクし、該メツキ液の
   PH及び温度を調整する循環用タンクより構成され
   たメツキ装置において、前記メツキ用槽内のシヤ
   ヘイ板を前記オーバーフロー板の高さより低く構
   成したことを特徴とする循環式メツキ装置。