JPS6231237B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （以下利用分野、従来技術等発明の目的） 本発明はガスホルダに関するものである。

従来、サンプリング用ガスホルダとしては有水
式のものが使用されている。それは、サンプリン
グガス採取開始の時点に於いて、ホルダ内の残ガ
スを完全にパージできるのは有水方式しかないか
らである。しかしながら、有水方式は外部との遮
断のために封水を用いているので、たとえ事前に
封水をサンプリングガスと同様のガスで飽和状態
になるまでバブリング操作を行なつても、サンプ
リングガスは、封水とかなりの時間接触している
ので、その時々の条件によつて、サンプリングガ
スの溶解又は溶解成分の遊離が起り得る。従つて
正確なサンプリングガスを保持できない。本発明
は封水を一切使用しないため、封水に伴う従来の
欠点を一掃できる上に、従来の無水方式ガスホル
ダーでは行えなかつたホルダ内のパージを容易、
かつ完全に行なえるようにしたものである。以下
図について詳述すると次の通りである。

（以下発明の構成作用） 符号１は内槽であつて、２は該内槽１を被覆す
る上下動自在な外槽である。前記内槽１の外周に
は上下二段にガス集合溝３，３′を形成し、該上
下二段のガス集合溝３，３′間の前記内槽１と外
槽２との間にシールリング４を、取着けると共に
前記下段のガス集合溝３′の下部の前記内外槽
１，２間にもシールリング４′を取着ける。かか
るシールリング４，４′は、もちろん内槽１側に
取着ける。符号５は弁６を具えたパージ管、７は
弁６′を具えた漏洩ガス管である。前記上段のガ
ス集合溝３は前記パージ管５に接続すると共に前
記下段のガス集合溝３′は前記漏洩ガス管７と接
続する。サンプリングガスは外槽２の頂部のガス
導入口８から内槽１と外槽２との間に導入する。
符号９はサンプリングガス導出口、１０は外槽固
定部材、１１は枠体、１２は外槽保持用部材であ
る。しかして、先ず、サンプリングガスを導入す
る前に、内外槽１，２間の気体をパージしなけれ
ばならないが、この空間は内外槽１，２が摺動方
式のため、非常に小さくなつており、またパージ
されるガスの流れ方向が集合溝への一方向に流れ
る構造のため、短時間のうちに完全にパージされ
る。パージの終了は、パージ管５に取着けられた
流量計１３を読んで判断される。この時は、外槽
固定部材１０により外槽２を固定し、弁６を開と
し、弁６′を閉とした後、ガス導入口８から内槽
１と外槽２との間にパージ用ガスを導入する。シ
ールリング４の存在によりパージガスは槽１，２
間の残ガスを伴つて上段のガス集合溝３を経てパ
ージ管５から排出される。サンプリングガスを導
入する時は、外槽固定部材１０を外し、弁６を閉
に、また弁６′を開とした後、ガス導入口８から
サンプリングガスを内外槽１，２間に導入する。
サンプリングガスの導入量の増加に伴つて外槽２
は摺動上昇するが、弁６は閉となつているので、
サンプリングガスは外部に流出することはない。
シールリング４から漏洩があつたような場合に
は、下段のガス集合溝３′を介して漏洩ガス管７
から外部に放出する。

（以下発明の効果） 本発明は以上の通り、封水を一切使用しないの
で、冒頭に記した封水に伴う種々の欠点を解消で
き、正確なサンプリングガスを保持できる上に、
サンプリングが、開始時点に於いて、ホルダの残
ガスを完全に追い出すことのできる構造となつて
いるためパージ作業を容易、且つ完全に行うこと
ができる優れた特徴を持つものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は全体の系統説明図である。符号１……
内槽、２……外槽、３，３′……ガス集合溝、
４，４′……シールリング、５……パージ管、
６，６′……弁、７……漏洩ガス管、８……ガス
導入口、９……ガス導出口、１０……外槽固定部
材、１１……枠体、１２……外槽保持用部材、１
３……流量計。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 内槽の外側に、該内槽を被覆する上下動自在
   な外槽を設置し、前記内槽の外周には上下二段に
   ガス集合溝を形成し、該上下二段のガス集合溝間
   の前記内槽と外槽との間にシールリングを、前記
   内槽側に取着けると共に前記下段のガス集合溝の
   下部の前記内外槽間にもシールリングを、前記内
   槽側に取着け、前記上段のガス集合溝と弁を具え
   たパージ管とを接続し、且つ前記下段のガス集合
   溝と弁を具えた漏洩ガス管とを接続し、前記外槽
   の頂部から前記内槽と外槽との間にガスを導入す
   るようにしたガスホルダ。