JPS62287426A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS62287426A JPS62287426A JP13034886A JP13034886A JPS62287426A JP S62287426 A JPS62287426 A JP S62287426A JP 13034886 A JP13034886 A JP 13034886A JP 13034886 A JP13034886 A JP 13034886A JP S62287426 A JPS62287426 A JP S62287426A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の詳細な説明
「産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に係り、特
に非磁性基板上にコバルトを主成分とする強磁性金属層
を設けた磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
に非磁性基板上にコバルトを主成分とする強磁性金属層
を設けた磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
プラスチックフィルムなどの非磁性基板上にコバルトあ
るいはコバルト合金などの強磁性金属層を形成した磁気
記録媒体は、高密度記録特性に優れている。しかしその
反面、表面に金属が露出しているから耐食性に劣り、そ
のために磁気特性が低下したり、また腐食生成物の成長
によって磁気記録媒体の走行不良を生じるなどの欠点が
ある。
るいはコバルト合金などの強磁性金属層を形成した磁気
記録媒体は、高密度記録特性に優れている。しかしその
反面、表面に金属が露出しているから耐食性に劣り、そ
のために磁気特性が低下したり、また腐食生成物の成長
によって磁気記録媒体の走行不良を生じるなどの欠点が
ある。
従来、走行性を改善するため、種々の潤滑剤からなる保
護層を設けることが提案されているが、一般に強磁性金
属層の上に直接潤滑剤からなる保護層を設けた磁気テー
プをカセットに組込んだ状態で40℃、80%λ、H1
の条件下で実用テストを行なうと、数時間後には走行子
aを起してしまう。この原因を調べた結果、摩擦係数が
増大し。
護層を設けることが提案されているが、一般に強磁性金
属層の上に直接潤滑剤からなる保護層を設けた磁気テー
プをカセットに組込んだ状態で40℃、80%λ、H1
の条件下で実用テストを行なうと、数時間後には走行子
aを起してしまう。この原因を調べた結果、摩擦係数が
増大し。
大きいものでは摩擦係数が1.0以上になっており、潤
滑剤の効果がなくなり、摩擦係数が経時的に増大してい
ることが分かった。
滑剤の効果がなくなり、摩擦係数が経時的に増大してい
ることが分かった。
また従来、磁気記録媒体の耐摩耗性、耐食性を改善する
ため、強磁性金属層の表面を加熱してCo s Oa
、 Co x ONおよびCooを形成する方法(特公
昭49−213445号公報)1強磁性金属層を適当な
温度と湿度の雰囲気中で処理してCo s O4を表面
に形成する方法(特公昭42−20025号公報)、さ
らには強磁性金属層の表面に100℃以上の水酒気を吹
き付けて表面に結晶性のCoo(OH)を形成する方法
(特開昭57−123533号公報)などが提案さ九て
いる。
ため、強磁性金属層の表面を加熱してCo s Oa
、 Co x ONおよびCooを形成する方法(特公
昭49−213445号公報)1強磁性金属層を適当な
温度と湿度の雰囲気中で処理してCo s O4を表面
に形成する方法(特公昭42−20025号公報)、さ
らには強磁性金属層の表面に100℃以上の水酒気を吹
き付けて表面に結晶性のCoo(OH)を形成する方法
(特開昭57−123533号公報)などが提案さ九て
いる。
ところがこれらの方法では、磁気記録媒体の耐摩耗性を
向上することができず、また腐食生成物による摩擦係数
の経時的な増大を防止することはできない。
向上することができず、また腐食生成物による摩擦係数
の経時的な増大を防止することはできない。
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、耐
食性ならびに耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことにある。
食性ならびに耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことにある。
前述の目的を達成するため1本発明は、コバルトを主成
分どする例えばコバルト−ニッケル合金などの強磁性金
属の蒸発源と円筒、状キャンとの間に防着板を配置し、
前記蒸発源から蒸発した強磁性金属の蒸気流を円筒状キ
ャンの周面に沿って高入射角部側から低入射角部側へ移
動する非磁性基板に対して斜めに入射して蒸着すること
によって。
分どする例えばコバルト−ニッケル合金などの強磁性金
属の蒸発源と円筒、状キャンとの間に防着板を配置し、
前記蒸発源から蒸発した強磁性金属の蒸気流を円筒状キ
ャンの周面に沿って高入射角部側から低入射角部側へ移
動する非磁性基板に対して斜めに入射して蒸着すること
によって。
前記非磁性基板上にコバルトを主成分とする強磁性金属
層を形成せしめる磁気記録媒体の製造方法において。
層を形成せしめる磁気記録媒体の製造方法において。
前記防着板の先端部寄り上側から例えば酸素ガスなどの
酸化性ガスを最低入射角部を通過する非磁性基板に直射
するように吹きつけ、しかる後に少なくとも酸素と水分
の存在下において熱処理することにより、前記強磁性金
属層が柱状粒子の集合体からなり、 その強磁性金属層のうちの表面層のX線光電子分光分析
におけるGo=pスペクトルの結合エネルギー780
、0”3a V(2P3/2)と795.6”’eV(
2P1/2)の両ピークの低結合エネルギー側立上がり
点を通ってスペクトルに接するように直線でバックグラ
ンドを引いたとき、前記780.0°” e Vのピー
クの高さを100とした7 85 、9!o”e Vの
ピークの高さが40以下であって、 かつその01sスペクトルの結合エネルギー530 、
5” e vt、vる複合したピークの低結合エネルギ
ー側立上がり点と高結合エネルギー側立上がり点を通っ
てスペクトルに接するように直線でバックグランドを引
いたとき、この複合したピークの低結合エネルギー側ピ
ークと高結合エネルギー側ピークの高さの比率が100
対110〜50の範囲に規制され、 強磁性H最表面から100人内にむける平均酸素含有濃
度が約20〜50原子%の範囲に規制されていることを
特徴とするものである。
酸化性ガスを最低入射角部を通過する非磁性基板に直射
するように吹きつけ、しかる後に少なくとも酸素と水分
の存在下において熱処理することにより、前記強磁性金
属層が柱状粒子の集合体からなり、 その強磁性金属層のうちの表面層のX線光電子分光分析
におけるGo=pスペクトルの結合エネルギー780
、0”3a V(2P3/2)と795.6”’eV(
2P1/2)の両ピークの低結合エネルギー側立上がり
点を通ってスペクトルに接するように直線でバックグラ
ンドを引いたとき、前記780.0°” e Vのピー
クの高さを100とした7 85 、9!o”e Vの
ピークの高さが40以下であって、 かつその01sスペクトルの結合エネルギー530 、
5” e vt、vる複合したピークの低結合エネルギ
ー側立上がり点と高結合エネルギー側立上がり点を通っ
てスペクトルに接するように直線でバックグランドを引
いたとき、この複合したピークの低結合エネルギー側ピ
ークと高結合エネルギー側ピークの高さの比率が100
対110〜50の範囲に規制され、 強磁性H最表面から100人内にむける平均酸素含有濃
度が約20〜50原子%の範囲に規制されていることを
特徴とするものである。
前述の目的を達成するため、さらにまた本発明は、コバ
ルトを主成分とする例えばコバルト−ニッケル合金など
からなる強磁性金属の蒸発源と円筒状キャンとの間に防
着板を配置し、前記蒸発源から蒸発した強磁性金属の蒸
気流を円筒状キャンの周面に沿って高入射角部側から低
入射角部側へ移動する非磁性基板に対して斜めに入射し
て蒸着することによって、前記非磁性基板上にコバルト
を主成分とする強磁性金属層を形成せしめる磁気記録媒
体の製造方法において、 前記防着板の先端部寄り上側から例えば!2素ガスなど
の酸化性ガスを最低入射角部を通過する非磁性基板に直
射するように吹きつけ、しかる後に少なくとも酸素と水
分の存在下において熱処理することにより、前記強磁性
金属層が柱状粒子の集合体からなり。
ルトを主成分とする例えばコバルト−ニッケル合金など
からなる強磁性金属の蒸発源と円筒状キャンとの間に防
着板を配置し、前記蒸発源から蒸発した強磁性金属の蒸
気流を円筒状キャンの周面に沿って高入射角部側から低
入射角部側へ移動する非磁性基板に対して斜めに入射し
て蒸着することによって、前記非磁性基板上にコバルト
を主成分とする強磁性金属層を形成せしめる磁気記録媒
体の製造方法において、 前記防着板の先端部寄り上側から例えば!2素ガスなど
の酸化性ガスを最低入射角部を通過する非磁性基板に直
射するように吹きつけ、しかる後に少なくとも酸素と水
分の存在下において熱処理することにより、前記強磁性
金属層が柱状粒子の集合体からなり。
その表面層のX線光電子分光分析におけるCo2Pスペ
クトルの結合エネルギー780.0″0°1eV(2P
3/2)ドア 95 、6″” e V (2PI/2
)ノi’Ljピークの低結合エネルギー側立上がり点を
通ってスペクトルに接するように直線でバックグランド
を引いたとき、前記780.0”!eVのピークの高さ
を100とした785.9±0.3eVのピークの高さ
が40以下であって。
クトルの結合エネルギー780.0″0°1eV(2P
3/2)ドア 95 、6″” e V (2PI/2
)ノi’Ljピークの低結合エネルギー側立上がり点を
通ってスペクトルに接するように直線でバックグランド
を引いたとき、前記780.0”!eVのピークの高さ
を100とした785.9±0.3eVのピークの高さ
が40以下であって。
かつその01sスペクトルの結合エネルギー530.5
”eVにある複合したピークの低結合エネルギー側立上
がり点と高結合エネルギー側立上がり点を通ってスペク
トルに接するように直線でバックグランドを引いたとき
、この複合したピークの低結合エネルギー側ピークと高
結合エネルギー側ピークの高さの比率が100対110
〜50の範囲に規制され、 強磁性層最表面から100人内における平均酸素含有濃
度が約20〜50原子%の範囲に規制されており、 そしてその強磁性金属層の上に1例えば脂肪酸系有機化
合物やフッ素系有機化合物などからなる潤滑剤層を設け
たことを特徴とするものである。
”eVにある複合したピークの低結合エネルギー側立上
がり点と高結合エネルギー側立上がり点を通ってスペク
トルに接するように直線でバックグランドを引いたとき
、この複合したピークの低結合エネルギー側ピークと高
結合エネルギー側ピークの高さの比率が100対110
〜50の範囲に規制され、 強磁性層最表面から100人内における平均酸素含有濃
度が約20〜50原子%の範囲に規制されており、 そしてその強磁性金属層の上に1例えば脂肪酸系有機化
合物やフッ素系有機化合物などからなる潤滑剤層を設け
たことを特徴とするものである。
本発明において前記非磁性基板としては1例えばポリエ
チレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエス
テル樹脂などのプラスチックシート、プラスチック與基
板の中に例えば炭素繊維や銅などの無機物を混入した複
合材料の基板、あるいはアルミニウムなどの非磁性金属
板、またはガラスなどが用いられる。
チレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエス
テル樹脂などのプラスチックシート、プラスチック與基
板の中に例えば炭素繊維や銅などの無機物を混入した複
合材料の基板、あるいはアルミニウムなどの非磁性金属
板、またはガラスなどが用いられる。
本発明において前記コバルトを主成分とする強磁性金属
としては1例えばコバルト単体、あるいはコバルト−ニ
ッケル合金、コバルト−クロム合金、コバルト−鉄合金
、コバルト−リン合金、コバルト−ニッケルーリン合金
などのコバ用1〜合金が用いられる。前記コバルト−ニ
ッケル合金ならびにコバルト−ニッケルーリン合金の場
合は、ニッケルの含有率は約40重量%以下が望ましい
。
としては1例えばコバルト単体、あるいはコバルト−ニ
ッケル合金、コバルト−クロム合金、コバルト−鉄合金
、コバルト−リン合金、コバルト−ニッケルーリン合金
などのコバ用1〜合金が用いられる。前記コバルト−ニ
ッケル合金ならびにコバルト−ニッケルーリン合金の場
合は、ニッケルの含有率は約40重量%以下が望ましい
。
またコバルト−クロム合金、コバルト−鉄合金、ならび
にコバルト−リン合金などの場合は、クロム、鉄ならび
にリンの含有率は約30重量%以下が望ましい。
にコバルト−リン合金などの場合は、クロム、鉄ならび
にリンの含有率は約30重量%以下が望ましい。
また本発明において、前記潤滑剤としては、例えば脂肪
酸系有機化合物、フッ素系有機化合物ならびにシリコン
系有機化合物などが用いられる。
酸系有機化合物、フッ素系有機化合物ならびにシリコン
系有機化合物などが用いられる。
前記脂肪酸系潤滑剤としては、例えば脂肪酸。
脂肪酸の金属塩、脂肪酸エステルならびに脂肪酸アミド
などが使用される。前記脂肪酸の具体例としては1例え
ばミリスチン酸、パルミチン酸、オレイン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸などがある。
などが使用される。前記脂肪酸の具体例としては1例え
ばミリスチン酸、パルミチン酸、オレイン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸などがある。
またこれらの金属塩としては、例えばリチウム塩、ナト
リウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウ
ム塩、鉄塩、コバルト塩、亜鉛塩、バリウム塩ならびに
鉛塩などがある。
リウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウ
ム塩、鉄塩、コバルト塩、亜鉛塩、バリウム塩ならびに
鉛塩などがある。
前記脂肪酸エステルとしては1例えばステアリン酸ブチ
ル、ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグ
リセリド、オレイン酸モノグリセリド、ペンタエリスリ
トールテトラステアレートなどがある。
ル、ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグ
リセリド、オレイン酸モノグリセリド、ペンタエリスリ
トールテトラステアレートなどがある。
脂肪酸アミドとしては、例えばカプロン酸アミド、カプ
リン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド
、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミ
ド、メチレンビスステアリン酸アミドなどがある。
リン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド
、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミ
ド、メチレンビスステアリン酸アミドなどがある。
またフッ素系潤滑剤としては、例えばトリクロロフルオ
ロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ
アルキルポリエーテルなどがある。
ロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ
アルキルポリエーテルなどがある。
市版品の具体例としては、ダイキン社製ダイフロン#2
0.デュポン社製クライトツクスM、クライトツクス1
1などが挙られる。さらにシリコン系潤滑剤としてはシ
リコンオイルがある。
0.デュポン社製クライトツクスM、クライトツクス1
1などが挙られる。さらにシリコン系潤滑剤としてはシ
リコンオイルがある。
なお前記?!8!l滑剤層は、前述のような潤滑剤のみ
で構成する場合もあるし、また潤滑剤中に例えば流動パ
ラフィンや防錆剤の如き添加剤を混在させて、潤滑剤層
の耐食性などを向上することもできる。
で構成する場合もあるし、また潤滑剤中に例えば流動パ
ラフィンや防錆剤の如き添加剤を混在させて、潤滑剤層
の耐食性などを向上することもできる。
次に本発明の具体的な実施例について図とともに説明す
る。第1図は実施例に係る真空蒸着装置の概略構成図、
第2図は本発明の方法によって製造された磁気記録媒体
の断面図、第3図ならびに第4図はその磁気記録媒体に
おける強磁性金属層の拡大概念図である。
る。第1図は実施例に係る真空蒸着装置の概略構成図、
第2図は本発明の方法によって製造された磁気記録媒体
の断面図、第3図ならびに第4図はその磁気記録媒体に
おける強磁性金属層の拡大概念図である。
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなるベースフィルム1の原反ロール2を、真空蒸着槽
3内にセットする。原反ロール2から繰出したベースフ
ィルム1は、ガイドローラ4を介して真空蒸着槽3の中
央に配置された円筒状キャン5の周面に巻き掛けられた
のち、ガイドローラ4を介して巻取りロール6に巻き取
られる。
らなるベースフィルム1の原反ロール2を、真空蒸着槽
3内にセットする。原反ロール2から繰出したベースフ
ィルム1は、ガイドローラ4を介して真空蒸着槽3の中
央に配置された円筒状キャン5の周面に巻き掛けられた
のち、ガイドローラ4を介して巻取りロール6に巻き取
られる。
前記キャン5の下方には蒸発源るつぼ7が配置され、そ
の中にニッケルを20重量%含有するコバルト−ニッケ
ル合金からなる強磁性金属8がセットされている。キャ
ン5と蒸発源るつぼ7との間には防着板9が設けられて
いる。
の中にニッケルを20重量%含有するコバルト−ニッケ
ル合金からなる強磁性金属8がセットされている。キャ
ン5と蒸発源るつぼ7との間には防着板9が設けられて
いる。
真空蒸着槽3に付設された減圧手段10により槽内を5
.OXI O−” h−ルまで減圧したのち。
.OXI O−” h−ルまで減圧したのち。
酸素ガス供給管11から酸素ガスを槽内に流量180
m l /分で導入する。このような状態において前記
キャン5の周面に沿って移動するベースフィルム1に向
けて強磁性金属8を斜めに入射するよう蒸着して、WA
厚1500人のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性
金属Jll!12が形成さ九。
m l /分で導入する。このような状態において前記
キャン5の周面に沿って移動するベースフィルム1に向
けて強磁性金属8を斜めに入射するよう蒸着して、WA
厚1500人のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性
金属Jll!12が形成さ九。
連続的に巻取ロール6に巻き取られる。このようにして
形成された前記強磁性金Jili[12の磁気特性を測
定したところ、保磁力はt oooエルステッド、角型
比は0.7であった。また、オージェ電子分光分析の結
果1表面層から深さ100人の範囲の平均酸素含有濃度
は約32fi子%であった。
形成された前記強磁性金Jili[12の磁気特性を測
定したところ、保磁力はt oooエルステッド、角型
比は0.7であった。また、オージェ電子分光分析の結
果1表面層から深さ100人の範囲の平均酸素含有濃度
は約32fi子%であった。
前述のように強磁性金属8を斜めに入射するように蒸着
することにより、第3図ならびに第4図に示すように柱
状粒子13が傾斜した状態で生成する。前述のように酸
素ガスの存在下で蒸着するため、柱状粒子13の周囲に
中間層14が形成される。この中間層14中の酸素含有
濃度は、酸素導入量を調整することによって制御するこ
とができる。なお、真空蒸着槽内での酸素ガスの吹きつ
け方法については後で詳しく説明する。
することにより、第3図ならびに第4図に示すように柱
状粒子13が傾斜した状態で生成する。前述のように酸
素ガスの存在下で蒸着するため、柱状粒子13の周囲に
中間層14が形成される。この中間層14中の酸素含有
濃度は、酸素導入量を調整することによって制御するこ
とができる。なお、真空蒸着槽内での酸素ガスの吹きつ
け方法については後で詳しく説明する。
前述のようにしてベースフィルム1の表面に所定の厚さ
を有する強磁性金IyL層12を形成したのち、これを
真空蒸着槽3から取り出し、少なくとも酸素ガスと水分
の存在下で加熱処理する。この処理により後で詳細に説
明するように、中間層14の表面がX線光電子分光分析
におけるCoto、3 2Pスペクトルの結合エネルギー780.Oev(2P
%)ドア 95 、6″″’e V (2P3) +7
) WQ ピークの低結合エネルギー側立上がり点を通
ってスペクトルに接するように直線でバックグランドを
引いたとき、780.0±±0.3eVのピークの高さ
を100とした785.9±”e Vのピークの高さが
40以下であった。
を有する強磁性金IyL層12を形成したのち、これを
真空蒸着槽3から取り出し、少なくとも酸素ガスと水分
の存在下で加熱処理する。この処理により後で詳細に説
明するように、中間層14の表面がX線光電子分光分析
におけるCoto、3 2Pスペクトルの結合エネルギー780.Oev(2P
%)ドア 95 、6″″’e V (2P3) +7
) WQ ピークの低結合エネルギー側立上がり点を通
ってスペクトルに接するように直線でバックグランドを
引いたとき、780.0±±0.3eVのピークの高さ
を100とした785.9±”e Vのピークの高さが
40以下であった。
またその01sスペクトルの結合エネルギー530 、
5”−’eVにある複合したピークの低結合エネルギー
側立上がり点と高結合エネルギー側立上がり点を逼って
スペクトルに接するように直線でバックグランドを引い
たとき、この複合したピークの低結合エネルギー側ピー
クと高結合エネルギー側ピークの高さの比率が100対
110〜50の範囲であるような表面層15に変成され
る(第3図ならびに第4図参照)。
5”−’eVにある複合したピークの低結合エネルギー
側立上がり点と高結合エネルギー側立上がり点を逼って
スペクトルに接するように直線でバックグランドを引い
たとき、この複合したピークの低結合エネルギー側ピー
クと高結合エネルギー側ピークの高さの比率が100対
110〜50の範囲であるような表面層15に変成され
る(第3図ならびに第4図参照)。
この表面JI115の形成状態は、該表面層15を生成
する際の加熱処理条件などにより、第3図に示すように
柱状粒子13の周囲の全体に形成されたり、あるいは第
4図に示すように柱状粒子13の表面側部分にのみ形成
されることがある。
する際の加熱処理条件などにより、第3図に示すように
柱状粒子13の周囲の全体に形成されたり、あるいは第
4図に示すように柱状粒子13の表面側部分にのみ形成
されることがある。
加熱処理が終了すると次に潤滑剤塗布工程に運ばれ、第
2図に示すように強磁性金属fi12の表面にf4滑剤
層16が設けられる。なお、この潤滑剤Ji#16の膜
厚は30〜1000人程度、が適当で。
2図に示すように強磁性金属fi12の表面にf4滑剤
層16が設けられる。なお、この潤滑剤Ji#16の膜
厚は30〜1000人程度、が適当で。
30人より薄いと長期間にわたって潤滑効果を発揮する
ことが難しく、一方、1000人より厚くなると電磁変
換特性が低下するため、潤滑剤層16の膜厚は前述の範
囲に規制する方が望ましい。
ことが難しく、一方、1000人より厚くなると電磁変
換特性が低下するため、潤滑剤層16の膜厚は前述の範
囲に規制する方が望ましい。
本発明者らは、斜め大斜蒸着時における酸素ガスなどの
酸化性ガスの導入方法について検討した。
酸化性ガスの導入方法について検討した。
その結果、酸化性ガスを強磁性金属の蒸気流に向けて吹
きつけたのでは、酸化性ガスと蒸気流とが衝突して散乱
が生じ、ベースフィルムに対する蒸気流の大斜角がばら
ばらになるため、十分な磁気特性が得られない、これに
対して強磁性金属の蒸気流と交叉しないように、最低大
斜角部を通過するベースフィルムに向けて酸化性ガスを
吹きつければ、前述のような問題が解消することを見い
出した。
きつけたのでは、酸化性ガスと蒸気流とが衝突して散乱
が生じ、ベースフィルムに対する蒸気流の大斜角がばら
ばらになるため、十分な磁気特性が得られない、これに
対して強磁性金属の蒸気流と交叉しないように、最低大
斜角部を通過するベースフィルムに向けて酸化性ガスを
吹きつければ、前述のような問題が解消することを見い
出した。
本発明の酸化性ガスの導入方法は、このような1ln5
!Lに基づいたものである。すなわち1円筒状キャンの
周面に沿って高入斜角部から紙入斜角部へと移動するベ
ースフィルムに対して、強磁性金属の蒸気流を斜めに入
射して蒸着する際1円筒状キャンの下方に配置した防着
板の先端部寄りの上側から、酸化性ガスを少なくとも最
低大斜角部を通過しているベースフィルムに直射するよ
うに吹きつける。そして、この最低大斜角部に入射する
酸化性ガスと強磁性金属の蒸気流との交じわり角度が約
30度を越えず、かつ酸化性ガスの直射範囲が、最低入
射角部から高入射角の方向に円筒状キャンの回転中心を
基点とした角度で約10度を越えないようにする。
!Lに基づいたものである。すなわち1円筒状キャンの
周面に沿って高入斜角部から紙入斜角部へと移動するベ
ースフィルムに対して、強磁性金属の蒸気流を斜めに入
射して蒸着する際1円筒状キャンの下方に配置した防着
板の先端部寄りの上側から、酸化性ガスを少なくとも最
低大斜角部を通過しているベースフィルムに直射するよ
うに吹きつける。そして、この最低大斜角部に入射する
酸化性ガスと強磁性金属の蒸気流との交じわり角度が約
30度を越えず、かつ酸化性ガスの直射範囲が、最低入
射角部から高入射角の方向に円筒状キャンの回転中心を
基点とした角度で約10度を越えないようにする。
このようにすることにより、斜め入射蒸着によって形成
さ九る柱状粒子の柱状粒子本体と表面層との中間層に確
実に酸素原子を導入することができ、前記中間層におけ
る酸素含有濃度のコントロールが容易である。
さ九る柱状粒子の柱状粒子本体と表面層との中間層に確
実に酸素原子を導入することができ、前記中間層におけ
る酸素含有濃度のコントロールが容易である。
なお1本明細書で記述する柱状粒子の表面層とは、有機
物系の酸素や空気中の酸素などが結合または付着したよ
うな表面の汚染層を除いて1強磁性金属と酸素が結合し
た表面の部分をいう。
物系の酸素や空気中の酸素などが結合または付着したよ
うな表面の汚染層を除いて1強磁性金属と酸素が結合し
た表面の部分をいう。
次にこの酸化性ガスの吹きつけについて1図とともに説
明する。
明する。
第1図ならびに第5図に示すように、酸化性ガス(酸素
ガス)を導入する供給管11は防着板9の先端部内側に
設置されている。そして第5図に示すように、供給管1
1のガス吹き出し口11aからベースフィルム1の最低
入射角部Aまでの距離りが151以内で、最低入射角θ
で差し向けられる強磁性金属の蒸気流Bとのなす角度α
が約30度以内となる位置に前記供給管11の吹き出し
口11aが設けられている。そしてその吹き出し口11
i+から吹きつけられる酸化性ガスが、最低入射角部A
から高入射角の方向に円筒状キャン5の回転中心0を基
点とした角度βで10度を越えない範囲E内に直射する
ように吹きつけるのが好ましい。
ガス)を導入する供給管11は防着板9の先端部内側に
設置されている。そして第5図に示すように、供給管1
1のガス吹き出し口11aからベースフィルム1の最低
入射角部Aまでの距離りが151以内で、最低入射角θ
で差し向けられる強磁性金属の蒸気流Bとのなす角度α
が約30度以内となる位置に前記供給管11の吹き出し
口11aが設けられている。そしてその吹き出し口11
i+から吹きつけられる酸化性ガスが、最低入射角部A
から高入射角の方向に円筒状キャン5の回転中心0を基
点とした角度βで10度を越えない範囲E内に直射する
ように吹きつけるのが好ましい。
このような条件で酸化性ガスを少なくとも最低入射角部
Aを通過するベースフィルム1に直射するように吹きつ
けると、最低入射角部Aの近傍で酸化性ガスが最も多い
、それと同時に、i&高入射角部Cの近傍ではベースフ
ィルム1上での強磁性金属の析出速度が遅いため、酸化
性ガスがとりこまれ易くなる。その結果、最高入射角部
C近傍のベースフィルム1上で強磁性粒子の核が生成す
る際、酸素原子を含有した十分に小さい粒子が生成する
。そして、ベースフィルム1が最低入射角部Aを通過す
るときに多量の酸化性ガスによって前記粒子が良好に成
長する。
Aを通過するベースフィルム1に直射するように吹きつ
けると、最低入射角部Aの近傍で酸化性ガスが最も多い
、それと同時に、i&高入射角部Cの近傍ではベースフ
ィルム1上での強磁性金属の析出速度が遅いため、酸化
性ガスがとりこまれ易くなる。その結果、最高入射角部
C近傍のベースフィルム1上で強磁性粒子の核が生成す
る際、酸素原子を含有した十分に小さい粒子が生成する
。そして、ベースフィルム1が最低入射角部Aを通過す
るときに多量の酸化性ガスによって前記粒子が良好に成
長する。
酸化性ガスとしては、酸素ガスが好適であるが。
この他に酸素ガスと他のガスとを混合したものも使用可
能である。
能である。
強磁性金属を斜め入射蒸着する際の入射角θは。
約65度より大きくすると蒸着効率が悪くなり、量産に
適さないため、入射角θは65度以下にする方が好まし
い。
適さないため、入射角θは65度以下にする方が好まし
い。
第1図に示した真空蒸着装置を用い、厚さ12μmのポ
リエチレンテレフタレートからなるベースフィルム1を
、原反ロール2よりガイドローラ4を介して直径600
1の円筒状キャン5の周面に沿って移動させ、ガイドロ
ーラ4を介して巻取りロール6に巻き取るようにセット
するとともに。
リエチレンテレフタレートからなるベースフィルム1を
、原反ロール2よりガイドローラ4を介して直径600
1の円筒状キャン5の周面に沿って移動させ、ガイドロ
ーラ4を介して巻取りロール6に巻き取るようにセット
するとともに。
蒸発源るつぼ7内にニッケルを20重量%含有するコバ
ルト−ニッケル合金からなる強磁性金属8をセットした
。
ルト−ニッケル合金からなる強磁性金属8をセットした
。
そして減圧手段10により槽内を5.0X10−6 ト
ールまで減圧し1強磁性金属8を加熱蒸発せしめ、最低
入射角度50度、蒸着速度800人/秒で斜め入射蒸着
を開始すると同時に、供給管11から最低入射角部Aを
通過するベースフィルム1に酸素ガスをガス流量を種々
変えて吹きつけ、ベースフィルムl上にコバルト−ニッ
ケル合金からなる強磁性金属層を形成した。
ールまで減圧し1強磁性金属8を加熱蒸発せしめ、最低
入射角度50度、蒸着速度800人/秒で斜め入射蒸着
を開始すると同時に、供給管11から最低入射角部Aを
通過するベースフィルム1に酸素ガスをガス流量を種々
変えて吹きつけ、ベースフィルムl上にコバルト−ニッ
ケル合金からなる強磁性金属層を形成した。
なお、前記供給管11は、そのガス吹き出し口11aか
ら円筒状キャン5の周面に巻きつけられたベースフィル
ム1までの距離が5印となるようにし、かつ最低入射角
で差し向けられる蒸気流とのなす角度αが20度になる
ように配置した。また、供給管11のガス吹き出し口1
2aから吹き出される酸素ガスはi低入射角部Aから高
入射角の方向に円筒状キャン5の回転中心を基点とした
角度βが10度で直射されるようにした。
ら円筒状キャン5の周面に巻きつけられたベースフィル
ム1までの距離が5印となるようにし、かつ最低入射角
で差し向けられる蒸気流とのなす角度αが20度になる
ように配置した。また、供給管11のガス吹き出し口1
2aから吹き出される酸素ガスはi低入射角部Aから高
入射角の方向に円筒状キャン5の回転中心を基点とした
角度βが10度で直射されるようにした。
このようにして斜め入射蒸着をした磁気記録媒体を真空
蒸着装置から取り出して、大気圧に保た九た熱処理槽に
おいて処理温度60°C1相対湿度15%で100時間
加熱処理して、その後に所定の幅に裁断して磁気テープ
を作った。
蒸着装置から取り出して、大気圧に保た九た熱処理槽に
おいて処理温度60°C1相対湿度15%で100時間
加熱処理して、その後に所定の幅に裁断して磁気テープ
を作った。
前述のように、ベースフィルム1に強磁性金属層12を
形成する際に流量を変えて酸素ガスを吹きつけ各種試料
の磁気テープをつくり、それら各ff!磁気テープにお
ける中間層の酸素含有濃度と耐摩耗性との関係について
試験を行ない、その結果を次の表に示す。
形成する際に流量を変えて酸素ガスを吹きつけ各種試料
の磁気テープをつくり、それら各ff!磁気テープにお
ける中間層の酸素含有濃度と耐摩耗性との関係について
試験を行ない、その結果を次の表に示す。
なお、磁気テープにおける最表面から100人内の平均
酸素含有濃度は、エツチングによって磁気テープの表面
から100人の深さまで除去し、ながら酸素原子濃度を
オージェ電子分光計で測定し、表面から100人まで平
均化した。
酸素含有濃度は、エツチングによって磁気テープの表面
から100人の深さまで除去し、ながら酸素原子濃度を
オージェ電子分光計で測定し、表面から100人まで平
均化した。
また、前記磁気テープの耐摩耗性試験は、1/2インチ
VH8方式VTRを用いて、スチル時間を調べた。
VH8方式VTRを用いて、スチル時間を調べた。
表
この表から明らかなように、中間層における酸素含有濃
度が20原子%より少ないと耐久性が劣り、一方、50
原子%より酸素含有濃度が高くなると耐摩耗性が低下す
る6従って磁気記録媒体の製造工程中において酸素ガス
などの酸化性ガスの供給量をコントロールして、最表面
から100人内の平均a素含有濃度を20〜5o原子%
の範囲に規制することにより、耐摩耗性を有する磁気記
録媒体が得られる。
度が20原子%より少ないと耐久性が劣り、一方、50
原子%より酸素含有濃度が高くなると耐摩耗性が低下す
る6従って磁気記録媒体の製造工程中において酸素ガス
などの酸化性ガスの供給量をコントロールして、最表面
から100人内の平均a素含有濃度を20〜5o原子%
の範囲に規制することにより、耐摩耗性を有する磁気記
録媒体が得られる。
次に本発明の具体的な実施例について説明する。
実施例1
前述のようにして、ポリエチレンテレフタレートからな
るベースフィルム1の表面に、コバルトを80重量%と
ニッケルを20重量%含有し、表面層から100人深い
所までの平均酸素濃度が3277i子%である強磁性金
属層12を形成する。
るベースフィルム1の表面に、コバルトを80重量%と
ニッケルを20重量%含有し、表面層から100人深い
所までの平均酸素濃度が3277i子%である強磁性金
属層12を形成する。
このようにして強磁性金属を斜め入射蒸着したベースフ
ィルムlを真空蒸着槽3から取り出して。
ィルムlを真空蒸着槽3から取り出して。
大気圧に保たれた熱処理槽において処理温度6゜℃、相
対湿度15%で、100時間加熱処理し。
対湿度15%で、100時間加熱処理し。
処理後に所定の幅に裁断して磁気テープを作った一実施
例2 処理時間を200時間にした以外は、前記実施例1と同
様にして磁気テープを作った・実施例3 処理時間を500時間にした以外は、前記実施例1と同
様にして磁気テープを作った。
例2 処理時間を200時間にした以外は、前記実施例1と同
様にして磁気テープを作った・実施例3 処理時間を500時間にした以外は、前記実施例1と同
様にして磁気テープを作った。
実施例4
処理温度を40℃、相対湿度を40%にした以外は、前
記実施例3と同様にして磁気テープを作った。
記実施例3と同様にして磁気テープを作った。
実施例5
処理温度を90℃、相対湿度を15%、処理時間を50
時間にした以外は、前記実施例1と同様にして磁気テー
プを作った。
時間にした以外は、前記実施例1と同様にして磁気テー
プを作った。
実施例6
加熱処理後に強磁性金属層の上に脂肪酸の1種であるス
テアリン酸の潤滑剤層を約50入庫に形成した以外は、
前記実施例1.と同様にして磁気テープを作った・ 実施例7 加熱処理後に強磁性金属層の上にステアリン酸の潤滑剤
層を約50入庫に形成した以外は、前記実施例4と同様
にして磁気テープを作った。
テアリン酸の潤滑剤層を約50入庫に形成した以外は、
前記実施例1.と同様にして磁気テープを作った・ 実施例7 加熱処理後に強磁性金属層の上にステアリン酸の潤滑剤
層を約50入庫に形成した以外は、前記実施例4と同様
にして磁気テープを作った。
実施例8
加熱処理後に強磁性金属層の上にステアリン酸の潤滑剤
層を約50入庫に形成した以外は、前記実施例5と同様
にして磁気テープを作った。
層を約50入庫に形成した以外は、前記実施例5と同様
にして磁気テープを作った。
実施例9
加熱処理後に強磁性金属層の上にフッ素系有機化合物の
1種であるパーフルオロアルキルポリエーテル(デュポ
ン社製 製品名クライックスH)の潤滑剤層を約50入
庫に形成した以外は、前記実施例1と同様にして磁気テ
ープを作った。
1種であるパーフルオロアルキルポリエーテル(デュポ
ン社製 製品名クライックスH)の潤滑剤層を約50入
庫に形成した以外は、前記実施例1と同様にして磁気テ
ープを作った。
実施例10
加熱処理後に強磁性金属層の上にパーフルオロアルキル
ポリエーテル(デュポン社製 製品名クラ・(ト・ツク
スH)の潤滑剤層を約50入庫に形成した以外は、前記
実施例4と同様にして磁気テープを作った。
ポリエーテル(デュポン社製 製品名クラ・(ト・ツク
スH)の潤滑剤層を約50入庫に形成した以外は、前記
実施例4と同様にして磁気テープを作った。
実施例11
加熱処理後に強磁性金属層の上にパーフルオロアルキル
ポリエーテル(デュポン社製製品名フライ1−ラクスI
()の潤滑剤パを約50ム厚に形成した以外は、前記実
施例5と同様にし°〔磁気テープを作った6 比較例1 加熱処理を省略した以外は、前記実施例1と同様にして
磁気テープを作った。
ポリエーテル(デュポン社製製品名フライ1−ラクスI
()の潤滑剤パを約50ム厚に形成した以外は、前記実
施例5と同様にし°〔磁気テープを作った6 比較例1 加熱処理を省略した以外は、前記実施例1と同様にして
磁気テープを作った。
比較例2
加熱処理を省略し、ステアリン酸の潤滑剤層を約50ム
厚に形成した以外は、前記比較fs!と同様にして磁気
テープを作った。
厚に形成した以外は、前記比較fs!と同様にして磁気
テープを作った。
比較例3
加熱処理を60℃、90%R,H,下で50時間行なっ
た以外は、前記実施例1と同様にして磁気テープを作っ
た。
た以外は、前記実施例1と同様にして磁気テープを作っ
た。
比較例4
加熱処理後に強磁性金属層の上にステアリン酸の潤滑剤
層を約50ム厚に形成した以外は、前記比較例3と同様
にし、て磁気テiブを作った。
層を約50ム厚に形成した以外は、前記比較例3と同様
にし、て磁気テiブを作った。
比較例5
真空蒸着槽内において、ベースフィルム上にコバルト(
80重量%)−ニッケル(20重量%)合金を斜め入射
蒸着して強磁性金属層を形成する。
80重量%)−ニッケル(20重量%)合金を斜め入射
蒸着して強磁性金属層を形成する。
その後に真空蒸着槽より取り出して、100°C以上の
加熱水蒸気を前記強磁性金属層の表面に吹きつけて処理
した磁気テープを作った。
加熱水蒸気を前記強磁性金属層の表面に吹きつけて処理
した磁気テープを作った。
第6図は、前記各実施例ならびに各比較例によって得ら
れた磁気テープの摩擦係数の経時変化を示す図である。
れた磁気テープの摩擦係数の経時変化を示す図である。
この摩擦係数の測定は、摺動式動摩擦係数測定機を用い
、初期の摩擦係数と、各磁気テープを60℃、90%R
,H,の高温、高温雰囲気中で1週間保存した後の摩擦
係数を測定した。なお1図中の線Aは実施例1〜5によ
って得られた磁気テープ、線Bは実施例6〜8によって
得られた磁気テープ、mcは実施例9〜11によって得
られた磁気テープ、線りは比較例1によって得られた磁
気テープ、MEは比較例2によって得られた磁気テープ
、線Fは比較例3によって得ら九た磁気テープ、線Gは
比較例4によって得られた磁気テープ、#IHは比較例
5によって得られた磁気テープの特性曲線である。
、初期の摩擦係数と、各磁気テープを60℃、90%R
,H,の高温、高温雰囲気中で1週間保存した後の摩擦
係数を測定した。なお1図中の線Aは実施例1〜5によ
って得られた磁気テープ、線Bは実施例6〜8によって
得られた磁気テープ、mcは実施例9〜11によって得
られた磁気テープ、線りは比較例1によって得られた磁
気テープ、MEは比較例2によって得られた磁気テープ
、線Fは比較例3によって得ら九た磁気テープ、線Gは
比較例4によって得られた磁気テープ、#IHは比較例
5によって得られた磁気テープの特性曲線である。
この図から明らかなように、比較例1.2,3゜4.5
のものは高温、高湿の雰囲気下に長時間保存すると*t
Q係数は急激に増大する傾向にある。
のものは高温、高湿の雰囲気下に長時間保存すると*t
Q係数は急激に増大する傾向にある。
これに対して本発明に係る磁気記録媒体はいずれのもの
も11!擦係数の経時変化がほとんどなく、常に安定し
た低い11!擦係数を有しているために走行性が非常に
良好である。また、前記最表面から100人内の平均酸
素含有濃度を20〜50原子%の範囲に規制しているた
め、高温、高湿の雰囲気下で保存しても初期の耐摩耗性
を保持している。
も11!擦係数の経時変化がほとんどなく、常に安定し
た低い11!擦係数を有しているために走行性が非常に
良好である。また、前記最表面から100人内の平均酸
素含有濃度を20〜50原子%の範囲に規制しているた
め、高温、高湿の雰囲気下で保存しても初期の耐摩耗性
を保持している。
次に前記実施tyvtによって得られた磁気テープの強
磁性金属層の表面のXPS分析を行なった。
磁性金属層の表面のXPS分析を行なった。
xps分析にはV G S cientific L
1m1ted社製製品名ESCALAB5の分析機器
を使用し、X線出力がl0KV、20 m−Aで、C1
sピーク値を284.6eVにセットし、現出角を零度
にして分析した。
1m1ted社製製品名ESCALAB5の分析機器
を使用し、X線出力がl0KV、20 m−Aで、C1
sピーク値を284.6eVにセットし、現出角を零度
にして分析した。
第7図は前記xps分析に基づ< Co : p3/2
のスペクトル図、第8図は01sのスペクトル図、第9
図は第8図スペクトル図からバックグラランドを引いて
2つのピークを波形分離したスペクトル図である。
のスペクトル図、第8図は01sのスペクトル図、第9
図は第8図スペクトル図からバックグラランドを引いて
2つのピークを波形分離したスペクトル図である。
これらの図から明らかなように、前記実施例1によって
得られた磁気記録媒体の場合、171at性金#x居の
うちの表面層のX線光電子分光分析におけるCoxpス
ペクトルの結合エネルギー780.0”’a V (2
P 3/2)と795 、5” e V(2PI/2)
の両ピークの低結合エネルギー側立上がり点を通ってス
ペクトルに接するように直線でバックグランドB、Gを
引いたとき(第7図参照)、メインピー’)C780、
0”’ e V)(7)ヒ−’)(1)KすH1ヲ10
0としたサテライトピーク(785,9″0.38V)
のピークの高さH2が約25となる。
得られた磁気記録媒体の場合、171at性金#x居の
うちの表面層のX線光電子分光分析におけるCoxpス
ペクトルの結合エネルギー780.0”’a V (2
P 3/2)と795 、5” e V(2PI/2)
の両ピークの低結合エネルギー側立上がり点を通ってス
ペクトルに接するように直線でバックグランドB、Gを
引いたとき(第7図参照)、メインピー’)C780、
0”’ e V)(7)ヒ−’)(1)KすH1ヲ10
0としたサテライトピーク(785,9″0.38V)
のピークの高さH2が約25となる。
また第8図に示すように、Oxsスペクトルの結合エネ
ルギー530 e 5”“Savにある複仝したピーク
の低結合側立上がり点と高結合エネルギー倒立上がり点
を通ってスペクトルに接するように直線でバックグラン
ドB、Gを引いたとき、第9図に示すようにこの複合し
たピークの低結合エネルギー側ピークと高結合エネルギ
ー側ピークの高さの比率(83対)14)が、100対
約71となる。
ルギー530 e 5”“Savにある複仝したピーク
の低結合側立上がり点と高結合エネルギー倒立上がり点
を通ってスペクトルに接するように直線でバックグラン
ドB、Gを引いたとき、第9図に示すようにこの複合し
たピークの低結合エネルギー側ピークと高結合エネルギ
ー側ピークの高さの比率(83対)14)が、100対
約71となる。
前述のピーク高さト11を100とした場合のサテライ
トピークのピーク高さHlが40より大きいと、耐食性
が不十分であり、高温高湿の走行性が経時的に劣化する
傾向があるため、メインピー!0.3 り(780,OeV)のピーク高さHlを100とした
サテライトピーク(785,9″o、3 ev、のピー
ク高さHlは40以下に抑える必要がある。
トピークのピーク高さHlが40より大きいと、耐食性
が不十分であり、高温高湿の走行性が経時的に劣化する
傾向があるため、メインピー!0.3 り(780,OeV)のピーク高さHlを100とした
サテライトピーク(785,9″o、3 ev、のピー
ク高さHlは40以下に抑える必要がある。
さらに01sスペクトルにおいて低結合エネルギー側ピ
ーク(酸化物の酸素に帰席)のピークの高さとH3高結
合エネルギー側ピーク(水酸基の酸素に帰属)トI4の
比率が100/110より大きい場合は1例え前述のC
o 2 P3/2スペクトルが前記の範囲内にあっても
走行耐久性に欠ける。この原因は十分に解明されていな
いが、コバル1−が粘性の高い水酸化物に近い状態で存
在しているためであろうと考えられる。
ーク(酸化物の酸素に帰席)のピークの高さとH3高結
合エネルギー側ピーク(水酸基の酸素に帰属)トI4の
比率が100/110より大きい場合は1例え前述のC
o 2 P3/2スペクトルが前記の範囲内にあっても
走行耐久性に欠ける。この原因は十分に解明されていな
いが、コバル1−が粘性の高い水酸化物に近い状態で存
在しているためであろうと考えられる。
一方、H3/H4の比率が100150より小さい領域
では2表面層の形成が一種の脱水過程を経ると見ら才し
ることから、長期間の処理が必要となり生&性の点で問
題がある。
では2表面層の形成が一種の脱水過程を経ると見ら才し
ることから、長期間の処理が必要となり生&性の点で問
題がある。
第7図ないし第9図は実施例1の磁気記り媒体のスペク
トル図を示し、たが、他の実施例に係る磁気記録媒体に
おいても、X線光電子分光分析での前記81対H2の比
率が100対40以下、H3対H4の比率が100対5
0〜110の範囲に入っていることは前述の分析によっ
て確認されている。
トル図を示し、たが、他の実施例に係る磁気記録媒体に
おいても、X線光電子分光分析での前記81対H2の比
率が100対40以下、H3対H4の比率が100対5
0〜110の範囲に入っていることは前述の分析によっ
て確認されている。
本発明の磁気記録媒体において1表面層の耐食性には水
酸基を含有することが本質的に重要であると考えられる
。これは表面層が水酸基を含む非晶質的なネットワーク
構造をとることによって、カチオンの拡散を防いでいる
と見られるからである。従って本発明シこおいては、コ
バルトならびに酸素のスペクトル特性が前述の範囲にあ
ることが必要であり、これによって優れた耐久性と耐食
性とが兼備される。
酸基を含有することが本質的に重要であると考えられる
。これは表面層が水酸基を含む非晶質的なネットワーク
構造をとることによって、カチオンの拡散を防いでいる
と見られるからである。従って本発明シこおいては、コ
バルトならびに酸素のスペクトル特性が前述の範囲にあ
ることが必要であり、これによって優れた耐久性と耐食
性とが兼備される。
本発明は前述のような構成になっており、耐食性ならび
に耐摩耗性の両方に優れた磁気記録媒体を提供すること
ができる。
に耐摩耗性の両方に優れた磁気記録媒体を提供すること
ができる。
また本発明の製造方法によ九ば、n単な処理により1M
擦係数の経時変化のない安定した走行性を有する信頼性
の高い磁気記録媒体を構造することができる。
擦係数の経時変化のない安定した走行性を有する信頼性
の高い磁気記録媒体を構造することができる。
さらに強磁性金属層上に潤滑剤層を形成するものにおい
ては、潤滑剤塗布による強磁性金属層への化学的な影響
を考慮する必要がなく、潤滑剤の選択範囲が拡張できる
。すなわち従来の磁気記録媒体で脂肪酸などのような弱
有機酸の潤滑剤を使用した場合は、強磁性金属層が有機
酸の化学的な影響を受けて摩擦、係数の経時的な増大が
著しくなる。そのために、潤滑剤の使用可能な種類に制
限を受ける。これに対して本発明の磁気記録媒体は。
ては、潤滑剤塗布による強磁性金属層への化学的な影響
を考慮する必要がなく、潤滑剤の選択範囲が拡張できる
。すなわち従来の磁気記録媒体で脂肪酸などのような弱
有機酸の潤滑剤を使用した場合は、強磁性金属層が有機
酸の化学的な影響を受けて摩擦、係数の経時的な増大が
著しくなる。そのために、潤滑剤の使用可能な種類に制
限を受ける。これに対して本発明の磁気記録媒体は。
強磁性金属層の表面側部分に弱酸に対して抗力を有する
表面層が存在しているから、従来のものに比較して潤滑
剤の選択範囲が拡張できるという特長を有している。
表面層が存在しているから、従来のものに比較して潤滑
剤の選択範囲が拡張できるという特長を有している。
図はすべて本発明を説明するためのもので、第1図は実
施例で用いる真空蒸着装置の概略構成図、第2図は磁気
記録媒体の拡大断面図、第3図ならびに第4図は強磁性
金属層の拡大概念図、第5図第7図、第8図ならびに第
9図は表面層のXPS分析によるスペクトル図である。 l・・・・・ベースフィルム、3・・・・・・真空蒸着
槽、8・・・・・・強磁性金屑、11・・・・・・酸素
ガス供給管、12・・・・・・強磁性金属層、13・・
・・・・柱吠粒子、14・・・・・・中間層、15・・
・、・・・表面層、16・・・・・・潤滑剤層。 第1図 第2図 第3図 第4因 第5図 第6図
施例で用いる真空蒸着装置の概略構成図、第2図は磁気
記録媒体の拡大断面図、第3図ならびに第4図は強磁性
金属層の拡大概念図、第5図第7図、第8図ならびに第
9図は表面層のXPS分析によるスペクトル図である。 l・・・・・ベースフィルム、3・・・・・・真空蒸着
槽、8・・・・・・強磁性金屑、11・・・・・・酸素
ガス供給管、12・・・・・・強磁性金属層、13・・
・・・・柱吠粒子、14・・・・・・中間層、15・・
・、・・・表面層、16・・・・・・潤滑剤層。 第1図 第2図 第3図 第4因 第5図 第6図
Claims (8)
- (1)コバルトを主成分とする強磁性金属の蒸発源と円
筒状キヤンとの間に防着板を配置し、前記蒸発源から蒸
発した強磁性金属の蒸気流を円筒状キヤンの周面に沿つ
て高入射角部側から低入射角部側へ移動する非磁性基板
に対して斜めに入射して蒸着することによつて、前記非
磁性基板上にコバルトを主成分とする強磁性金属層を形
成せしめる磁気記録媒体の製造方法において、 前記防着板の先端部寄り上側から酸化性ガスを最低入射
角部を通過する非磁性基板に直射するように吹きつけ、
しかる後に少なくとも酸素と水分の存在下において熱処
理することにより、前記強磁性金属層が柱状粒子の集合
体からなり、 その強磁性金属層のうちの表面層のX線光電子分光分析
におけるCo_2_pスペクトルの結合エネルギー78
0.0^±^0^.^3eV(2P3/2)と795.
6^±^0^.^3eV(2P1/2)の両ピークの低
結合エネルギー側立上がり点を通つてスペクトルに接す
るように直線でバックグランドを引いたとき、前記78
0.0^±^0^.^3eVのピークの高さを100と
した785.9^±^0^.^3eVのピークの高さが
40以下であつて、 かつそのO_1_sスペクトルの結合エネルギー530
.5^±^2^.^5eVにある複合したピークの低結
合エネルギー側立上がり点と高結合エネルギー側立上が
り点を通ってスペクトルに接するように直線でバックグ
ランドを引いたとき、この複合したピークの低結合エネ
ルギー側ピークと高結合エネルギー側ピークの高さの比
率が100対110〜50の範囲に規制され、 強磁性層最表面から100Å内における平均酸素含有濃
度が約20〜50原子%の範囲に規制されていることを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記酸
化性ガスが酸素ガスであることを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - (3)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記強
磁性金属層を構成する強磁性金属が、コバルトを主成分
としたコバルトとニッケルの合金であることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - (4)コバルトを主成分とする強磁性金属の蒸発源と円
筒状キヤンとの間に防着板を配置し、前記蒸発源から蒸
発した強磁性金属の蒸気流を円筒状キヤンの周面に沿つ
て高入射角部側から低入射角部側へ移動する非磁性基板
に対して斜めに入射して蒸着することによつて、前記非
磁性基板上にコバルトを主成分とする強磁性金属層を形
成せしめる磁気記録媒体の製造方法において、 前記防着板の先端部寄り上側から酸化性ガスを最低入射
角部を通過する非磁性基板に直射するように吹きつけ、
しかる後に少なくとも酸素と水分の存在下において熱処
理することにより、前記強磁性金属層が柱状粒子の集合
体からなり、 その表面層のX線光電子分光分析におけるCo_2_p
スペクトルの結合エネルギー780.0^±^0^.^
3eV(2P3/2)と795.6^±^0^.^3e
V(2P1/2)の両ピークの低結合エネルギー側立上
がり点を通ってスペクトルに接するように直線でバック
グランドを引いたとき、前記780.0^±^0^.^
3eVのピークの高さを100とした785.9^±^
0^.^3eVのピークの高さが40以下であつて、 かつそのO_1_sスペクトルの結合エネルギー530
.5^±^2^.^5eVにある複合したピークの低結
合エネルギー側立上がり点と高結合エネルギー側立上が
り点を通ってスペクトルに接するように直線でバックグ
ランドを引いたとき、この複合したピークの低結合エネ
ルギー側ピークと高結合エネルギー側ピークの高さの比
率が100対110〜50の範囲に規制され、 強磁性層最表面から100Å内における平均酸素含有濃
度が約20〜50原子%の範囲に規制されたており、 その強磁性金属層の上に潤滑剤層を設けたことを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。 - (5)特許請求の範囲第(4)項記載において、前記強
磁性金属層を構成する強磁性金属が、コバルトを主成分
としたコバルトとニッケルの合金であることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - (6)特許請求の範囲第(4)項記載において、前記酸
化性ガスが酸素ガスであることを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - (7)特許請求の範囲第(4)項記載において、前記潤
滑剤層が少なくとも1種類の脂肪酸系有機化合物を含む
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (8)特許請求の範囲第(4)項記載において、前記潤
滑剤層が少なくとも1種類のフッ素系有機化合物を含む
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61130348A JPH0758544B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61130348A JPH0758544B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62287426A true JPS62287426A (ja) | 1987-12-14 |
JPH0758544B2 JPH0758544B2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=15032241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61130348A Expired - Lifetime JPH0758544B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0758544B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60157728A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-19 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-06 JP JP61130348A patent/JPH0758544B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60157728A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-19 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0758544B2 (ja) | 1995-06-21 |
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