JPS62298978A - 負圧利用型浮動ヘツド支持機構 - Google Patents
負圧利用型浮動ヘツド支持機構Info
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- JPS62298978A JPS62298978A JP14133486A JP14133486A JPS62298978A JP S62298978 A JPS62298978 A JP S62298978A JP 14133486 A JP14133486 A JP 14133486A JP 14133486 A JP14133486 A JP 14133486A JP S62298978 A JPS62298978 A JP S62298978A
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 18
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- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 3
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- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 2
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- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる浮動ヘッド支持
機構に関する。
機構に関する。
一般に磁気ディスク装面における磁気ヘッドとしては、
動圧型の気体軸受である浮動へソドスライダが用いられ
ている。磁気ディスク装置の大容量高密度化に伴って、
浮動ヘッドスライダの浮揚量は極めて小さくなっており
、現在はサブミクロンオーダのものが実用化されている
。そして浮動ヘッドスライダは、高速で回転する磁気デ
ィスク媒体のランナウトや媒体面上に存在する加工上の
微少な突起に対して安定にその浮揚量を保って走行し、
装置の信頼性を高めるべく、浮動ヘッドスライダの自由
な運動を拘束しない極めてフレキシブルなばねであるジ
ンバルばねによって支えられている。そしてジンバルば
ねには、一般には、浮動ヘントスライダに荷重を負荷す
るとともに浮動ヘントスライダを支える役割を持つサス
ペンションばねが接合されている。
動圧型の気体軸受である浮動へソドスライダが用いられ
ている。磁気ディスク装置の大容量高密度化に伴って、
浮動ヘッドスライダの浮揚量は極めて小さくなっており
、現在はサブミクロンオーダのものが実用化されている
。そして浮動ヘッドスライダは、高速で回転する磁気デ
ィスク媒体のランナウトや媒体面上に存在する加工上の
微少な突起に対して安定にその浮揚量を保って走行し、
装置の信頼性を高めるべく、浮動ヘッドスライダの自由
な運動を拘束しない極めてフレキシブルなばねであるジ
ンバルばねによって支えられている。そしてジンバルば
ねには、一般には、浮動ヘントスライダに荷重を負荷す
るとともに浮動ヘントスライダを支える役割を持つサス
ペンションばねが接合されている。
第5図は従来の浮動ヘッド支持機構を示す斜視図であり
、7は浮動ヘントスライダ、2はジンバルばね、3はサ
スペンションばねである。サスペンションばね3は、図
示せぬスライダ位置決め用のアクチュエータ機構に接続
され、浮動ヘッド支持機構は磁気ディスク媒体面上の所
望のトランクに高速に位置決めされる。浮動ヘントスラ
イダ7と磁気ディスク媒体間には装置稼働中に空気の流
体力学的作用によって高い圧力が発生し、その結果浮動
ヘッドスライダ7は磁気ディスク媒体面上を浮揚するが
、その浮揚量を最適に保持するため、浮動ヘッドスライ
ダ7にはサスペンションばね3のテンション曲げ効果に
よって適切な荷重が負荷される。
、7は浮動ヘントスライダ、2はジンバルばね、3はサ
スペンションばねである。サスペンションばね3は、図
示せぬスライダ位置決め用のアクチュエータ機構に接続
され、浮動ヘッド支持機構は磁気ディスク媒体面上の所
望のトランクに高速に位置決めされる。浮動ヘントスラ
イダ7と磁気ディスク媒体間には装置稼働中に空気の流
体力学的作用によって高い圧力が発生し、その結果浮動
ヘッドスライダ7は磁気ディスク媒体面上を浮揚するが
、その浮揚量を最適に保持するため、浮動ヘッドスライ
ダ7にはサスペンションばね3のテンション曲げ効果に
よって適切な荷重が負荷される。
通常の磁気ディスク装置においては、サスペンションば
ね3の荷重負荷効果によって停止中は浮動へノドスライ
ダ7と磁気ディスク媒体面とが接触し、磁気ディスク媒
体を回転起動することによって生じる空気流の効果によ
り浮動へノドスライダを浮揚させる、いわゆるコンタク
トスタートストップ方式を用いている。この方式では磁
気ディスク媒体が低速で回転している間は浮動ヘントス
ライダ7には浮揚力は殆ど発生しないから、浮動ヘッド
スライダ7と磁気ディスク媒体は接触摺動することにな
る。
ね3の荷重負荷効果によって停止中は浮動へノドスライ
ダ7と磁気ディスク媒体面とが接触し、磁気ディスク媒
体を回転起動することによって生じる空気流の効果によ
り浮動へノドスライダを浮揚させる、いわゆるコンタク
トスタートストップ方式を用いている。この方式では磁
気ディスク媒体が低速で回転している間は浮動ヘントス
ライダ7には浮揚力は殆ど発生しないから、浮動ヘッド
スライダ7と磁気ディスク媒体は接触摺動することにな
る。
通常の浮動へノドスライダ7はフェライトやセラミ・ツ
ク等の極めて硬い材料で作られており、さらに微少な浮
揚量を実現するために空気潤滑面には研摩加工が施され
ている。それに対し磁気ディスク媒体は表面にデータ保
護のための保護膜層やコンタクトスタートストップ時の
スライダと磁気ディスク媒体間の摺動性を良くするため
の潤滑材が塗布されているが、その硬度は浮動ヘッドス
ライダ7に較べればかなり小さい。そのためコンタクト
スタートストップを行う場合、浮動へノドスライダ7と
磁気ディスク媒体間の接触摺動によって磁気ディスクの
記録媒体が削り取られる、いわゆるヘッドクラッシュが
生ずることがある。磁気ディスク媒体に傷がつけば、そ
の場所に記録されていた情報は消え去り、装置の信頼性
が失われる。
ク等の極めて硬い材料で作られており、さらに微少な浮
揚量を実現するために空気潤滑面には研摩加工が施され
ている。それに対し磁気ディスク媒体は表面にデータ保
護のための保護膜層やコンタクトスタートストップ時の
スライダと磁気ディスク媒体間の摺動性を良くするため
の潤滑材が塗布されているが、その硬度は浮動ヘッドス
ライダ7に較べればかなり小さい。そのためコンタクト
スタートストップを行う場合、浮動へノドスライダ7と
磁気ディスク媒体間の接触摺動によって磁気ディスクの
記録媒体が削り取られる、いわゆるヘッドクラッシュが
生ずることがある。磁気ディスク媒体に傷がつけば、そ
の場所に記録されていた情報は消え去り、装置の信頼性
が失われる。
また、高密度記録を実現するためには、浮動ヘッドスラ
イダ7の低浮揚量化が重要である。第6図は浮動ヘッド
スライダのさらなる低浮揚量化を実現すべく、浮動ベッ
ドスライダに負圧利用型の浮動ヘッドスライダを用いた
浮動ヘッド支持機構である。図中の1は負圧利用型浮動
へノドスライダ、2はジンバルばね、3はサスペンショ
ンばねである。負圧利用型浮動ヘッドスライダ1は空気
潤滑面に負圧発生面を設けることによって発生するi圧
効果を、サスペンションばね3によるスライダ押し付は
力に加えて利用し、低浮揚量化を実現するものである。
イダ7の低浮揚量化が重要である。第6図は浮動ヘッド
スライダのさらなる低浮揚量化を実現すべく、浮動ベッ
ドスライダに負圧利用型の浮動ヘッドスライダを用いた
浮動ヘッド支持機構である。図中の1は負圧利用型浮動
へノドスライダ、2はジンバルばね、3はサスペンショ
ンばねである。負圧利用型浮動ヘッドスライダ1は空気
潤滑面に負圧発生面を設けることによって発生するi圧
効果を、サスペンションばね3によるスライダ押し付は
力に加えて利用し、低浮揚量化を実現するものである。
この場合負圧発生によってスライダが磁気ディスク媒体
側に吸引されるため、サスペンションばね3によるスラ
イダの磁気ディスク媒体に対する押し付は力は小さくて
すみ、コンタクトスタートストップを行う上ではスライ
ダ、磁気ディスク媒体間の摩擦も小さく都合が良い。
側に吸引されるため、サスペンションばね3によるスラ
イダの磁気ディスク媒体に対する押し付は力は小さくて
すみ、コンタクトスタートストップを行う上ではスライ
ダ、磁気ディスク媒体間の摩擦も小さく都合が良い。
しかしながら低浮揚量化を実現するためには磁気ディス
ク媒体および負圧利用型浮動ヘッドスライダ1の潤滑面
はそれらの表面粗さをできるかぎり小さくしなければな
らない。なぜならば、両者の表面に突起状の粗さが存在
すればやはりヘッドクラッシュの原因ともなるからであ
る。そのため磁気ディスク媒体および負圧利用型浮動へ
ノドスライダ1の潤滑面は鏡面状に仕上げられているが
、表面仕上げ精度が高くなれば、両表面間の吸着といっ
た問題が生じる。これは、磁気ディスク装置の停止時に
接触している浮動ヘッドスライダと磁気ディスク媒体の
間に強い吸着力が生じ、磁気ディスク媒体の回転起動が
できなくなるといった障害を起こすことになる。このよ
うな吸着といった現象は、先に示した通常の負圧を利用
しない浮動ヘントスライダを用いる浮動ヘッド支持機構
においても問題となることは言うまでもない。
ク媒体および負圧利用型浮動ヘッドスライダ1の潤滑面
はそれらの表面粗さをできるかぎり小さくしなければな
らない。なぜならば、両者の表面に突起状の粗さが存在
すればやはりヘッドクラッシュの原因ともなるからであ
る。そのため磁気ディスク媒体および負圧利用型浮動へ
ノドスライダ1の潤滑面は鏡面状に仕上げられているが
、表面仕上げ精度が高くなれば、両表面間の吸着といっ
た問題が生じる。これは、磁気ディスク装置の停止時に
接触している浮動ヘッドスライダと磁気ディスク媒体の
間に強い吸着力が生じ、磁気ディスク媒体の回転起動が
できなくなるといった障害を起こすことになる。このよ
うな吸着といった現象は、先に示した通常の負圧を利用
しない浮動ヘントスライダを用いる浮動ヘッド支持機構
においても問題となることは言うまでもない。
本発明の目的は以上の従来の欠点を除去し、ヘッドクラ
ッシュや吸着といった問題を発生しない負圧利用型浮動
ヘッド支持機構を提供することにある。
ッシュや吸着といった問題を発生しない負圧利用型浮動
ヘッド支持機構を提供することにある。
本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構は、空気潤滑面
に負圧を発生する機構を有する負圧利用型浮動ヘッドス
ライダを支持するジンバルばねと、このジンバルばねを
一端において支えるサスペンションばねと、このサスペ
ンションばねの他端に一端が接合され、かつ中間部に支
点を有し、てこ作用を行う変位拡大機構部と、この変位
拡大機構部の他端に接合され、電圧を印加せしめること
によって変位を生ずる圧電積層セラミックアクチュエー
タとを備えることを特徴としている。
に負圧を発生する機構を有する負圧利用型浮動ヘッドス
ライダを支持するジンバルばねと、このジンバルばねを
一端において支えるサスペンションばねと、このサスペ
ンションばねの他端に一端が接合され、かつ中間部に支
点を有し、てこ作用を行う変位拡大機構部と、この変位
拡大機構部の他端に接合され、電圧を印加せしめること
によって変位を生ずる圧電積層セラミックアクチュエー
タとを備えることを特徴としている。
本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構によれば、負圧
利用型浮動ヘッドスライダを支持するジンバルばねと、
そのジンバルばねを一端において支エルサスペンション
ばねを、圧電積層セラミックに電圧を印加することによ
って生ずる変位を変位拡大機構部を介して増大させると
いったアクチュエート機構により変位させることができ
る構造であり、磁気ディスクの回転停止時から低速時ま
では浮動ヘッドスライダと磁気ディスク媒体との間を非
接触に保ち、磁気ディスク媒体が十分に加速された後に
上記の機構によってアクチュエートを行うことにより浮
動へ・ノドスライダをセルフローディング可能な位置ま
で移動させ、その後磁気ディスク媒体に対し滑らかにラ
ンディングさせることができ、その結果ヘンドクラッシ
ュや吸着といった、コンタクトスタートストップを行う
磁気ディスク装置の欠点を取り除くことができる。
利用型浮動ヘッドスライダを支持するジンバルばねと、
そのジンバルばねを一端において支エルサスペンション
ばねを、圧電積層セラミックに電圧を印加することによ
って生ずる変位を変位拡大機構部を介して増大させると
いったアクチュエート機構により変位させることができ
る構造であり、磁気ディスクの回転停止時から低速時ま
では浮動ヘッドスライダと磁気ディスク媒体との間を非
接触に保ち、磁気ディスク媒体が十分に加速された後に
上記の機構によってアクチュエートを行うことにより浮
動へ・ノドスライダをセルフローディング可能な位置ま
で移動させ、その後磁気ディスク媒体に対し滑らかにラ
ンディングさせることができ、その結果ヘンドクラッシ
ュや吸着といった、コンタクトスタートストップを行う
磁気ディスク装置の欠点を取り除くことができる。
以下図面を参照することによって本発明の実施例につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第1図は本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構を示す
第一の実施例を示すための斜視図、第2図はこの実施例
の側面図である。この浮動ヘッド支持機構は、一枚の磁
気ディスク媒体の両面を挟み込むタイプのものである。
第一の実施例を示すための斜視図、第2図はこの実施例
の側面図である。この浮動ヘッド支持機構は、一枚の磁
気ディスク媒体の両面を挟み込むタイプのものである。
図において、1は負圧利用型浮動へノドスライダ、2は
ジンバルばね、3はサスペンションばね、4は変位拡大
機構部、5は圧電積層セラミックアクチュエータ、6は
磁気ディスク媒体である。変位拡大機構部4は、対向し
て配置された上ビーム8aおよび下ビーム8bと、これ
らビームの長手方向の中間に設けられた支点9とから構
成されている。
ジンバルばね、3はサスペンションばね、4は変位拡大
機構部、5は圧電積層セラミックアクチュエータ、6は
磁気ディスク媒体である。変位拡大機構部4は、対向し
て配置された上ビーム8aおよび下ビーム8bと、これ
らビームの長手方向の中間に設けられた支点9とから構
成されている。
負圧利用型浮動ヘッドスライダ1はジンバルばね2に接
合され、ジンバルばね2はサスペンションばね3の一端
に接合されている。そしてこれら構成要素が一体となっ
た支持装置が、一対となって、サスペンションばね3の
他端により変位拡大機構部4の一端、すなわち上ビーム
8aおよび下ビーム8bの一端にそれぞれ接合されてい
る。変位拡大機構部4の他端には上ビーム8aと下ビー
ム8bをつなぐ形で圧電積層セラミックアクチュエータ
Sが接合されている。この圧電積層セラミ・ツクアクチ
ュエータ5に図示せぬ電圧供給装置より電圧を印加する
ことによって圧電積層セラミ・ツクアクチュエータ5に
変位を生じさせ、その変位は上ビーム8aおよび下ビー
ム8bの他端に作用し、支点9を介したてこの原理によ
り、これらビームの支持装置側の一端を変位させる。す
なわち、アクチュエータ5の変位をてこの原理により変
位拡大機(構部4を介して拡大し、端に取り付けられた
負圧利用型浮動へノドスライダ1をアクチュエートする
ものである。
合され、ジンバルばね2はサスペンションばね3の一端
に接合されている。そしてこれら構成要素が一体となっ
た支持装置が、一対となって、サスペンションばね3の
他端により変位拡大機構部4の一端、すなわち上ビーム
8aおよび下ビーム8bの一端にそれぞれ接合されてい
る。変位拡大機構部4の他端には上ビーム8aと下ビー
ム8bをつなぐ形で圧電積層セラミックアクチュエータ
Sが接合されている。この圧電積層セラミ・ツクアクチ
ュエータ5に図示せぬ電圧供給装置より電圧を印加する
ことによって圧電積層セラミ・ツクアクチュエータ5に
変位を生じさせ、その変位は上ビーム8aおよび下ビー
ム8bの他端に作用し、支点9を介したてこの原理によ
り、これらビームの支持装置側の一端を変位させる。す
なわち、アクチュエータ5の変位をてこの原理により変
位拡大機(構部4を介して拡大し、端に取り付けられた
負圧利用型浮動へノドスライダ1をアクチュエートする
ものである。
負圧利用型浮動ヘッドスライダの持つ特徴としてスライ
ダのセルフローディング作用がある。これはスライダの
潤滑面を磁気ディスク媒体に対して、そのスライダの性
能によっても異なるが、数十ミクロン程度の距離に接近
させると、潤滑面と磁気ディスク媒体との間に発生する
空気層の負圧力のために、移動可能なスライダが磁気デ
ィスク媒体面に対して吸い寄せられ、その結果スライダ
は滑らかにローディングされるものである。
ダのセルフローディング作用がある。これはスライダの
潤滑面を磁気ディスク媒体に対して、そのスライダの性
能によっても異なるが、数十ミクロン程度の距離に接近
させると、潤滑面と磁気ディスク媒体との間に発生する
空気層の負圧力のために、移動可能なスライダが磁気デ
ィスク媒体面に対して吸い寄せられ、その結果スライダ
は滑らかにローディングされるものである。
本実施例の支持機構によれば、先ずスライダ潤滑面と磁
気ディスク媒体面との間の距離が0.11程度となるよ
うに、変位拡大機構部4や圧電積層セラミックアクチュ
エータ5を位置決めしておき、磁気ディスク媒体6が起
動されて十分高速回転となった後に、圧電積層セラミッ
クアクチュエータ5に電圧を加え、得られる数ミクロン
程度の変位を変位拡大機構部4を介しててこの原理によ
って増幅し、負圧利用型浮動へノドスライダ1をセルフ
ローディング可能な位置まで変位させることができる。
気ディスク媒体面との間の距離が0.11程度となるよ
うに、変位拡大機構部4や圧電積層セラミックアクチュ
エータ5を位置決めしておき、磁気ディスク媒体6が起
動されて十分高速回転となった後に、圧電積層セラミッ
クアクチュエータ5に電圧を加え、得られる数ミクロン
程度の変位を変位拡大機構部4を介しててこの原理によ
って増幅し、負圧利用型浮動へノドスライダ1をセルフ
ローディング可能な位置まで変位させることができる。
その後スライダは自己の持つセルフローディング作用に
よって速やかに所定のサブミクロンのt′平揚湯量定常
浮揚する。
よって速やかに所定のサブミクロンのt′平揚湯量定常
浮揚する。
第3図は、本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構の第
二の実施例を示すための斜視図である。
二の実施例を示すための斜視図である。
この浮動ヘッド支持機構は、二枚の磁気ディスク媒体の
間に挿入されるタイプのものである。第3図において、
1は負圧利用型浮動ヘッドスライダ、2はジンバルばね
、3はサスペンションばね、10は変位拡大機構部、5
は圧電@層セラミックアクチュエータである。本実施例
における変位拡大機構部は、支持装置側が互いに近接す
るようにわん曲し、かつ対向して配置された上ビームl
laおよび下ビームllbと、これらビームの長手方向
の中間に設けられた支点9とから構成されている。ビー
ムlla、 llbの近接する側の一端には、負圧利用
型浮動ヘッドスライダl、ジンバルばね2.サスペンシ
ョンばね3が一体となった1対の支持装置がそれぞれ接
合されている。またビームlla、 llbの他端の間
には、第一の実施例と同様に圧電積層セラミックアクチ
ュエータ5が接合されている。
間に挿入されるタイプのものである。第3図において、
1は負圧利用型浮動ヘッドスライダ、2はジンバルばね
、3はサスペンションばね、10は変位拡大機構部、5
は圧電@層セラミックアクチュエータである。本実施例
における変位拡大機構部は、支持装置側が互いに近接す
るようにわん曲し、かつ対向して配置された上ビームl
laおよび下ビームllbと、これらビームの長手方向
の中間に設けられた支点9とから構成されている。ビー
ムlla、 llbの近接する側の一端には、負圧利用
型浮動ヘッドスライダl、ジンバルばね2.サスペンシ
ョンばね3が一体となった1対の支持装置がそれぞれ接
合されている。またビームlla、 llbの他端の間
には、第一の実施例と同様に圧電積層セラミックアクチ
ュエータ5が接合されている。
この第二の実施例におけるヘッドローディングの原理等
は第一の実施例と同様である。
は第一の実施例と同様である。
第4図は、本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構を示
す第三の実施例を示すための斜視図である。第一および
第二の実施例においては一度に2つのへソドスライダを
コーディングするものを示したが、本実施例は1つのヘ
ントスライダをコーディングするものである。第4図に
おいて、1は負圧利用型浮動へソドスライダ、2はジン
バルばね、3はサスペンションばね、12は変位拡大機
構部、5は圧電積層セラミックアクチュエータである。
す第三の実施例を示すための斜視図である。第一および
第二の実施例においては一度に2つのへソドスライダを
コーディングするものを示したが、本実施例は1つのヘ
ントスライダをコーディングするものである。第4図に
おいて、1は負圧利用型浮動へソドスライダ、2はジン
バルばね、3はサスペンションばね、12は変位拡大機
構部、5は圧電積層セラミックアクチュエータである。
本実施例における変位拡大機構部は、ビーム13と、支
点9と、この支点につながり、圧電積層セラミックアク
チュエータ5をビーム13の一端との間に接合するため
の保持部14とから構成されている。ビーム13の他端
には、負圧利用型浮動ヘッドスライダ1.ジンバルばね
2、サスペンションばね3が一体となった支持装置が接
合されている。
点9と、この支点につながり、圧電積層セラミックアク
チュエータ5をビーム13の一端との間に接合するため
の保持部14とから構成されている。ビーム13の他端
には、負圧利用型浮動ヘッドスライダ1.ジンバルばね
2、サスペンションばね3が一体となった支持装置が接
合されている。
この第三の実施例についてもヘッドローディングの原理
については前記第一および第二の実施例と同様である。
については前記第一および第二の実施例と同様である。
以上説明したように、本発明によればヘッドクラッシュ
や吸着といった問題を発生しない負圧利用型浮動ヘッド
支持機構が得られる。
や吸着といった問題を発生しない負圧利用型浮動ヘッド
支持機構が得られる。
第1図は本発明の負圧利用型浮動へ・7上支持機構の第
一の実施例を示す斜視図、 第2図は第一の実施例の側面図、 第3図は本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構の第二
の実施例を示す斜視図、 第4図は本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構の第三
の実施例を示す斜視図、 第5図は従来の浮動ヘッド支持機構を示す斜視である。 1・・・・・・負圧利用型浮動へ7ドスライダ2・・・
・・・ジンバルばね 3・・・・・・サスペンションばね 4、10.12・・変位拡大機構部 5・・・・・・圧電積層セラミックアクチュエータ 6・・・・・・磁気ディスク媒体 8a、 8b・・・・ビーム 9・・・・・・支点
一の実施例を示す斜視図、 第2図は第一の実施例の側面図、 第3図は本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構の第二
の実施例を示す斜視図、 第4図は本発明の負圧利用型浮動ヘッド支持機構の第三
の実施例を示す斜視図、 第5図は従来の浮動ヘッド支持機構を示す斜視である。 1・・・・・・負圧利用型浮動へ7ドスライダ2・・・
・・・ジンバルばね 3・・・・・・サスペンションばね 4、10.12・・変位拡大機構部 5・・・・・・圧電積層セラミックアクチュエータ 6・・・・・・磁気ディスク媒体 8a、 8b・・・・ビーム 9・・・・・・支点
Claims (1)
- (1)空気潤滑面に負圧を発生する機構を有する負圧利
用型浮動ヘッドスライダを支持するジンバルばねと、こ
のジンバルばねを一端において支えるサスペンションば
ねと、このサスペンションばねの他端に一端が接合され
、かつ中間部に支点を有し、てこ作用を行う変位拡大機
構部と、この変位拡大機構部の他端に接合され、電圧を
印加せしめることによって変位を生ずる圧電積層セラミ
ックアクチュエータとを備えることを特徴とする負圧利
用型浮動ヘッド支持機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14133486A JPS62298978A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | 負圧利用型浮動ヘツド支持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14133486A JPS62298978A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | 負圧利用型浮動ヘツド支持機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62298978A true JPS62298978A (ja) | 1987-12-26 |
JPH0555952B2 JPH0555952B2 (ja) | 1993-08-18 |
Family
ID=15289531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14133486A Granted JPS62298978A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | 負圧利用型浮動ヘツド支持機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62298978A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0397173A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-23 | Nec Corp | 磁気ディスク装置 |
JPH0877736A (ja) * | 1994-09-01 | 1996-03-22 | Samsung Electron Co Ltd | 磁気ディスク装置のヘッド浮上制御方法及びそのための装置 |
-
1986
- 1986-06-19 JP JP14133486A patent/JPS62298978A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0397173A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-23 | Nec Corp | 磁気ディスク装置 |
JPH0877736A (ja) * | 1994-09-01 | 1996-03-22 | Samsung Electron Co Ltd | 磁気ディスク装置のヘッド浮上制御方法及びそのための装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0555952B2 (ja) | 1993-08-18 |
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