JPS63168815A

JPS63168815A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPS63168815A
Application number: JP55187A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Niimi; 秀明新見; Kunio Wakai; 若居　邦夫; Tetsuo Mizumura; 哲夫水村; Noboru Isoe; 磯江　昇
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Ltd
Priority date: 1987-01-07
Filing date: 1987-01-07
Publication date: 1988-07-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、磁気記録媒体に係り、特に非磁性弁体上に強
磁性金属層ならびに保護膜を順次形成した磁気記録媒体
に関するものである。

〔従来の技術〕

プラスチックフィルムなどの非磁性Ｊ３Ｆｉ上にコバル
トあるいはコバルト合金などの強磁性金属層を形成した
磁気記録媒体は、高密度記録特性に彊れているが、その
反面、表面に金屑が露出しているから大気中に存在する
水分やＳ０２　、ＮＯ２などの腐食性ガスによって腐Ｒ
され、飽和磁化量の減少、さらには腐食生成物によって
磁気記録媒体の走行不良を生じるなどの欠点がある。

これらの欠点を解消するため従来１強磁性金属層上にコ
バル１−あるいはニッケルの酸化物からなる保護膜を設
けること（特開昭５９　１９３５３１３号公報）や、強
磁性金属層上にニッケルの斜め蒸着膜を設けること（特
開昭５４−２ｔ３ｏｓＯ公÷ｇ）などが提案されている
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、前者は保護膜が非磁性であるためスペーシング
ロスが大きく、保護膜を形成することによって再生出力
が低下する。４：のようなことが生じないようにするた
め保護膜の厚さを薄くすると。

長期間にわたって保護膜の機能を発揮することができな
い。また後者の磁気記録媒体では耐摩耗性に劣るという
欠点を有し、いずれのものでも耐食性に優れた保Ｓ膜と
しては不十分である。

また本出願人は１強磁性金属層層表面にコバルトのアモ
ルファスの３価以上の含水酸化物を形成したり（特開昭
６０−７８５６２号）１強磁性金層層表面に水和オキシ
水酸化クロムを形成して（特開昭６１−１７３５６号）
、大気中の水分による腐食を防止することを提案した。

しかしこの方法でも大気中のＳＯ２やＮｏ２などの腐食
性ガスに対する耐食性が不十分である。

本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、耐
腐食性、耐摩耗性ならびに電磁変換特性に優れた磁気記
録媒体を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは、まず耐腐食性に優れるとともに、スペー
シングロスを改善するため保護膜自体が磁性を有するよ
うな保護膜を検討した。その結果、Ｆｅ−４０ａ　、　
７　　Ｆｅｚ　Ｏｓなどの鉄−酸ｉｆ；ｆ？の保護膜が
これらの特長を有することが判った。しがし耐摩耗性に
劣り、磁気ヘッドとの接触で摩耗してしまうという欠点
も有していた。そこで、鉄−酸素系保護膜のこれらの特
長を損うことなく、耐摩耗性を改良する方法を鋭意に検
討した結果、鉄−酸素系にニッケルを含有させることに
より、耐腐食性、耐摩耗性ならびに電磁変換特性に優れ
ることを明らかにし、さらに、クロムを含有させること
によって、より優れた耐食性が得られることを見出した
。

本発明は、以上の知見に基づいて完成されたもので、前
述の目的を達成するため、本発明は、非磁性基体上に強
磁性金ｍＮを形成したものにおいて、その強磁性金属層
上にニッケルと鉄と酸素系の保護膜を形成したことを特
徴とするものである。

前述の目的を達成するため５さらに本発明は。

非磁性基体上に強磁性金属層を形成したものにおいて、
その強磁性金属層上にニッケルと鉄とクロムと酸素系の
保ｉ膜を形成したことを特徴とするものである。

前述の目的を達成するため、さらに本発明は、非磁性基
体上に強磁性金属層を形成したものにおいて、その強磁
性金属層上にニッケルと鉄と酸素系の保Ｍ膜を形成し、
その保２！膿の上に例えば脂肪族系潤滑剤などからなる
潤滑層を設けたことを特徴とするものである。

前述の目的を達成するため、さらに本発明は。

非磁性基体上に強磁性金属層を形成したものにおいて、
その強磁性金属層の上にニッケルと鉄とクロムと酸素系
の保護膜を形成し、その保護膜の上に例えば脂肪族系潤
滑剤などからなる′ｃＪ？！？層を設けたことを特徴と
するものである。

〔実施例〕

本発明において、前記非磁性基板としては例えばポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、
ポリエステルフィルムなど一般に用いら九るプラスチッ
クフィルムの他に、炭素繊維や銅、シリコンなどの無機
物質を混入あるいは上塗りした複合基体、あるいはアル
ミニラ１１などの非磁性金属、ガラスなども用いられる
。

強磁性金属層を形成する材料としては、例えばＣｏ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｆｅ。

Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒなどの金属あ
るいは合金、またはこれらの酸化物が用いられる、この
強磁性金属層の形成手段としては。

蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ法、イオンブレーティグ
法などが適用される。

また保；？！ＩＩの形成手段としては、蒸着、スパッタ
リング、ＣＶＤ法、イオンブレーティング法などがある
。

さらに保護膜の上に潤滑層を形成すＪＬばさらに効果的
である。潤滑剤としては１例えば脂肪族系潤滑剤、フッ
素系潤滑剤、シリコーン系潤滑剤あるいは炭化水素系潤
滑剤などが好適に使用される。

前記脂肪族系潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸の金属塩
、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、Ｗ！脂肪族アルコー
ルどが使用される。前記脂肪酸としては９例えばラウリ
ル酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、オレイン酸、ステ
アリン酸、ベヘン酸などが使用される。またこ九らの金
属塩としては。

例えばマグネシウム塩、アルミニウム塩、リチウム塩、
ナトリウム塩、カルシウム塩、鉄塩、コバルト塩、Ｍ鉛
塩、バリウム塩ならびに鉛塩などが用いられる。

前記脂肪酸エステルとしては１例えばステアリン酸ブチ
ル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸モノグリセリ
ド、バルミチン酸モノグリセリド、オレイン酸モノグリ
セリドなどが使用される。

前記脂肪酸アミドとしては１例えばカプロン酸アミド、
カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド。

バルミチン酸アミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミ
ド、リノール酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミ
ドなどが使用される。

前記脂肪族アルコールとしては、例えばステアリルアル
コール、ミリスチルアルコールなどが使用される。

この他に例えばトリメチルステアリルアンモニウムクロ
ライドや塩化ステアロイルなどの塩化物、ステアリルア
ミン、ステアリルアミンアセテート、ステアリルアミン
ハイドロクロライドの如きアミン類なども使用すること
ができる。

前記フッ素系潤滑剤としては１例えばトリクロロフルオ
ロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ
アルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカルボン
酸などが使用される。これらの市版品としては具体的に
は、例えばダイキン工業社製のダイフロン＃２０、デュ
ポン社製のクライトツクスＭ、クライトツクスＨ，パイ
ダツクスＡＲ、モンテジソン社製のフオンプリンＺなど
が挙げられる。

前記シリコーン系潤滑剤としては１例えばシリコーンオ
イルや変性シリコーンオイルなどが使用される。

前記炭化水素系潤滑剤としては１例えばパラフィン、ス
クアラン、ワックスなどが使用される。

なお前記潤滑剤層は潤滑剤のみで構成することもできろ
し、また防錆剤を適量混在させてもよい。

前記防錆剤としては、例えばブチルヒドロキシアニソー
ル、ジブチルヒドロキシトルエン、ベンゾトリアゾール
、ベンゾトリアゾールラウリルアミン、ハイドロキノン
、ジメチルアミノエチレンメタクリレート、トリフェニ
ルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリ
ルトリチオホスファイト、ブチルホスフェート、ジラウ
リルチオジプロピオネート、ソルビトール、プロピレン
グリコール、ヒドロキノンなどのフェノール系、アミン
系、リン系、イオウ系、有機酸系、キ、ノン系などが使
用される。

第１図は１本発明の実施例に係る磁気記録媒体を製造す
るための真空蒸着装置の概略構成図である。

同図に示した２連式の真空蒸着装置を用い、第１真空槽
１において厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート
からなるベースフィルム３を、原反ロール２より繰出し
、直径６０ｃｍの円筒状キャン４の局面に沿って移動さ
せる。蒸発源るつぼ１３内には、ニッケルを２０重量％
含有するコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属５
がセットされている。

そして図示しない減圧手段により第１真空槽１内を５．
０Ｘ１０−’　　トールまで減圧し１強磁性金属５を加
熱蒸発せしめ、最低入射角度５０度、蒸着速度８００オ
ングストロ一ム／秒で斜め入射蒸着を開始する。それと
ともに、最低入射角部を通過するベースフィルム３に対
して供給管６から酸素ガスを吹きつけながら、ベースフ
ィルム３上にコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金
属層１４を形成する。

引き続きこのベースフィルム３を第２真空槽１２に導き
、筒状キャン１５の周面に沿って移動させ１巻取りロー
ル１１に順次巻取る６蒸発源るつぼ１６には、ニッケル
−鉄合金あるいはニッケル−鉄−クロム合金からなる保
護膜用合金８がセットされている。この第２真空槽１２
は図示しない減圧手段によって５．ＱＸＩＯ”−’　ｈ
−ルまで減圧され、前記保Ｉｌ！膜用合金８を加熱蒸発
せしめ。

最低入射角６５度で前記強磁性金属層１４上に斜め入射
蒸着する。それとともに、円筒状キャン１５の最低入射
角部を通過するベースフィルム３に対して供給管９から
酸素ガスが吹き付けられ。

強磁性金属層１４上に保護膜１７が形成される。

第２図はこのようにして製造された磁気記録媒体の拡大
断面図で、ベースフィルム３の上に、コバルト−ニッケ
ル合金の傾斜した柱状粒子の集合体からなる１５００オ
ングストロームの強磁性金属層１４が形成されている。

そしてこの強磁性金属層１４の上に、ニッケル−鉄合金
あるいはニッケル−鉄−クロム合金の傾斜した柱状粒子
の集合体からなる２００オングストロームの保ｆｉｖ４
１７が形成されている。第１図に示す真空蒸着装置を用
いて磁気記録媒体を製造することによって、前記強磁性
金属層１４の柱状粒子の傾斜方向と、保護膜１７の柱状
粒子の傾斜方向とが同じになる。

強磁性金属層１４の膜厚は、５００〜２０００オングス
トロームの範囲が適当である。一方、保護膜１７の膜厚
は、３０〜１０００オングストロームの範囲が適当であ
る。保護膜１７の膜厚が３０オングストロームより薄い
と保Ｓａの効果が十分に発揮されず、耐食性が劣る。一
方。

１０００オングストロームを超えると電磁変換特性が低
下するため、保ｆｆ１ｌｌ１７の膜厚は前述の範囲に規
制する方がよい。

なお１強磁性金属層１４ならびに保ｉｊ！膜１７の組成
は、オージェ電子分光法により層（［）の深さ方向の分
析を行って、それの平均値で求めることによって特定さ
れ０゜ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、コバルト８
０ｆｆｉ量％−ニッケル２０重量％のコバルト−ニッケ
ル合金からなる強磁性金属層を形成し。

その上に保護膜を形成しないものと、ニッケル−酸素系
の保護膜を形成したもの、ならびにニッケル−鉄−酸素
系の保護膜を形成したものをそれぞれ作り、それら試料
磁気テープの各特性を次の表１に示す。

この表１において、試料＆ｌは保護膜を形成しないもの
、試料Ｎｏ　２〜４はニッケル−酸素系保護膜を形成し
たもの、試料Ｎａ５〜１３はニッケル−鉄−酸素系保護
りを形成したものである。従って酸素原子比の槽中で試
料勲２〜４のものは０／（Ｎ　ｉ　＋Ｏ）　（ＤｆＪＫ
’！−比を、試料ＮＱ５〜１３のものはＯ／　（Ｎ　ｉ
　＋　Ｆ　ｅ　＋Ｏ）の原子比を示す、また鉄原子比は
、Ｆｅ／（Ｎｉ＋Ｆｅ）の原子比を示している。

再生出力特性は、ＶＦ（Ｓ方式のＶＴＲを用いて波長０
．７５μｍ″ｒ！測定し、保護膜なしの試料磁気テープ
（試料勤１）の再生出力をＯｄＢとした場合の他の磁気
テープの相対再生出力値を示している。

スチル寿命特性は、ＶＨ５方式のＶＴＲを用いて磁気テ
ープのスチル試験を行い、そのスチル時間を測定した。

テスト１は高温高湿テス１−で、６０℃、９０％Ｒ，Ｈ
の条件下で試料磁気テープを１週間静はしたときの、テ
スト・前後の飽和磁化の減少５＄（％）を（イ）欄に、
またテスト後の磁気テープの表面状態を光学ｖｙｔｍで
［察して評価した結果を（ロ）欄にそ、れぞれ示した。

テスト２は腐食性ガステストで、ＳＯ２をＩＰＰＭ、Ｈ
，！Ｓを０−５　Ｐ　Ｐ　Ｍ＋　Ｎ　Ｏ２をＩＰＰＭ含
有し、３５℃、７５％Ｒ，Ｈの条件下で試料磁気テープ
を２４時間静置したときの、テスト前後の飽和磁化の減
少率（％）を（イ）ＩＩに、またテスト後の磁気テープ
の表面状態を光学顕微鏡で１１察して評価した結果を（
ロ）欄にそオしぞれ示した。

なお、前記テスト１の（ロ）瀾ならびにテスト２の（ロ
）欄において、０印は腐食点がないもの。

Δ印は僅かに腐食点があるもの、ｘ印は腐食したものを
それぞれ示す。

この表から明らかなように、保護膜を設けない場合（試
料Ｎ（１１）は、スチル寿命が短く、高温多湿テスト（
テスト１）ならびに腐食Ｒ境テスト（テスト２）での飽
和磁化の減少率が大で、テープ表面の腐食が目立つ、磁
気テープの表面にニッケル−酸素系の保護膜を形成する
こと（試料Ｎα２〜４）によってスチル寿命が延びるが
、高温多湿テスト（テスト１）ならびに腐食性ガステス
ト（テスト２）が悪く、特に腐食性ガステストでは飽和
磁化の減少が大きく、テープ表面の腐食が著しく耐食性
が悪い。

これらに比較してニッケル−鉄−酸素系の保護膜を形成
する（試料陽５〜１３）ことによって、大体のものにお
いてスチル寿命が延び、高温多湿テスト（テスト１）な
らびに腐食性ガステスト（テスト２）において良好な結
果が得られている。

特に試料Ｎα６，８，９，１０．１２のように酸素原子
比０／　（Ｎ　ｉ＋　Ｆ　ａ　＋Ｏ）が０．１〜０．４
５の範囲内であり、かつ鉄原子比Ｆｅ／（Ｎｉ＋Ｆｅ）
が０．０５〜０．６の範囲のものは耐久性に優れ、電磁
変換特性の劣化を防ぎ、しかも高温多湿ならびに腐食性
ガス雰囲気においても優れた耐食性を有している。

、　また、コバルト８０重量％−ニッケル２０重量％の
コバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属層を用い、
保護膜中の酸素原子濃度を２５％と一定にしてニッケル
と鉄ヒクロムの組成を変えた各種のｍ気テープをつくり
、それら試料磁気テープの耐腐食性、耐摩耗性ならびに
再生出力特性を調べた。

前記磁気テープの耐ｊ５ｊ食性は、各試料磁気テープを
１１Ｓを０　、５　Ｐ　Ｐ　Ｖｉ、　Ｎｏ、！をＩＰＰ
Ｍ。

ＳＯｚをＩ　Ｐ　Ｐ　Ｎ、を含有した３５℃、７５％Ｒ
，Ｈの雰囲気で２４時間放置して、そのときの飽和磁化
の劣下率を調べ、その結果を第３図に示した。

図中の斜線部分が劣化率７％以下の領域である。

この図から明らかなように、原子比でＣｒ／　（Ｎｔ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．０３〜０．３の範
囲が耐腐食性に優れていることが分かる。

前記磁気テープの耐摩耗性は、ＶＨ３方式のＶＴＲを用
いてスチル試験を行い、スチル時間によって耐摩耗性を
評価し、その結果を第４図に示した６図中の斜線部分は
、スチル時間が６０分間以上の領域を示す。

この図から明らかなように、原子比でＮ　ｉ／　（Ｎ　ｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．４〜１．０の
範囲が耐摩耗性に優れていることが分かる。

前記磁気テープの再生出力特性は、ＶＨ８方式のＶＴＲ
を用いて波長０．７５μｍで測定し、その結果を第５図
に示した６図中の斜線部分は、保護膜なしの比較磁気テ
ープの再生出力をＯｄＢとした場合、再生出力が−１，
ＯｄＢ以上の領域を示す。

この図から明らかなように、ｙＫ子比で。

Ｃｒ／　（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．０〜０．３０の範
囲。

Ｆｅ／　（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．０５〜Ｌ、Ｏの範
囲が再生出力特性に優れていることが分かる。

第３図、第４図ならびに第５図の結果を総合して耐腐食
性、耐摩耗性ならびに再生出力特性に優れた領域の組成
を示したのが第６図である。

この図から明らかなように、原子比でＮｉ／　（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．４〜０．９２の範
囲。

Ｆｅ／　（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．０５〜０．５７の
範囲、Ｃｒ／　（Ｎ　ｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．０３〜０
．３の範囲にそれぞれ規制することによって、優れた耐
腐食性、耐摩耗性ならびに再生出力特性を有する磁気記
録媒体が得られることが分かった。

前記特性試験は、保護膜中の酸素原子濃度を一定（２５
％）にしてニッケル、鉄ならびにクロムの組成を種々変
えた場合の特性を調べたが、次に原子比で。

Ｎｉ／　（Ｎｔ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）　　を０．７６、Ｆ　ｅ
／　（Ｎ　ｉ　＋Ｆ　ｅ　＋Ｃｒ）　　を０．１９゜Ｃ
ｒ／　（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）　　を０．０５にそ第１ぞ
れ固定して、磁性層中に才？けるｒ＊素含有率を変ｆヒ
させた場合の試験結果を次の表２に示す。

表２この表において酸素原子比は、　Ｏ／　（Ｎ　ｉ　＋Ｆ
ｅ　＋　Ｃｒ　＋　Ｏ）の比率を示している。再生出力
は第５図を用いて説明した再生出力試験と同一の条件で
試験を行い、各試料磁気テープの再生出力を調べた。ス
チル寿命は、第４図を用いて説明したスチル試験と同一
の電性で試験を行い、各試料磁気テープのスチル時間を
測定した。

テスト１は高温高温テストで、試料磁気テープを６０℃
、９０％Ｒ，Ｈの条件下で１週間静首したときの、テス
ト前後の飽和磁化の減少率Ｃ％）を（イ）ａに、テスト
後の磁気テープの表面状態を光学顕微鏡でｗｌｔｍｂで
評価した結果を（ロ）Ｗにそれぞれ示す。

またテスト２は腐食性ガステストで、Ｓ　ＯｚをＩＰＰ
Ｍ、Ｈ２ＳをＯ−５Ｐ　Ｐ　Ｍ　＊　Ｎ　Ｏ２をＩＰＰ
Ｍ含有し、３５℃、７５％Ｒ，Ｈの雰囲気に試料磁気テ
ープを２４時間静置したどきの、テスト前後の飽和磁化
の減少率（％）を（イ）Ｗに、テスト後の磁気テープの
表面状態を光学類＊ａで観察して評価した結果を（ロ）
１ｍにそれぞれ示す、なお、前記テスト１の（ロ）欄な
らびにテスト２の１）Ｈにおいて、０印は腐食点がない
もの、Δ印は僅かに腐食点があるもの、Ｘ印は腐食した
ものをそれぞれ示している。

この表２から明らかなように、原子比で０／（Ｎｉ−Ｆ
ｅ−Ｃｒ−０）が０．１０〜０．４５の範囲に規制され
たもの（試料Ｎｏ１６〜１９）は、他の試料磁気テープ
に比較して再生出力特性、耐摩耗性からびに耐腐食性に
優れいる。

前述のように強磁性金属層上にＮ　ｉ　−Ｆ　ｅ　−Ｃ
ｒ−○系の保護膜を形成する場合、原子比で０／　（Ｎ
　ｉ　＋　Ｆ　ａ　＋Ｃｒ　＋Ｏ）　が０．１０〜０．
４５の範囲に規制されたものは、硬い酸化物と靭性のあ
る金属とが適度に混在して、十分な耐摩耗性が付与でき
る。この原子比が０．１０未満になると保護膜が柔らか
くなり過ぎて耐久性に問題があり、一方、原子比が０．
４５を超えると保護膜に脆化が起るとともに１．電磁変
換特性の劣化を防止することができなくなる。

また原子比でＮｉ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．４〜０
．９２の範囲に規制されたものは、十分な耐摩耗性を有
する。この原子比が０．４未満であると酸素原子比を前
述の範囲内としても十分な耐摩耗性が得られない。

さらに原子比でＦ　ｅ／（Ｎ　ｌ　＋　Ｆ　ｅ　＋Ｃｒ
）が０１０５〜０．５７の範囲に規制されたものは、耐
腐食性に優れ、しかも飽和磁化を高めて再生出力を向上
させることができる。その原子比が０．０５未満である
と十分に飽和磁化を高めることができず、一方、原子比
が０．５７を超えるとＮｉとＣｒの組成が低下してしま
い、特番；耐摩耗性に問題がある。

また、Ｃｒ／　（Ｎｔ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）が０．０３〜０．
３の範囲に規制されたものは、耐腐食性に優れ。

しかも再生出力の低下がない。その原子比が０．０３未
満では耐食性に開題があり、一方、原子比が０．３を超
えると保護膜の磁性が失われて、再生出力が低下する。

第７図は１本発明の他の実施例に係る磁気記録媒体の拡
大断面図である。第２図に示した磁気記録媒体と相違す
る点は、Ｎｉ−Ｆｅ−０系あるいはＮｉ−Ｆｅ−Ｃｒ−
０系からなる保護膜１７上に、さらに潤滑層１８が形成
されている点である。

潤滑層１８には前述したように例えば脂肪族系潤滑剤、
フッ素系潤滑剤、シリコーン系潤滑剤あるいは炭化水素
系潤滑剤などが用いられ、必要に応じて防錆剤が混入さ
れる。

本発明の磁気記録媒体は、例えば磁気テープ。

磁気ディスクあるいは磁気カードなどに用いられる。

〔発明の効果〕

本発明は前述のような構成になっており、磁性を有する
保護膜であるためスペーシングロスが減少し、再生出力
特性を劣化することなく、耐腐食性ならびに耐摩耗性を
著しく向上することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体を製造する真空蒸着装置
の概略構成図、第２図は本発明の実施例に係る磁気記録
媒体の拡大断面図、第３図は耐腐食性の特性図、第４図
は耐摩耗性の特性図、第５図は再生出力特性図、第６図
はトータル特性図。第７図は本発明の他の実施例に係る磁気記０媒体の拡大
断面図である。３・・・・・・ベースフィルム、１４・・・・・・強磁
性金属層。１７・・・・・・保護膜、１８・・・・・・潤滑層。第１図第２図第７図第３図Ｎｉ第４図Ｎｉ第５図ＮｉｅＮｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ第６図ＮｉｅＮｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性基体上に強磁性金属層を形成したものにお
いて、前記強磁性金属層の上にニッケル−鉄−酸素系の
保護膜が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
。
（２）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記強
磁性金属がコバルト単独またはコバルトを主成分とする
コバルト合金であることを特徴とする磁気記録媒体。
（３）特許請求の範囲第（１）項または第（２）項記載
において、前記強磁性金属層が傾斜した柱状粒子の集合
体であることを特徴とする磁気記録媒体。
（４）特許請求の範囲第（１）項または第（２）項記載
において、前記保護膜中のＯ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｏ）の原
子比が０．１〜０．４５の範囲に規制されていることを
特徴とする磁気記録媒体。
（５）特許請求の範囲第（１）項または第（４）項記載
において、前記保護膜中のＦｅ／（Ｎｉ＋Ｆｅ）の原子
比が０．０５〜０．６０の範囲に規制されいることを特
徴とする磁気記録媒体。
（６）特許請求の範囲第（１）項、第（４）項または第
（５）項記載において、前記保護膜が傾斜した柱状粒子
の集合体であることを特徴とする磁気記録媒体。
（７）非磁性基体上に強磁性金属層を形成したものにお
いて、前記強磁性金属層の上にニッケル−鉄−クロム−
酸素系の保護膜が形成されていることを特徴とする磁気
記録媒体。
（８）特許請求の範囲第（７）項記載において、前記強
磁性金属がコバルト単独またはコバルトを主成分とする
コバルト合金であることを特徴とする磁気記録媒体。
（９）特許請求の範囲第（７）項または第（８）項記載
において、前記強磁性金属層が傾斜した柱状粒子の集合
体であることを特徴とする磁気記録媒体。
（１０）特許請求の範囲第（７）項または第（８）項記
載において、前記保護膜中のＮｉ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ
）の原子比が０．４〜０．９２の範囲に規制されている
ことを特徴とする磁気記録媒体。
（１１）特許請求の範囲第（７）項または第（１０）項
記載において、前記保護膜中のＦｅ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃ
ｒ）の原子比が０．０５〜０．５７の範囲に規制されて
いることを特徴とする磁気記録媒体。
（１２）特許請求の範囲第（７）項、第（１０）項また
は第（１１）項記載において、前記保護膜中のＣｒ／（
Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）の原子比が０．０３〜０．３の範囲
に規制されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（１３）特許請求の範囲第（７）項、第（１０）項、第
（１１）項または第（１２）項記載において、前記保護
膜中のＯ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ＋Ｏ）の原子比が０．１
０〜０．４５の範囲に規制されていることを特徴とする
磁気記録媒体。
（１４）特許請求の範囲第（７）項、第（１０）項、第
（１１）項、第（１２）項または第（１３）項記載にお
いて、前記保護膜が傾斜した柱状粒子の集合体であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
（１５）非磁性基板上に強磁性金属層を形成したものに
おいて、その強磁性金属層の上にニッケル−鉄−酸素系
の保護膜を形成し、その保護膜の上に潤滑層を設けたこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
（１６）特許請求の範囲第（１５）項記載において、前
記保護膜中のＯ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ＋Ｏ）の原子比が
０．１〜０．４５の範囲に規制され、Ｆｅ／（Ｎｉ＋Ｆ
ｅ）の原子比が０．０５〜０．６０の範囲に規制されて
いることを特徴とする磁気記録媒体。
（１７）特許請求の範囲第（１５）項または第（１６）
項記載において、前記保護膜が傾斜した柱状粒子の集合
体からなることを特徴とする磁気記録媒体。
（１８）特許請求の範囲第（１５）項記載において、前
記潤滑層が脂肪族系潤滑剤で構成されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
（１９）特許請求の範囲第（１５）項記載において、前
記潤滑層がフッ索系潤滑剤で構成されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
（２０）特許請求の範囲第（１５）項記載において、前
記潤滑層がシリコーン系潤滑剤で構成されたていること
を特徴とする磁気記録媒体。
（２１）特許請求の範囲第（１５）項記載において、前
記潤滑層が炭化水素系潤滑剤で構成されていることを特
徴とする磁気記録媒体。
（２２）非磁性基板上に強磁性金属層を形成したものに
おいて、その強磁性金属層の上にニッケル−鉄−クロム
−酸素系の保護膜を形成し、その保護膜の上に潤滑層を
設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
（２３）特許請求の範囲第（２２）項記載において、前
記保護膜中のＮｉ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）の原子比が０
．４〜０、０２、Ｆｅ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）の原子比
が０．０５〜０．５７、Ｃｒ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ）の
原子比が０．０３〜０．３、Ｏ／（Ｎｉ＋Ｆｅ＋Ｃｒ＋
Ｏ）の原子比が０．１０〜０．４５の範囲にそれぞれ規
制されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（２４）特許請求の範囲第（２２）項または第（２３）
項記載において、前記保護膜が傾斜した柱状粒子の集合
体であることを特徴とする磁気記録媒体。
（２５）特許請求の範囲第（２２）項記載において、前
記潤滑が脂肪族系潤滑剤で構成されていることを特徴と
する磁気記録媒体。
（２６）特許請求の範囲第（２２）項記載において、前
記潤滑層がフッ素系潤滑剤で構成されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
（２７）特許請求の範囲第（２２）項記載において、前
記潤滑層がシリコーン系潤滑剤で構成されていることを
特徴とする磁気記録媒体。
（２８）特許請求の範囲第（２２）項記載において、前
記潤滑層が炭化水素系潤滑剤で構成されていることを特
徴とする磁気記録媒体。