JPS62292358A - 浮動形磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
浮動形磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62292358A JPS62292358A JP61134190A JP13419086A JPS62292358A JP S62292358 A JPS62292358 A JP S62292358A JP 61134190 A JP61134190 A JP 61134190A JP 13419086 A JP13419086 A JP 13419086A JP S62292358 A JPS62292358 A JP S62292358A
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- surface plate
- polishing
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- abrasive grains
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/048—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録再生用装置に用いられる、浮動形磁
気ヘッドの製造方法に関するものである。
気ヘッドの製造方法に関するものである。
本発明は、磁気記録媒体表面上に浮上するための一対の
浮動面を有する、浮動磁気ヘッドにおいてその浮動面の
最終ポリッシングにおいて、ポリッシング定盤に遊離砥
粒を埋め込み、固着し、希釈液のみで、ポリッシングす
ることを特徴とする浮動形磁気ヘッドの製造方法で、磁
気記録媒体表面にコンタクトスタートストップ（以下Ｃ
３Ｓと呼ぶ）時に接する浮動面の面粗さ及び平坦度を小
さくし、ＣＳＳ特性を向上させるとともに、磁気ギャッ
プ部と浮動面との段差を小さくし、録再特性を向上させ
るものである。
浮動面を有する、浮動磁気ヘッドにおいてその浮動面の
最終ポリッシングにおいて、ポリッシング定盤に遊離砥
粒を埋め込み、固着し、希釈液のみで、ポリッシングす
ることを特徴とする浮動形磁気ヘッドの製造方法で、磁
気記録媒体表面にコンタクトスタートストップ（以下Ｃ
３Ｓと呼ぶ）時に接する浮動面の面粗さ及び平坦度を小
さくし、ＣＳＳ特性を向上させるとともに、磁気ギャッ
プ部と浮動面との段差を小さくし、録再特性を向上させ
るものである。
従来の浮動形磁気ヘッドの製造方法は、第８図に示す如
く、ポリッシング定盤上１に遊離砥粒とポリッシング用
希釈液を混合したランプ液２を塗布する。ラップ冶具１
７に浮ｅＪ形磁気へラド９の浮動面をポリッシング定盤
１に接するように取付け、ラップ治具１７をガイド治具
５に位置を決めセットする。ポリッシング定悠１を回転
させ（回転数は５０〜？Ｏｒｐｍ）ラップ治具１７は、
ポリッシング定ｕｌの外周速度と内周速度の差により回
転しランプ及びポリッシングされる。浮動形磁気ヘッド
の浮動面もこの方法が一般的である。
く、ポリッシング定盤上１に遊離砥粒とポリッシング用
希釈液を混合したランプ液２を塗布する。ラップ冶具１
７に浮ｅＪ形磁気へラド９の浮動面をポリッシング定盤
１に接するように取付け、ラップ治具１７をガイド治具
５に位置を決めセットする。ポリッシング定悠１を回転
させ（回転数は５０〜？Ｏｒｐｍ）ラップ治具１７は、
ポリッシング定ｕｌの外周速度と内周速度の差により回
転しランプ及びポリッシングされる。浮動形磁気ヘッド
の浮動面もこの方法が一般的である。
しかし、前述の技術では、第４図に示す浮動ヘッドの浮
動面工０の一方が第５図に拡大して示す様に融着ガラス
１１、フェライトコアチップ１２、セラミックス１３の
複合材料で形成されている浮動面は、フェライトコアチ
ップ１２、セラミックス１３より柔かい融着ガラス１１
にポリッシング時に段差が発生する。また、第６図に示
す薄膜浮動ヘッドの浮動面ｌＯにおいても、第７図に拡
大して示す様にアルミナチタンカーバイド１４と酸化シ
リコン１５とパーマロイ１６の異種材料で形成されてい
るため柔かい酸化シリコン及びパーマロイに段差が生し
る そこで、本発明はこのような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、ｃｓｓ！ｌＩ性が良い磁気ヘ
ッドを得るとともにギャップ段差を小さくすることによ
り録再特性の向上を図るものである。
動面工０の一方が第５図に拡大して示す様に融着ガラス
１１、フェライトコアチップ１２、セラミックス１３の
複合材料で形成されている浮動面は、フェライトコアチ
ップ１２、セラミックス１３より柔かい融着ガラス１１
にポリッシング時に段差が発生する。また、第６図に示
す薄膜浮動ヘッドの浮動面ｌＯにおいても、第７図に拡
大して示す様にアルミナチタンカーバイド１４と酸化シ
リコン１５とパーマロイ１６の異種材料で形成されてい
るため柔かい酸化シリコン及びパーマロイに段差が生し
る そこで、本発明はこのような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、ｃｓｓ！ｌＩ性が良い磁気ヘ
ッドを得るとともにギャップ段差を小さくすることによ
り録再特性の向上を図るものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明による、浮動形磁気ヘッドの製造方法は磁気記録
媒体表面上に浮上するための一対の浮動面を有する浮動
形磁気ヘッドにおいて、該浮動面の最４冬ポリッシング
において、ポリッシング定盤に遊離砥粒を埋め込み、固
着し、希釈液のみでポリッシングすることを特徴とする
。
媒体表面上に浮上するための一対の浮動面を有する浮動
形磁気ヘッドにおいて、該浮動面の最４冬ポリッシング
において、ポリッシング定盤に遊離砥粒を埋め込み、固
着し、希釈液のみでポリッシングすることを特徴とする
。
第１図は、本発明の実施例を示す要部の断面図である。
ポリッシング定ｕｌ（ｔＩＩ定盤、スパイラル溝付）上
に遊離砥粒ポリッシング液２ （ダイヤモンドバラグー
φｌμ、φ０．５μｍ％濃度ポリッシング液）を塗布し
修正リング３をガイド冶具５にセントする。修正リング
３のポリッシング定盤上の接触面は脱落の起きないフェ
ライト等のセラミックス４を用い、修正リング４のポリ
ッシング定盤１に接触する面の外周にリング状に、取付
けたものを使用する。ポリッシング定ｉ１を回転させポ
リッシング定盤ｌ上に遊離砥粒を埋め込む、ポリッシン
グ定盤は錫、鉛等の遊離砥粒の抱きやすい材質が最適で
ある。ポリッシング定盤１の回転数は５０から７０ｒｐ
ｍで時間は１ｏ分から３０分の均（なら）し回転で充分
である。その後第２図に示すように、ポリッシング定ｕ
ｌ上の遊離砥粒を拭き取る。洗剤及び水６で洗い流し、
水気はクリーンエア等で除去するとポリッシング定盤ｌ
上面には遊離砥粒が固着した状態が得られる。
に遊離砥粒ポリッシング液２ （ダイヤモンドバラグー
φｌμ、φ０．５μｍ％濃度ポリッシング液）を塗布し
修正リング３をガイド冶具５にセントする。修正リング
３のポリッシング定盤上の接触面は脱落の起きないフェ
ライト等のセラミックス４を用い、修正リング４のポリ
ッシング定盤１に接触する面の外周にリング状に、取付
けたものを使用する。ポリッシング定ｉ１を回転させポ
リッシング定盤ｌ上に遊離砥粒を埋め込む、ポリッシン
グ定盤は錫、鉛等の遊離砥粒の抱きやすい材質が最適で
ある。ポリッシング定盤１の回転数は５０から７０ｒｐ
ｍで時間は１ｏ分から３０分の均（なら）し回転で充分
である。その後第２図に示すように、ポリッシング定ｕ
ｌ上の遊離砥粒を拭き取る。洗剤及び水６で洗い流し、
水気はクリーンエア等で除去するとポリッシング定盤ｌ
上面には遊離砥粒が固着した状態が得られる。
第３図は、以上のようにして得られたポリッシング機械
定盤の断面図である。この遊離砥粒が固着したポリッシ
ング定盤７上に希釈液８を塗布し、浮動形磁気へソド９
の浮動面を５分から３０分間ポリッシング定盤７を回転
させ、ポリッシングする０回転数は４０ｍから７Ｑｍｒ
ｐｍがよい、以上の方法で浮動形磁気ヘッドの浮動面の
面粗度の少ない、段差の少ない浮動面が得られる。本発
明の方法と従来の方法のポリッシングの比較をすると複
合材料の段差は従来の１／２以下に、また面粗度におい
てはφ１μの砥粒ポリ、シングでφｌ／４μ砥粒ポリ、
シングの水率に入れることができる。Ｃ８Ｓ特性におい
ても倍以上の良好な結果が得られる。
定盤の断面図である。この遊離砥粒が固着したポリッシ
ング定盤７上に希釈液８を塗布し、浮動形磁気へソド９
の浮動面を５分から３０分間ポリッシング定盤７を回転
させ、ポリッシングする０回転数は４０ｍから７Ｑｍｒ
ｐｍがよい、以上の方法で浮動形磁気ヘッドの浮動面の
面粗度の少ない、段差の少ない浮動面が得られる。本発
明の方法と従来の方法のポリッシングの比較をすると複
合材料の段差は従来の１／２以下に、また面粗度におい
てはφ１μの砥粒ポリ、シングでφｌ／４μ砥粒ポリ、
シングの水率に入れることができる。Ｃ８Ｓ特性におい
ても倍以上の良好な結果が得られる。
（発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、遊離砥粒をポリッ
シング定盤に埋め込んで、希釈液のみでポリッシングす
ることにより浮動面の平坦度及び表面粗さを小さくでき
、Ｃ８Ｓ特性の非常に良いヘッドが得られるとともに、
ギャップ部の段差を微小にできるので、録再特性が向上
するという効果を有する。
シング定盤に埋め込んで、希釈液のみでポリッシングす
ることにより浮動面の平坦度及び表面粗さを小さくでき
、Ｃ８Ｓ特性の非常に良いヘッドが得られるとともに、
ギャップ部の段差を微小にできるので、録再特性が向上
するという効果を有する。
第１図、第２図は本発明の製造方法の実施例を示す主要
部断面図。第３図は本発明のポリッシング機械の定盤主
要部の断面図、第４図、第５図、第６図、第７図は本発
明の製造に使用される浮動形（ｎ気ヘノドの斜視図、第
８図は、従来のポリッシング機械の斜視図。 １・・・・・・ポリッシング定盤 ２・・・・・・遊離砥粒ポリッシング液３・・・・・・
修正リング ４・・・・・・セラミックス ５・・・・・・ガイド治具 ６・・・・・・水 ７・・・・・・遊離砥粒が固着したポリッシング定盤８
・・・・・・希釈液 ９・・・・・・浮動形磁気ヘッド ｌＯ・・・・・・浮動面 １１・・・・・・融着ガラス １２・・・・・・フェライトコアチップ１３・・・・・
・セラミックス １４・・・・・・アルミナチタンカーバイド１５・・・
・・・５ｉｎ２ １６・・・・・・パーマロイ １７・・・・・・ラップ治具 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 最 上 務 他１名じ１ １１ 図 憧 ↑隠 塾 ４ 回 多 ５ 鎚
部断面図。第３図は本発明のポリッシング機械の定盤主
要部の断面図、第４図、第５図、第６図、第７図は本発
明の製造に使用される浮動形（ｎ気ヘノドの斜視図、第
８図は、従来のポリッシング機械の斜視図。 １・・・・・・ポリッシング定盤 ２・・・・・・遊離砥粒ポリッシング液３・・・・・・
修正リング ４・・・・・・セラミックス ５・・・・・・ガイド治具 ６・・・・・・水 ７・・・・・・遊離砥粒が固着したポリッシング定盤８
・・・・・・希釈液 ９・・・・・・浮動形磁気ヘッド ｌＯ・・・・・・浮動面 １１・・・・・・融着ガラス １２・・・・・・フェライトコアチップ１３・・・・・
・セラミックス １４・・・・・・アルミナチタンカーバイド１５・・・
・・・５ｉｎ２ １６・・・・・・パーマロイ １７・・・・・・ラップ治具 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 最 上 務 他１名じ１ １１ 図 憧 ↑隠 塾 ４ 回 多 ５ 鎚
Claims (1)
- 磁気記録媒体表面に浮上するための一対の浮動面を有す
る、浮動形磁気ヘッドの製造方法において、該浮動面の
最終ポリッシングにおいて、ポリッシング定盤に遊離砥
粒を埋め込み、固着し、希釈液のみでポリッシングする
ことを特徴とする、浮動形磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61134190A JPS62292358A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 浮動形磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61134190A JPS62292358A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 浮動形磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62292358A true JPS62292358A (ja) | 1987-12-19 |
Family
ID=15122538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61134190A Pending JPS62292358A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 浮動形磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62292358A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312081A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-21 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH06176519A (ja) * | 1992-08-19 | 1994-06-24 | Komag Inc | 磁気記録ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| US7964541B2 (en) | 2005-03-08 | 2011-06-21 | Tokuyama Corporation | Lubricant composition for polishing a magnetic head with fixed abrasive grains |
-
1986
- 1986-06-10 JP JP61134190A patent/JPS62292358A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312081A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-21 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH06176519A (ja) * | 1992-08-19 | 1994-06-24 | Komag Inc | 磁気記録ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| US7964541B2 (en) | 2005-03-08 | 2011-06-21 | Tokuyama Corporation | Lubricant composition for polishing a magnetic head with fixed abrasive grains |
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