JPS62298036A

JPS62298036A - 着色光カ−ド

Info

Publication number: JPS62298036A
Application number: JP61139148A
Authority: JP
Inventors: Takashi Wada; 隆和田; Yuji Kondo; 祐司近藤
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1986-06-17
Filing date: 1986-06-17
Publication date: 1987-12-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】３、発明の詳細な説明（産業上の利用分野）本発明は、読み出し可能な光情報パターンが記録された
光カードに関し、更に詳しくは優れた外観、美観および
意匠効果を有する着色光カートに関する。

（従来の技術）従来、テルルやビスマス等の低融点金属の薄膜を基材上
に設け、レーザービーム等を照射して薄膜の一部に変化
を生じさせて記録を行い、記録された＋ＩＩＩＩＩ＋１
を光学的に再生する光記録再生方式が広く利用されてい
る。このような光記録再生方式によれば、記録される情
報密度が従来の磁気方式によるものや近年検討されてい
るＩＣ方式によるものにくらへて飛躍的に高い利点があ
る。

しかし、上記の光記録再生方式においては、レーザービ
ームを使用するので、レーザービームを制御するうえで
高度の技術を必要とし、量産にも不向きである。特に、
発行枚数の多いカード（銀行のキャッシュカード、クレ
ジットカード等のＩＤカードを指−ｆ）への適用を考え
ると、より安価で量産向きの材料および方式が望まれる
。更にこのような光カートの場合には、記録情報を光学
的に再生するうえで、記録部分の汚れや傷付きは記録密
度の高さからも問題となる。

上記の如き問題点を解決するものとして本発明者は以前
に、カード基材、光情報パターンが記録された光反射層
および保護層を有する光カードを提案した。

該カード基材は携帯に際し、使用する際に汚れの付着や
傷付きがなく、高い記録密度を有するものであり、しか
も記録時にはレーザービームを使用することなく充分な
精度の情報が記録され、高蹟度の読み出しが可能な優れ
た光カードである。

（発明が解決しようとしている問題点）上記の本発明者
による光カードは優れた性能を有するものの、光反射層
として主としてアルミニウム等の金属層が使用されてい
ることから、それらの外観はすべて銀色を呈するもので
あり、外観上、美観上あるいは意匠上単調であるという
問題がある。勿論このような光カードの表面に各様の印
刷を施して上記の如き単調性を解消することは可能であ
るが、このような印刷模様の形成を行うには工程が多く
なり経済的ではない。またこのような印刷を行ったとし
ても、このような印刷は光反射層に対する光の入射およ
び反射を妨げるものであってはならないものであるため
、必然的に淡色に着色されなければならず、一方、光カ
ードは常に携帯され、多くの斤擦や衝箪が加わるもので
あるため、印刷模様は容易に摩耗したり、傷が付いたり
してその外観を損なうものである。

従って本発明の目的は、上記の如き問題を生じることな
く優れた外観、美観および意匠効果を有する着色光カー
トを提供することであり、このような本発明の目的は以
下の本発明によって達成された。

（問題点を解決するための手段）すなわち、本発明は、カード基材、光情報パターンが記
録された光反射層および光反射層を保護する保護層の各
層が順に積層されている光カードにおいて、上記光反射
層と保護層との間に着色層が設けられていることを特徴
とする着色光カードである。

次に本発明を更に３Ｔ細に説明すると、本発明者の先行
発明における光カードは、上述の通り種々の利点を有す
るものの、外観や美感上単調であるという欠点は、上記
の光カードの光反射層と保護層との間に着色層を設ける
ことによって解決され、しかも形成される着色層はそれ
自体がすでに保護層によって保護されているため、前述
の如き耐摩耗性等の欠点を生じないものであり、更に予
想外の効果として、このような着色層は当然光反射層へ
の光の入射およびそれからの光の反射を妨げないもの、
すなわち透明着色層であることから、金色その他各種の
色相のメタリック調の外観を示し、光カード自体の外観
、美感および意匠効果が格段に向上し、著しい高級感を
与えることを見出したものである。

以上の如き本発明の着色光カードは、以上の如き基本的
構成を有するかぎりいずれの方法によって作成してもよ
いものであるが、好ましい作成方法の例としては、（１）まず保護層の１例として好ましい透明プラスチッ
クシートまたはフィルムの一方の面に、透明着色層、光
反射層およびフォトレジスト層の各層を順に積層したあ
とに、情報に従って、情報光に露光し、フォトエツチン
グして光反射層に光情報パターンを記録し、次いでこの
ようにして得られた記録済みの積層物の光反射層面にカ
ード基材を積層する方法。

（２）ト記（１）の方法とは逆に、カード基村上に光反
射層と透明に着色したフォトレジスト層を順に積層し、
フォトエツチングして光情報パターンを記録し、次いで
その面に保護層を積層する方法。

（３）ｌ：記（２）の方法において通常のフォトレジス
トを使用し、且つ光情報パターンを記２２　？＆、その
面に着色層を形成する方法。

（４）１記（２）の方法において通常のフォトレジスト
と感光性材料を含む着色層とを別々の層として形成する
方法。

（５）上；ｉａ　（１）〜（４）の方法において、光情
報を記録せずに着色光カードを形成し、しかる後レーザ
ービーム等により光情報パターンを記録する方法。

等が使用できる。

以上の如き方法においては、着色光カードの形成前、形
成中あるいは形成後に保護層の表面に更に良好な耐摩耗
性等を有する表面層を形成することもでき、また光反射
層とカード基材との間に光反射性の低い層を形成したり
、互いに各層の間に接着層やプライマ一層を形成しても
良いのは当然である。

更に上記における着色層は、光反射層部分のみあるいは
光反射層を存する部分を含むカード基材全面にわたって
形成してもよいし、また部分的に形成してもよいし、更
にベタ印刷に限定されず任意の絵柄模様でもよい。

以下、本発明の基本的態様を図解的に示す添付図面に従
って本発明を更に具体的に説明する。

及左二上本発明の着色光カードの構造の一例は第１図に示す通り
であり、下から順に、カード基材１、必要に応じて設け
る接着剤層２、光情報パターン３が記録された光反射層
４１着色層５、光反射層を保護する保護層６、および必
要に応して設ける表面砂化層７とが積層されている。

（カート基材）カード基材１は８ご付層を下側で支えるものであり、必
要に応じて他の記録手段が点されている。

カード基材１の材質は、原則的として通常の磁気方式の
カードと同様でよい。従って、好ましくはポリ塩化ビニ
ル樹脂の硬質のものが使用され、色彩を施したり印刷を
行うため白色のものを使用するのが好ましい。ポリ塩化
ビニル樹脂を選択する理由は格別のものではなく、その
他の合成樹脂も使用できるし、シート状または板状であ
れば他の材質を使用してもよい。また、折り曲げに対す
る抵抗性が要求されれば、金属板や金属網、織布や不織
布を用いて補強するようなことを行ってもよい。

カード基材１に施す光記録手段以外の記録手段としては
、ホログラム、インプリント（エンボスのこと）、顔写
真、彫刻、サイン、ＩＣチップ、バーコード、一般の印
刷等がある。これらは２種以上組み合せてもよい。ある
いは磁気方式のカードとの互換性を考えると磁気記録層
を設けるとよい。

（接着剤層）接着剤層２はカード基材１と上層との間を接着するもの
であり、カード基材と上層との接着性が良好であるとき
は不要である。また、例えば、光情報パターン３が記録
された光反射層４が保護層６よりも形状的に小さければ
、保４層６とカード基材１とか接着することもある。従
って、接着剤層２の接着剤は、カード基材１の材質と光
反射層４の材質、更には通常、保護層６の材質も考慮し
て選択される。接着剤は具体的にエポキシ系、ウレタン
系、アクリル系もしくはシアノアクリレート系等が有用
である。

（光反射層）光反射層４の材質は、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃ０１Ｎｉ、
Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、ＡＩ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｐ
ｂ＋Ｐｄ、ｃｄ、Ｂ１１Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａもしく
はＲｂ等であって、四独、もしくは２種以上組み合せた
合金からなっている。このうちで、光反射性と耐久性の
観点からはＡＩ、Ｃｒ、Ｎｉ、ＡｇもしくはＡｕが好ま
しいものである。

これら、金属もしくは合金の薄膜からなる光反射層４の
厚みは２００人〜１０．０００人であり、より好ましく
は１，０００人〜５，０００人である。

金属もしくは合金の薄＋ａ以外であっても、（イ）シア
ニン等の色素を凝集させて光反射層を与えた薄膜、（ロ
）ニトロセルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、もしくは
ポリエチレン樹脂等の樹脂中に色素もしくは金属粒子を
分散させたもの、または（ハ）樹脂表面に色素もしくは
金属粒子を８Ｉ果させたもの等も光反射層として用いる
ことができる。

光情報パターン３は光反射層４に凹み、あるいは光反射
層４を貫通する孔の集合体からなっており、凹みもしく
は孔（両者を含めてｒピット」と称する）のモ血形状は
円、楕円、長方形、正方形等であり、それらの直径もし
くは長辺の長さで測定する大きさは、通常、２〜２００
μｍ程度であり、隣接する各ビットの中心間距離は通常
５〜５００μｍ程度である。

光反射層４は、第７図に示すように光学的低反射層４ａ
とその上の光学的高反射層４ｂとから成っていてもよい
。

光学的低反射層４ａは光学的高反射層と比較して光の反
射率か低いものであり、望ましくは黒色のものである。

また、表面が粗面状のものも光が乱反射するために低反
射率となるので使用できる。具体的な光学的低反射層は
、光学的濃度の高いインキを用いて印刷法もしくは塗布
法により形成するか、無反射クロムを蒸着するか、また
は着色されたプラスチックフィルムをラミネートするこ
とにより形成する方法が利用できる。あるいはカード基
材の表面が光学的低反射性であれば、別の層の光学的低
反射層４ａを設けなくてもよい。

光学的高反射層は、原則的に単層の光反射層４と同じで
ある。

（着色層）着色層５は、染料もしくは顔料を含む塗料または印刷イ
ンキによって行うのが好ましく、使用できる染料の例と
しては、例えば、下記の如き各種の染料が使用できる。

直接染料、酸性染料、塩基染料、媒染染料、建染染料、
硫化染料、可溶性建染染料、アゾイック染料、反応染料
、カチオン染料、分散染料、酸化染料、金属錯塩染料等
。

ここで使用される染料は、読み出し光が保護層６（およ
び表面硬化層７）に入射し、光反射層４の表面で反射し
て再び出射してくるために、着色層５を２度、光が透過
することになるので、着色層５の光透過率をあまり低下
させず、しかも、層５を曇らせないものであることが望
ましい。光透過率は層５の厚みによっても異なるので、
層５の白色光透過率が５０％以上であることが好ましく
、ヘイズメーターにより測定される曇価が１０％以下の
ものが好ましい。

この他、染料に要求される性能としては、着色層５の材
質、層５の形成方法および層５に対して行なわれる加工
に対する耐久性および情報の読み出し光に対する耐久性
等であり、これらの耐久性がある染料を用いるのが好ま
しい。

上記のような種々の実際的な条件を考慮すると、染料と
しては金属錯塩の形のものが好ましく、例えば、１−２
型アゾ系金属錯塩染料、１−１型アゾ系金属錯塩染料、
金属フタロシアニン系染料、およびこれら染料の有機塩
基塩を挙げることができ、より具体的には次のようなも
のである。パリファーストイエロー＃３１０４および＃
３１０５（いずれもオリエント化学工業社製）、ザポン
ファーストイエローＧＲ（ＢＡＳＦ社製）、アイゼンメ
タロンイエローＧＲＨおよびＧＲＨスペシャルくいずれ
も保土谷化学社製）、アイゼンメタロンイエローＨＮＲ
Ｓ　（保モ谷化学社製）、オラゾールイエロー１１０Ｌ
Ｎ（チバガイギー社製）、パリファーストオレンジ＃３
２０６（オリエント化学工業社製）、ザポンファースト
オレンジＲＥ、ＧおよびＲＲ（いずれもＢＡＳ社製）、
アイゼンスピロンオレンジＧＲＨおよび２ＲＨ（保七谷
化学社製）、パリファーストレッド＃３３０４および＃
３３０５（オリエント化学工業社製）、ネオザポンレッ
トＧＥおよびザポンファーストレッドＧＥ（いずれもＢ
ＡＳＦ社製）、アイゼンスビロンレッドＢＥＨ，ＧＥＨ
およびＧＥＨスペシャル（保土谷化学社製）、オラゾー
ルレッドｒｌＢＬ（チバガイギー社製）、アイゼンスビ
ロンバイオレットＲＨ（保土谷化学社製）、ザポンファ
ーストブルーＨＦＬおよびザポンファーストブラウンＢ
Ｅ（いずれもＢＡＳＦ社製）等。

また、着色層５の着色に使用される顔料は、１１機顔料
と無機顔料に大別される。有機顔料の部類に属するもの
としては、（１）中性型、例えば、ニトロ系顔料、アゾ、ｉ’−顔
料、アントラキノン系顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ジン系顔料等、（２）陽イオン型、例えば、トリフェニルメタン系顔料
、キサンチン系顔料等、（３）陰イオン型、例えばアゾ、ｆ−顔料、トリフェニ
ルメタン系顔料等のものがあり、無機顔料の部類に属するものとしては、コバルト系顔料
、鉄系顔料、クロム系顔料、マンガン系顔料、銅系顔料
、バナジウム系顔料、水銀系顔料、鉛系顔料、硫化物系
顔料、セレン化物系顔料等がある。

上記の顔料についても、染料におけると同様に、光透過
率、曇価、読み出し光の照射時の耐久性等の諸性質に注
意を払う必要がある。特に顔料を使用する際には一般的
に言って透光性が問題になりやすく、顔料の粒子径、周
囲の合成樹脂に対するαれ、分散に関する考慮が必要で
あり、粒子径が大きすぎると透明性が低下し、濡れ、分
散が悪いとのりが生じる。これらの意味で顔料の粒子径
は、ごく小さく、好ましくは光の波長の１７２以下が好
ましく、また、顔料を合成樹脂に対し、共沈法、ロール
ミリング、エクストルージング等で高濃度に分散し、濡
れ、分散を向上させたマスターハツチ、マスターベレッ
ト等を用いることが好ましい。掘れ、分散を向上させた
顔料の例としては、例えば、大成化工社製のシフトラン
スイエロー（ＢＡＳＦ社よりシフトランスし〜２７１５
Ｄとして発売されている微粒子酸化鉄（長径０．０６μ
ｍ、短径０．０２μｍ）の硝化綿チップ化顔料）、大成
化工社製のＨＦチップ４Ｂ（不溶性アゾ系染料の硝化綿
チップ化顔料）を挙げることができる。

以上の如き透明性良好な染料または顔料を含む塗料また
は印刷インキのベヒクルについては保護層や光反射層に
対して良好な接着性を有するものである限り、いずれの
ベヒクルでもよく、従来公知の塗料や印刷インキのベヒ
クルは、いずれも本発明においてそのまま使用できる。

更に、このような染料または顔料は本発明の着色光カー
ドの製造に際して、ホトレジスト中に加えて着色ホトレ
ジストとし、この着色ホトレジストから形成１−るホト
レジスト層に五色層としての機能を基ねさせることもで
きる。

塗料、印刷インキあるいはホトレジストに加える染料ま
たは顔料の量は、形成される着色層が充分な透明性を有
する限り、いずれの量でもよいが、少量すぎると着色効
果が低く、多量すぎると透明性が低下するので、一般的
には０．０５〜１０重量％程度が好ましい。

（保護層）保護層６はカードの状悪では光反射層４を直接保護する
ものである。光反射層を保護する意味では、光反射層４
がカート桟材よりも小さいときには光反射層４の上のみ
に保護層があれば足りる。

しかし、カード表面は平坦なことが望ましいし、光反射
層４がない部分も保＝舊層が必要なことがある。従って
、保護層は着色光カードの大きさと同一であることが望
ましい。

保護層６に要求される特性は透明性が高いこと、平滑で
あることおよび厚みムラのないことである。

最も好ましい保護層の一例として、ポリカーボネート樹
脂やポリエステル樹脂のフィルムが挙げられ、この場合
の厚みは数μｍ〜８００μｍ程度である。

この他に好ましい保護層の例としては、セルロース系樹
脂（例えば、セルローストリアセテート樹脂）、ポリメ
チルメタクリレート樹脂等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等のポリイミド系
樹脂もしくはポリメチルペンテン樹脂等の樹脂のフィル
ムがある。

）二足以外であっても、ビニル系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂
もしくはポリアミド樹脂等も使用できる。

または、樹脂以外の材料であっても、必要な性能を持っ
ているならば使用でき、例えば、カラス、セラミックス
、紙、プラスチックフィルム、ｂｉｌＩｉ、不織イ１１
等を挙げることかできる。しかし、種々の条件を満たす
点ては樹脂のフィルムおよびガラスが好ましい。

保護層６の表面および裏面あるいはいずれか片面には、
それらの面に積層する他の層との接着力を向４−させる
。α味で、コロナ放電処理、プラズマ処理等の物理的な
処理、あるいは酸による酸化処理やブライマー処理等の
化学的な処理を必要に応じて行うとよい。

更に保護層の表面および裏面あるいはいずれかの面には
、下層の光情報パターンの再生に支障がないか限り、印
刷層を施してもよい。

（表面硬化層）表面硬化層７は着色光カードの記録部分である光反射層
４上の最表面の硬度を高め、カードの携帯時や使用時に
おける傷つき、傷つきに伴ない傷の中に汚染物質がつま
ることを防止するものであり、着色光カードの耐久性、
記録（書き込み）精度、再生（読み取り）精度を向上さ
せる。この表面硬化層は保護層が充分な耐摩擦性等の物
性を（工するものである時は不要であるが、一般に保護
層は熱可塑性樹脂から形成する場合が多いので、このよ
うな表面硬化層を形成するのが好ましい。

表面硬化層７の材質としては、保護層６の特性を低下さ
せない限り、表面硬化方法として知られている方法で使
用される物質が用いられる。

例えば、シリコーン系、アクリル系、メラミン系、ポリ
ウレタン系、エポキシ系等の硬化樹脂、Ａｌ２Ｏ：ｌや
５ｉ０２等の金属酸化物、もしくはプラズマ重合による
重合１１Ｑが表面硬化層７の具体的材質として挙げられ
る。一般に硬化した膜は傷つきにくく、従って傷の部分
に汚れが詰まることがなく、また、化学的に不活性であ
るので表面に汚れが付着しにくく、付着しても除去が容
易である。

以上に説明したように、本発明の着色光カードは、カー
ド基村上もしくは保護層下に着色層および光記録部分を
有している方が製造上の便があるが、着色層および光記
録部分を別の基材上に設け、その後、カード基材を保護
層の間にはさんで、上下いずれの側も接着剤を介して積
層した構造としてもよい。

ごカードの　′告　゛の１本発明の着色光カードの製造方法において使用する材料
は、特に断わらない場合は、今まで説明したものと同じ
である。

着色光カードの製造方法の１例は、前記したような各工
程を含むものである。製造方法の１例は更に要約すれば
、保護層側に着色層と光反射層とを設けて光情報パター
ンを形成し、その下側にカード基材を貼り合せるもので
ある。

（表面硬化層の形成）保護層６の片面に必要に応じて表面硬化層７を形成する
には、表面硬化層７の材質に合せた方法を利用する。硬
化樹脂の層を形成するには、通常の塗布方式を利用する
。金属酸化物の層を形成するには、スパッタ等で金属酸
化物の層を形成する方式か、金属の層を蒸着等で形成し
た後に酸化する方式を利用する。

（着色層の形成）着色層の形成は、前記着色層の項で述べた着色塗料、印
刷インキあるいは着色ホトレジストを保護層の表面に、
例えば、グラビア印刷、シルクスリーン印刷、オフセッ
ト印刷、グラビアオフセット印刷、ロールコーティング
法、ダイコーティング法、ナイフコーティング法、スピ
ナー法等任怠の慣用手段により全面、部分的あるいは絵
柄状に９　ＩＩ＋あるいは印刷し、次いで適当な温度お
よび時間乾燥することによって形成される。これら着色
層の厚みは、充分な透明杆を保持できる限り、いずれの
厚みでもよいが一般的には０．１〜５０μｍ程度である
。

（光反射層の形成）着色層の面に、記録部である光反射層４を形成する。金
属もしくは合金の光反射層４の形成は、通常、スパッタ
、真空蒸着、イオンブレーティング、もしくは電気メッ
キ等の方式による。なお、光反射層４を設けない部分に
は、適宜な印刷を施しておいてもよい。

（フォトレジスト層の形成）光反射層４の上に、光反射層４をフォトエツチングする
ためのフォトレジスト層８を形成する。

光反射層４が着色層５の一部に形成されているときは光
反射層４の上のみにフォトレジスト層８があれば充分で
あるが、面倒であれば、光反射層がない部分も含めて全
面にフォトレジスト層を形成してもよい。

フォトレジスト層形成のための材料（この材料をフォト
レジストと称する）としては、（イ）ジアゾニウム塩も
しくはアジド化合物を含む光分解型感光性樹脂、（ロ）
シンナモイル系、ジアゾ系、アジド系もしくはアクリロ
イル系等の光架橋性感光性樹脂、（ハ）アクリル酸エス
テル、アクリルアミド等の光重合型感光性樹脂が使用さ
れる。

具体的に使用できる市販のフォトレジストとしては次の
ようなものがある。

ネガ型のフォトレジストとして、イーストマンコダック
製のＫＰＲ，にＯＲ％ＫＡＲ−３、ＥＭＥＲ，ＫＴＦＲ
，ＫＭＲ，ハントケミカル製のウェイコート（ＷＡＹＣ
ＯＡＴ）、富士薬品製のＦＳＲ１ＦＰＥＲ％ＦＶＲ−Ｇ
、ＦＵＲ，ＦＲ，東京応化工業製のＴＰＲ，ＦＰＰＲ，
ＯＭＲ，Ｇ−９０，０３Ｒ１ＯＴＥＲ，０ＮＮＲ，ノン
クロン（ＮＯＮＣＲＯＮ）、ノーラント製のＮＲＲ−２
９、東し製のフォトニースＶＲ−３０００、上野化学製
のコムシスト（ＣＯＭＳＩＳＴ）、白木合成ゴム製のＣ
ＩＲ−７０１、ＣＢＲ−Ｍ等が挙げられる。

ポジ型のフォトレジストとして、シブレー製のマイクロ
ポジットシリーズ、ヘキストジャパン製のＡＺ−４００
０、ハントケミカル製のウェイコートＨＲＰ、同ＭＰＲ
，ＬＳＩ−１９５、東京応化工業製の０ＨＰＲ１ＯＦＰ
Ｒ、イーストマンコダック製のにＭＰＲ−８０９、ＭＰ
Ｒ−８２０、富士薬品製のＦＰＰＲ−７０等が挙げられ
る。

ドライフィルム型のものとしては、デュポン製のリスト
ン、日東電工製のネオドロック、ダイナケミカル製のラ
ミナー、大目化工製のニューセリトン、ジアゾセリトン
、エビコンスラップフィルム、日立化成製のフォテック
、富士薬品製のフジスクリーンフィルム等が挙げられる
。

その他、重クロム酸塩感光液である卵白、カゼイン、グ
リユー、ポリビニルアルコールもしくはシュラツク等を
含むものが挙げられる。

フォトレジスト層８は、フォトレジストを用い、公知の
塗布方法、例えば、かけ流し法、ホイーラー法、スピン
ナー法、浸漬法、ローラーコート法、スプレィ法、静電
スプレィ法等またはドライフィルムの場合には加熱圧着
法により光反射層上に形成する。フォトレジスト層の厚
みは通常、０．５〜５．０μｍである。

フォトレジスト層８は通常、ブリベーキングと称する加
熱を行っておくのが好ましい。

（フォトエツチング）保護層６上の光反射層４をフォトレジスト層８を利用し
てフォトエツチングし、光反射層４に光十青報パターン
を記録する。フォトエツチングの工程を詳しく云うと、
フォトレジスト層に光＋Ｉｌｔ報パターンを露光し、次
いで現象してレジストパターンを形成し、その後、腐食
液を用いて光反射層のフォトレジスト層８がない部分を
腐食して光情報パターンを光反射層に形成するものであ
る。

光情報パターンの露光は写真フィルム、金属マスク等の
パターン９を介して紫外線１０等を照射することにより
行うのが簡易である。この他、金属マスクを介して電子
線を照射する方法によって行ってもよいし、あるいは、
パターンを使わず電子線をパターン状に走査して露光を
行ってもよい。

現象は露光により形成された溶解可能な部分を溶剤で溶
解し除去することであり、所定の現像液を用いて行われ
る。現像により、フォトエツチングすべき部分の光反射
層の上部のフォトレジスト層がパターン状に除去されて
露出部分１１が形成される。

現像後、腐食液を用いて、フォトレジスト層で被覆され
ていない部分の光反射層を腐食して、光反射層にビット
１２の集りからなる光情報パターンを形成する。

光情報パターン形成後、残っているフォトレジスト層を
必要があれば除去する。

なお、保護層の一方の面に必要に応じて表面硬化層を形
成する工程と、保＝舊層の他方の面に着色層、光反射層
、フォトレジスト層を積層してフォトエツチングにより
光情報パターンを記録する工程とは互いに関係がないか
ら、こわらの２工程は順不同に行ってよい。

（貼り合わせ）光情報パターンが記録された光反射層、着色層および表
面硬化層とを有する保護層をカード基材上に接着剤を用
いて貼り合わせる。

貼り合わせの際には保護層の表面硬化層側を上面とし、
保護層の下面とカード基材とを貼り合わせる。このよう
にすることにより保護層の下面側の着色層および光反射
層は着色光カードの内部に位置することになるから、直
接手で触れたり、書き込みや読み取りの機器と触れるこ
とがなく、保護される。

貼り合わせは、接着剤を、接着される両面のどちらか一
方か両方に塗り、必要に応じてオーブンタイムを取った
後、重ね合わせ、平プレスかロールプレス等の加圧手段
１３により、必要に応じて加熱しながら加圧し、密に接
着させる。

なお、着色光カードを所定の形状、大きさにするときは
、予め保護層やカード基材をその形状、大きさにしてお
くか、或いは所定よりも大きめにしておき、貼り合せた
後、打ち抜きや裁断を行えばよい。

゛カードの浩　１の他の倖着色光カードの製造方法の他の例は、前記した各工程を
含むものであり、更に要約すれば、着色光カードのカー
ド基材上に光反射層および着色層を設けて光情報パター
ンを形成し、その上に保護層を貼り合わせるものである
。７色層は上記に代えて保護層の光反射層に対向する面
に形成しておいてもよい。

この例では、光反射層を光学的高反射層と光学的低反射
層との２層構成とした例として説明する。この例ではカ
ード基材上に光学的低反射層４ａと光学的高反射層４ｂ
とを順に設ける工程が異なる以外、個々の工程自体は前
記製造方法の１例と同じである。

まず、保護層６の上面に必要に応じて表面硬化層７を形
成する。

これとは別に、カード基材１を準備し、その上に光学的
低反射層４ａを設ける。光学的低反射層４ａの材質によ
って、印刷法、塗布法、蒸着、もしくはラミネート等の
方法が利用される。

次に光学的低反射層４ａのうえに光学的高反射層４ｂを
設ける。光学的高反射層は、前記した製造方法の１にお
けるのと同様にして形成でき、例えば、スパッタ、真空
蒸着、イオンブレーティングもしくは電気メッキ等の方
式によって行う。

光学的高反射層のうえに前記の如き着色剤を含む着色ま
たは未着色のフォトレジスト層８を形成し、フォトエツ
チングし、光学的高反射層に光情報パターンを記録する
。フォトレジスト層が着色されていることを除き、フォ
トレジストの形成、フォトエツチング、光情報パターン
の形成工程は前記製造方法の１例と同じである。着色フ
ォトレジスト層は、光情報パターンの形成後、そのまま
残すことになる。また、着色層は、フォトエツチング後
に光反射層面に形成してもよい。

表面硬化層７を有してもよい保護層６と、光学的低反射
層４ａおよび光学的高反射層４ｂ（光情報パターン記録
済）とを有するカード基材とを着色層と保２ｆｉ層６と
の間で接着剤を用いて貼り合わせる。貼り合わせの工程
自体は前記製造方法の１例と同じである。接着剤として
は前記したものが使用できるが再生光の透過度の高いも
のを使用することが好ましい。保護層の接着面に予め前
記製造例の一例におけると同様に着色層を形成しておい
た場合は、フォトレジストが着色フォトレジストである
ことは必ずしも必要ではない。

以上は本発明の着色光カードの好ましい製造例の説明で
あり、本発明の着色光カードは上記の製造方法に限定さ
れず、例えば、光情報パターンを記録前の着色光カード
を形成し、これにレーザービーム等で光情報パターンを
記録して本発明の着−色光カードとしてもよいものであ
る。

（発明の作用・効果）本発明の着色光カードは、保護層があるため、１１）き
込みや読み取りのために絞った光ビームは、最表面で焦
点を結ぶ必要がなく、光反射層面で焦点を結べばよいか
ら、表面の傷つきや汚れがあっても、傷や汚れの周囲か
ら光ビームが入射できれば、書き込みや読み取りが可能
になる。

また、本発明の好ましい製造方法によれば、レーザービ
ームを用いて記録しなくてもよいから、レーザービーム
利用に関する高度な技術は不要であり、一度に多数枚の
露光、現象、フォトエツチングを行えば量産性も優れて
いるし、フォトエツチングが可能な光反射層としては、
従来のレーザービーム記録可能な光反射層にくらべて、
光反射率や耐久性の優れたものを使用できる利点もある
。

また、本発明の着色光カードは保護層と光反射層との間
に透光性の着色層が全面的にあるいは任意の図柄で形成
されているので、従来の如き単なる銀色の外観を有する
のではなく、任意の色相の外観を与えることができ、且
つこの着色層は透光性であることから、下地の金属光沢
が生かせてゴールド色等いずれも非常に優れた金属光沢
の着色層となり、光カードの外観、視感、意匠性等が改
善され一層高級感を与えることができる。またこのよう
な着色層は、着色光カードの最表面に存在するのではな
く、保護層（および表面硬化層）の下に形成されている
結果、使用時のＰｊ擦や衝槃によって何等損なわれるこ
とがない利点を有している。

実施例ＩＪｒ、７み１７５μｍのポリエステルフィルム（保護層
）の表面に、マレイン酸系樹脂を主材とするバインダー
中に黄色の透明性顔料を分散させた着色インキをグラビ
アコート法により、乾燥時膜厚１．０μｍの厚みに塗布
および乾燥し、黄色の着色層を形成した。

次に着色層上に、真空蒸着法によりｌＸｌ０−５Ｌｏｒ
ｒの条件で０．１μｍの厚みのアルミニウム蒸着を行っ
た。更に上記のアルミニウム蒸着面にフォトレジスト（
シブレイ製、マイクロポジット１３００−２７）をスピ
ナー法にて１．０μｍの厚みに塗布し、９０℃で２５分
間加熱処理した。

次にこのようにして形成されたフォトレジスト塗布面と
、１個の大きさが縦１５μｍ、横５μｍのドツトをピッ
チ１５μｍで並べて列とし、列間ピッチ２０μｍの配列
でドツト部が光透過するようにパターンが形成されたフ
ォトマスクのマスク面とを密着させ、フォトマスク側か
ら超高圧水銀灯（３にＷ　距離ｉｍ）で５秒間露光した
。

次いで上記のようにしてパターン露光されたポリカーボ
ネートフィルム上のフォトレジスト層をレジスト現像液
（シブレイ製）に６０秒間浸漬し水洗した後に、下記組
成のアルミニウムエツチング液に９０秒間浸漬し、その
後、水洗、乾燥してアルミニウム薄膜上にパターンを有
するパターンフィルムを得た。

アルミニウムエツチング液リン酸　１級（８５％）　　　　１６容量部酢酸　１級
　　　　　　　２　〃硝酸　１級　　　　　　　１　〃純水　　　　　　１〃一方、カード基材は以下の様に作成した。まず、白色硬
質ポリ塩化ビニルフィルム（厚さ１５０μｍ）の両面に
文字および図案のパターンをスクリーン印刷法により設
け、別の透明硬質ポリ塩化ビニルフィルム（厚さ１００
μｍ）の片面の表の一部に磁気記録層を巾６．５ｍ＋＋
ｍで設け、その裏面と一ヒ記印刷済みの白色硬質ポリ塩
化ビニルとを重ねて、ステンレス板二枚にはさみ、プレ
ス機にて１４０℃の温度で３０分間加熱加圧してカード
基材を得た。

上記のようにして作製したパターンフィルムとカード基
材をパターンフィルムのパターン面とカード基材の白色
硬質ポリ塩化ビニル樹脂フィルムの印刷面とを、エポキ
シ系樹脂（日本ベルノックス製ベルノックスＭＧ１５０
とベルキュアＨＹ３０６の１０対４混合物）を介して重
ね合わせ、ロールなどにより圧着した。圧着後２４時間
放置し、打ち抜き金型により打抜き、本発明の着色光カ
ードを得た。このようにして得られた着色光カートは保
護層側から情報の読み出しが可能であり、しかも情報が
記録されているアルミニウム薄１漠の部分の金属光沢が
着色層を通して見えるため、光輝性の高い金色の視感を
呈し甚だ高級感を与えた。また、このような着色層は、
保護層の下に存在するため、カード表面が摩擦されたり
、衝Ｓを受けても何等着色性が低下しないものであった
。

実施例２実施例１において、ポリエステルフィルムの着色層の反
対の面に下引き処理剤（信越化学製、ブライマーＰＣ−
４）をグラビア法にて塗布し、次にその上にシリコーン
系表面硬化剤（信越化学製、Ｘ−１２−２１５０（Ａ）
とＸ−１２−２１５０（Ｂ）の１０：１混合物）をグラ
ビア法にて塗布し、１００℃で３０分間加熱して表面硬
化層を形成した。以下実施例１と同様にして本発明の着
色光カードを得た。この着色カードは実施例１のカード
と同様の読み出し性、外観を有するとともに、表面の耐
摩擦性や耐衝５性が一層向上しているものであった。

実施例３縦、横共５ｃ＋＋＋、厚み２５０μｍのカーボンブラッ
ク練り込みポリエチレンテレフタレートフィルムを基材
とし、その上に真空蒸着法により厚み０．１μｍのアル
ミニウム層を形成した。

得られたアルミニウム層上にポジ型フォトレジスト（シ
ブレイ社製、ＡＺ−１３５０Ｊ）を透明性の高い赤色染
料で着色したものをスピンナーコート法により塗布し、
直径５μｍの円が１０μｍ間隔で縦横に配列されたパタ
ーンを有する原版を１＝ｌ（原寸）で露光し、所定の現
像液で現像し、レジストパターンを形成し、続いてリン
酸（Ｈ：ｌ　ＰＯ４）の１０％水溶液を６０℃に加熱し
たエツチング液でエツチングし、エツチング部分の下層
の黒色層を露出させて、情報記録部を形成した。

一方、保護層は以下の様に作成した。まず、ポリカーボ
ネートフィルム（厚さ５００μｍ）の片面に紫外線硬化
表面硬化剤（藤倉化成ＨＱ５接着剤層Ｕ）をロールコー
ト法にて塗布し、紫外線照射により硬化して表面硬化層
を形成した。上記のポリカーボネートフィルムの裏面に
後に貼合わせされる、情報記録部が密着される部分を除
いた面に、文字および図案のパターンをスクリーン印刷
法により設け、印刷面側と上記情報記録媒体の情報記録
部側とをウレタン系樹脂（アルプス化学産業製アルポン
ＥＵ４２０１とアルポンＥＨＸ４２０１の１０対１混合
物）を介して重ね合わせ、ロールプレスにより圧着した
。

圧着後２４時間放置し打ち抜き金型により打抜き、本発
明の着色光カードを得た。このようにして得られた着色
光カードは保護層側から情報の読み出しが可能であり、
しかも情報が記録されているアルミニウム薄膜の部分の
金属光沢が着色層を通して見えるため、光輝性の高い赤
色の視感を呈し甚だ高級感を与えた。また、このような
着色層は、保護層の下に存在するため、カード表面が摩
擦されたり、衝撃を受けても何等着色性が低下しないも
のであった。

【図面の簡単な説明】

第１図および第７図は光カードを示す断面図、第２図〜
第６図は光カードの製造方法を示す断面図である。１−＝−一カード基材２−−−−−−−接着剤層３−−−−−一光情報パターン４−−−−一光反射層Ｓ　−−−−−着色層６−−−−一保＝五層７−−−−−−−表面硬化層特許出願人　　大日本印刷株式会社第１図第２図第３図第５図第６図第７図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）カード基材、光情報パターンが記録された光反射
層および光反射層を保護する保護層の各層が順に積層さ
れている光カードにおいて、上記光反射層と保護層との
間に着色層が設けられていることを特徴とする着色光カ
ード。
（２）保護層の上面に表面硬化層が形成されている特許
請求の範囲第（１）項に記載の着色光カード。
（３）着色層が光透過性である特許請求の範囲第（１）
項に記載の着色光カード。