JPH0132572B2 - - Google Patents
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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Description
本発明は、ベーパーデポジシヨンによる磁性薄
膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関し、特に
走行性、耐摩耗性にすぐれたベーパーデポジシヨ
ン型磁気記録媒体に関する。 従来より磁気記録媒体としては非磁性支持体上
にγ−Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe2O3、
Fe3O4、CoをドープしたFe3O4、γ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、CrO2等の酸化物磁
性粉末あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材料
を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−
ブタジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめ塗布、
乾燥させる塗布型のものが広く使用されてきてい
る。近年高密度記録への要求の高まりと共に真空
蒸着、スパツタリング、イオンプレーテング等の
ベーパーデポジシヨン法あるいは電気メツキ、無
電解メツキ等のメツキ法により形成される強磁性
金属薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用
しないいわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が注目を
浴びており実用化への努力が種々行われている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和
磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄型化が信号出
力の低下をもたらすため限界にきており、かつそ
の製造工程も複雑で溶剤回収あるいは公害防止の
ための大きな附帯設備を要するという欠点を有し
ている。金属薄膜型の磁気記録媒体では酸化物よ
り大きな飽和磁化を有する強磁性金属をバインダ
ーの如き非磁性物質を介在させない状態で、極め
て薄い薄膜として形成できるという利点を有す
る。金属薄膜型磁気記録媒体のうちでも膜の形成
を気相状態から行なうペーパーデポジシヨン型磁
気記録媒体は、膜の形成速度の速いこと、製造工
程が簡単であること、あるいは排液処理等の必要
のないこと等の利点を有する。 しかしベーパーデポジシヨン型薄膜磁気記録媒
体についての大きな問題の一つに腐蝕、衝撃およ
び摩擦強度に関する問題がある。即ち磁気信号の
記録、再生および消去の過程において磁気ヘツド
との相対運動のもとにおかれ磁気ヘツドとの接触
による摩擦もしくは破壊の起る可能性が大きい。
これ迄ベーパーデポジシヨン型の磁気記録媒体は
バインダー等を含まぬため磁気ヘツドとの接触褶
動時に傷がつき磁気記録層がけずりとられ易かつ
た。0.2μm程度の高分子物質のフイルム等をオー
バーコートする方法等が試みられているが、これ
はスペーシング損失により高密度記録の際には出
力ダウンとなり望ましくない。 このような欠点を除くために潤滑剤をテープ表
面にうすく塗ると磁気ヘツドと金属薄膜の摩擦が
低減し、すり傷がつきにくくなることは知られて
いるが、この場合潤滑剤を塗つた効果は長続きせ
ず、磁気テープを使用しているうちに急激に摩擦
の増加あるいは磁性膜の破壊が発生してしまう。 本発明の目的は、走行性および耐摩耗性にすぐ
れたベーパーデポジシヨン型磁気記録媒体を提供
することにある。さらに本発明の目的は、走行性
および耐摩耗性の改良効果が長く持続するベーパ
ーデポジシヨン型磁気記録媒体を提供することに
ある。 本発明者等は金属薄膜磁気記録媒体について鋭
意検討の結果、柱状構造を有するベーパーデポジ
シヨン磁性膜を形成し、該柱状構造の隙間に潤滑
剤を充填せしめる事により、走行性および耐摩耗
性が著しく改良されると共にこの改良効果が長期
に渡つて持続することを見出したものである。す
なわち本発明は、ベーパーデポジシヨンにより形
成された磁性金属薄膜を構成する柱状構造体の隙
間に潤滑剤を充填したことを特徴とする磁気記録
媒体である。 第1図は、本発明による磁気記録媒体の一例を
図式的に示したものである。磁気記録媒体1は、
非磁性基体2およびその上にベーパーデポジシヨ
ン法により形成された磁性金属薄膜層3より構成
される。磁性金属薄膜層3は柱状構造体4から成
つていて、柱状構造体4の間の隙間には潤滑剤5
が充填されている。ここで介在させると云うの
は、柱状構造体4の間の隙間の空間の一部あるい
は全部に渡つて所在させると云うことで、柱状構
造体の壁に潤滑剤を吸着させることももちろん含
まれる。 本発明においてベーパーデポジシヨン法とは気
体あるいは真空空間中において析出させようとい
う物質またはその化合物を蒸気あるいはイオン化
した蒸気として基体上に析出させる方法で真空蒸
着法、スパツタリング法、イオンプレーテイング
法、化学気相メツキ(Chemical Vapor
Deposition)法等がこれに相当する。 ベーパーデポジシヨン法においては、これらの
条件は方法、物質によつて大きく変るが大凡の特
異点は次の第1表の通りである。
膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関し、特に
走行性、耐摩耗性にすぐれたベーパーデポジシヨ
ン型磁気記録媒体に関する。 従来より磁気記録媒体としては非磁性支持体上
にγ−Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe2O3、
Fe3O4、CoをドープしたFe3O4、γ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、CrO2等の酸化物磁
性粉末あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材料
を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−
ブタジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめ塗布、
乾燥させる塗布型のものが広く使用されてきてい
る。近年高密度記録への要求の高まりと共に真空
蒸着、スパツタリング、イオンプレーテング等の
ベーパーデポジシヨン法あるいは電気メツキ、無
電解メツキ等のメツキ法により形成される強磁性
金属薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用
しないいわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が注目を
浴びており実用化への努力が種々行われている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和
磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄型化が信号出
力の低下をもたらすため限界にきており、かつそ
の製造工程も複雑で溶剤回収あるいは公害防止の
ための大きな附帯設備を要するという欠点を有し
ている。金属薄膜型の磁気記録媒体では酸化物よ
り大きな飽和磁化を有する強磁性金属をバインダ
ーの如き非磁性物質を介在させない状態で、極め
て薄い薄膜として形成できるという利点を有す
る。金属薄膜型磁気記録媒体のうちでも膜の形成
を気相状態から行なうペーパーデポジシヨン型磁
気記録媒体は、膜の形成速度の速いこと、製造工
程が簡単であること、あるいは排液処理等の必要
のないこと等の利点を有する。 しかしベーパーデポジシヨン型薄膜磁気記録媒
体についての大きな問題の一つに腐蝕、衝撃およ
び摩擦強度に関する問題がある。即ち磁気信号の
記録、再生および消去の過程において磁気ヘツド
との相対運動のもとにおかれ磁気ヘツドとの接触
による摩擦もしくは破壊の起る可能性が大きい。
これ迄ベーパーデポジシヨン型の磁気記録媒体は
バインダー等を含まぬため磁気ヘツドとの接触褶
動時に傷がつき磁気記録層がけずりとられ易かつ
た。0.2μm程度の高分子物質のフイルム等をオー
バーコートする方法等が試みられているが、これ
はスペーシング損失により高密度記録の際には出
力ダウンとなり望ましくない。 このような欠点を除くために潤滑剤をテープ表
面にうすく塗ると磁気ヘツドと金属薄膜の摩擦が
低減し、すり傷がつきにくくなることは知られて
いるが、この場合潤滑剤を塗つた効果は長続きせ
ず、磁気テープを使用しているうちに急激に摩擦
の増加あるいは磁性膜の破壊が発生してしまう。 本発明の目的は、走行性および耐摩耗性にすぐ
れたベーパーデポジシヨン型磁気記録媒体を提供
することにある。さらに本発明の目的は、走行性
および耐摩耗性の改良効果が長く持続するベーパ
ーデポジシヨン型磁気記録媒体を提供することに
ある。 本発明者等は金属薄膜磁気記録媒体について鋭
意検討の結果、柱状構造を有するベーパーデポジ
シヨン磁性膜を形成し、該柱状構造の隙間に潤滑
剤を充填せしめる事により、走行性および耐摩耗
性が著しく改良されると共にこの改良効果が長期
に渡つて持続することを見出したものである。す
なわち本発明は、ベーパーデポジシヨンにより形
成された磁性金属薄膜を構成する柱状構造体の隙
間に潤滑剤を充填したことを特徴とする磁気記録
媒体である。 第1図は、本発明による磁気記録媒体の一例を
図式的に示したものである。磁気記録媒体1は、
非磁性基体2およびその上にベーパーデポジシヨ
ン法により形成された磁性金属薄膜層3より構成
される。磁性金属薄膜層3は柱状構造体4から成
つていて、柱状構造体4の間の隙間には潤滑剤5
が充填されている。ここで介在させると云うの
は、柱状構造体4の間の隙間の空間の一部あるい
は全部に渡つて所在させると云うことで、柱状構
造体の壁に潤滑剤を吸着させることももちろん含
まれる。 本発明においてベーパーデポジシヨン法とは気
体あるいは真空空間中において析出させようとい
う物質またはその化合物を蒸気あるいはイオン化
した蒸気として基体上に析出させる方法で真空蒸
着法、スパツタリング法、イオンプレーテイング
法、化学気相メツキ(Chemical Vapor
Deposition)法等がこれに相当する。 ベーパーデポジシヨン法においては、これらの
条件は方法、物質によつて大きく変るが大凡の特
異点は次の第1表の通りである。
【表】
さらに本発明において磁気記録層となるべき強
磁性金属層としては鉄、コバルト、ニツケルその
他の強磁性金属あるいはFe−Co、Fe−Ni、Co
−Ni、Fe−Si、Fe−Rh、Co−P、Co−B、Co
−Si、Co−V、Co−Y、Co−La、Co−Ce、Co
−Pr、Co−Sm、Co−Pt、Co−Mn、Fe−Co−
Ni、Co−Ni−P、Co−Ni−B、Co−Ni−Ag、
Co−Ni−Na、Co−Ni−Ce、Co−Ni−Zn、Co
−Ni−Cu、Co−Ni−W、Co−Ni−Re、Co−
Sm−Cu等の強磁性合金をベーパーデポジシヨン
法によつて薄膜状に形成せしめたもので、その膜
厚は磁気記録媒体として使用する場合0.05μm〜
2μmの範囲であり特に0.1μm〜0.4μmが好まし
い。 これらのベーパーデポジシヨン法による形成法
については例えばL.Holland著“Vacuum
Deposition of Thin Films”(Chapman&Hall
Ltd、1956);L.I.Maissel&R.Glang共編
“Handbook of Thin Film Technology”
McGraw−Hill Co.、1970);米国特許2671034
号;同3329601号;同3342632号;同3342633号;
同3516860号;同3615911号;同3625849号;同
3700500号;同3772174号;同3775179号;同
3787237号;同3856579号等の明細書に述べられて
いる。 磁性金属薄膜層を柱状構造を有すると共に、柱
状構造の間に潤滑剤を充填するための隙間を有す
る磁性金属薄膜を形成せしめる方法として特に好
ましいのは斜め蒸着法である。斜め蒸着法とは強
磁性金属の蒸着ビームを基板表面に対して斜めに
入射させて磁性金属薄膜を形成させる方法で、こ
の方法による磁性金属薄膜は隙間を有する柱状構
造を有するのみならず、高密度磁気記録媒体とし
て望ましい磁気特性をも有する。斜め蒸着の際の
蒸発ビームの入射角は50゜以上が好ましく、この
際第1図に示すように基体2の表面に対し長軸が
斜めに傾斜した柱状構造を有する膜が形成され
る。柱状構造の長軸の膜面垂線に対する角度は通
常蒸発ビームの入射角より小さく、柱状構造間の
隙間の磁性金属薄膜層3における体積含有率は蒸
発ビームの入射角を50゜以上とした時10%〜60%
の範囲で変化し得る。 本発明に用いられる潤滑剤としては、カプリル
酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール
酸等の炭素数12〜18個の脂肪酸(R1COOH:R1
は炭素数11〜17個のアルキルまたはアルケニル
基);前記の脂肪酸エステルの弗素を含有した化
合物;前記の脂肪酸のアミド;ポリアルキレンオ
キサイドアルキルリン酸エステル;ジアルキルポ
リシロキサン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジ
アルコキシポリシロキサン(アルコキシは炭素数
1〜4個)、モノアルキルモノアルコキシポリシ
ロキサン(アルキルは炭素数1〜5個、アルコキ
シは炭素数1〜4個)、フエニルポリシロキサン、
フロロアルキルポリシロキサン(アルキルは炭素
数1〜5個)などのシリコンオイル;炭素数12〜
20個の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一価の
アルコールから成る脂肪酸エステル類がある。こ
の他は炭素数12〜22個の飽和脂肪酸残基を有した
高級アルコール、およびこれらの他に硫酸エステ
ル、四級アンモニウム塩等も使用可能である。 上記の潤滑剤の一部は特開昭50−114205号
(US3、993、824)、同50−136009号、同52−
70811号、同52−108804号、同53−19004号、同53
−24806号、同53−42706号、同53−42707号、同
54−11703号、同54−14711号、同54−21806号等
に記載されている。 潤滑剤を柱状構造の隙間に充填するには、上記
の潤滑剤を有機溶媒に溶かしたものを、柱状構造
を有する磁性金属薄膜に塗布し乾燥する方法が用
いられ、隙間への潤滑剤の滲透を促進するために
超音波を磁性金属薄膜に印加すると良い。又、塗
布、乾燥後に加熱ロールあるいは赤外線光の照射
で、隙間に溶かし込むことも有効である。さらに
潤滑剤を隙間に充填する方法としては柱状構造の
長軸に沿つた方向から磁性金属薄膜に向けて上記
の潤滑剤の蒸発ビームを入射させ、蒸着を行つて
も良い。磁性金属薄膜の柱状構造の隙間を充填し
た上に、さらに薄膜表面上にも潤滑剤層が厚く形
成される場合には、スペーシング損失の原因にな
るので有機溶媒等により潤滑剤を拭き取るのが好
ましい。磁性金属薄膜層に含有させる潤滑剤の量
としては、一般には2〜200mg/m2で、好ましく
は5〜100mg/m2である。さらに、好ましくは5
〜60mg/m2である。また、潤滑剤含有量の適正値
は、柱状構造体の集合である本発明の磁性金属薄
膜の膜厚に関連している。すなわち、膜厚の増大
とともに前記柱状構造体は磁性金属薄膜の厚さ方
向に成長するだけではなく、面内方向にも成長し
磁性金属薄膜の表面付近における隙間が次第に減
少する。従つて、適正な柱状構造を形成するのに
望ましい膜厚は、0.05〜0.4μmであり、この膜厚
の範囲における潤滑剤含有量は、5〜60mg/m2が
好ましい。塗布溶媒に使用する有機溶媒として
は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール等の炭素数1〜10個のアルコール類;酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢
酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル
類;エーテル、グリコールジメチルエーテル、グ
リコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグ
リコールエーテル類;ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素
類;ベンゼン、トルエン、キシレン等のタール類
(芳香族炭化水素);メチレンクロライド、エチレ
ンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチ
レンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素
化炭化水素類等のものが選択して使用できる。 潤滑剤と共に防錆剤(特開昭51−63494号、53
−41204号参照)あるいは防黴剤(特願昭54−
26880号参照)等を所望に応じて柱状構造の隙間
に充填させても良い。 以下実施例によつて本発明を具体的に説明する
が、本発明は下記の実施例に制限されるものでは
無い。 実施例 1 20μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にコバルト磁性膜(膜厚0.2μm)を斜め蒸着
し磁気テープとした。蒸発源としては電子ビーム
蒸発源を使用し、これに99.95%の純度のコバル
トをチヤージし真空度5×10-5Torr中にて入射
角が70゜となるよう斜め蒸着を行なつた。SEM
(走査型電子顕微鏡)による観察では柱状構造の
長軸の膜面垂線に対する角度は50゜であり、柱状
構造間の隙間の体積含有率は20%であつた。こう
して得られた磁気テープに、n−ヘキサンの有機
溶媒に、濃度0.5wt%になるように、n−ブチル
ステアレート(C17H35COOC4H9)を溶解した潤
滑剤溶液を50mg/m2となるよう塗布して乾燥し、
潤滑剤を柱状構造の隙間に充填させた。本実施例
において潤滑剤を充填させた試料をNo.11、潤滑剤
を充填させなかつた試料をNo.12とする。 実施例 2 12μm厚のポリアミドフイルム上にCo−Ni合金
(30重量%Ni)を入射角65゜で斜め蒸着(膜厚0.3μ
m)し、柱状構造を有する磁性金属薄膜を形成さ
せて磁気テープとした。柱状構造間の隙間に下記
のように潤滑剤を充填させた。潤滑剤として
磁性金属層としては鉄、コバルト、ニツケルその
他の強磁性金属あるいはFe−Co、Fe−Ni、Co
−Ni、Fe−Si、Fe−Rh、Co−P、Co−B、Co
−Si、Co−V、Co−Y、Co−La、Co−Ce、Co
−Pr、Co−Sm、Co−Pt、Co−Mn、Fe−Co−
Ni、Co−Ni−P、Co−Ni−B、Co−Ni−Ag、
Co−Ni−Na、Co−Ni−Ce、Co−Ni−Zn、Co
−Ni−Cu、Co−Ni−W、Co−Ni−Re、Co−
Sm−Cu等の強磁性合金をベーパーデポジシヨン
法によつて薄膜状に形成せしめたもので、その膜
厚は磁気記録媒体として使用する場合0.05μm〜
2μmの範囲であり特に0.1μm〜0.4μmが好まし
い。 これらのベーパーデポジシヨン法による形成法
については例えばL.Holland著“Vacuum
Deposition of Thin Films”(Chapman&Hall
Ltd、1956);L.I.Maissel&R.Glang共編
“Handbook of Thin Film Technology”
McGraw−Hill Co.、1970);米国特許2671034
号;同3329601号;同3342632号;同3342633号;
同3516860号;同3615911号;同3625849号;同
3700500号;同3772174号;同3775179号;同
3787237号;同3856579号等の明細書に述べられて
いる。 磁性金属薄膜層を柱状構造を有すると共に、柱
状構造の間に潤滑剤を充填するための隙間を有す
る磁性金属薄膜を形成せしめる方法として特に好
ましいのは斜め蒸着法である。斜め蒸着法とは強
磁性金属の蒸着ビームを基板表面に対して斜めに
入射させて磁性金属薄膜を形成させる方法で、こ
の方法による磁性金属薄膜は隙間を有する柱状構
造を有するのみならず、高密度磁気記録媒体とし
て望ましい磁気特性をも有する。斜め蒸着の際の
蒸発ビームの入射角は50゜以上が好ましく、この
際第1図に示すように基体2の表面に対し長軸が
斜めに傾斜した柱状構造を有する膜が形成され
る。柱状構造の長軸の膜面垂線に対する角度は通
常蒸発ビームの入射角より小さく、柱状構造間の
隙間の磁性金属薄膜層3における体積含有率は蒸
発ビームの入射角を50゜以上とした時10%〜60%
の範囲で変化し得る。 本発明に用いられる潤滑剤としては、カプリル
酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール
酸等の炭素数12〜18個の脂肪酸(R1COOH:R1
は炭素数11〜17個のアルキルまたはアルケニル
基);前記の脂肪酸エステルの弗素を含有した化
合物;前記の脂肪酸のアミド;ポリアルキレンオ
キサイドアルキルリン酸エステル;ジアルキルポ
リシロキサン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジ
アルコキシポリシロキサン(アルコキシは炭素数
1〜4個)、モノアルキルモノアルコキシポリシ
ロキサン(アルキルは炭素数1〜5個、アルコキ
シは炭素数1〜4個)、フエニルポリシロキサン、
フロロアルキルポリシロキサン(アルキルは炭素
数1〜5個)などのシリコンオイル;炭素数12〜
20個の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一価の
アルコールから成る脂肪酸エステル類がある。こ
の他は炭素数12〜22個の飽和脂肪酸残基を有した
高級アルコール、およびこれらの他に硫酸エステ
ル、四級アンモニウム塩等も使用可能である。 上記の潤滑剤の一部は特開昭50−114205号
(US3、993、824)、同50−136009号、同52−
70811号、同52−108804号、同53−19004号、同53
−24806号、同53−42706号、同53−42707号、同
54−11703号、同54−14711号、同54−21806号等
に記載されている。 潤滑剤を柱状構造の隙間に充填するには、上記
の潤滑剤を有機溶媒に溶かしたものを、柱状構造
を有する磁性金属薄膜に塗布し乾燥する方法が用
いられ、隙間への潤滑剤の滲透を促進するために
超音波を磁性金属薄膜に印加すると良い。又、塗
布、乾燥後に加熱ロールあるいは赤外線光の照射
で、隙間に溶かし込むことも有効である。さらに
潤滑剤を隙間に充填する方法としては柱状構造の
長軸に沿つた方向から磁性金属薄膜に向けて上記
の潤滑剤の蒸発ビームを入射させ、蒸着を行つて
も良い。磁性金属薄膜の柱状構造の隙間を充填し
た上に、さらに薄膜表面上にも潤滑剤層が厚く形
成される場合には、スペーシング損失の原因にな
るので有機溶媒等により潤滑剤を拭き取るのが好
ましい。磁性金属薄膜層に含有させる潤滑剤の量
としては、一般には2〜200mg/m2で、好ましく
は5〜100mg/m2である。さらに、好ましくは5
〜60mg/m2である。また、潤滑剤含有量の適正値
は、柱状構造体の集合である本発明の磁性金属薄
膜の膜厚に関連している。すなわち、膜厚の増大
とともに前記柱状構造体は磁性金属薄膜の厚さ方
向に成長するだけではなく、面内方向にも成長し
磁性金属薄膜の表面付近における隙間が次第に減
少する。従つて、適正な柱状構造を形成するのに
望ましい膜厚は、0.05〜0.4μmであり、この膜厚
の範囲における潤滑剤含有量は、5〜60mg/m2が
好ましい。塗布溶媒に使用する有機溶媒として
は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール等の炭素数1〜10個のアルコール類;酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢
酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル
類;エーテル、グリコールジメチルエーテル、グ
リコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグ
リコールエーテル類;ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素
類;ベンゼン、トルエン、キシレン等のタール類
(芳香族炭化水素);メチレンクロライド、エチレ
ンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチ
レンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素
化炭化水素類等のものが選択して使用できる。 潤滑剤と共に防錆剤(特開昭51−63494号、53
−41204号参照)あるいは防黴剤(特願昭54−
26880号参照)等を所望に応じて柱状構造の隙間
に充填させても良い。 以下実施例によつて本発明を具体的に説明する
が、本発明は下記の実施例に制限されるものでは
無い。 実施例 1 20μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にコバルト磁性膜(膜厚0.2μm)を斜め蒸着
し磁気テープとした。蒸発源としては電子ビーム
蒸発源を使用し、これに99.95%の純度のコバル
トをチヤージし真空度5×10-5Torr中にて入射
角が70゜となるよう斜め蒸着を行なつた。SEM
(走査型電子顕微鏡)による観察では柱状構造の
長軸の膜面垂線に対する角度は50゜であり、柱状
構造間の隙間の体積含有率は20%であつた。こう
して得られた磁気テープに、n−ヘキサンの有機
溶媒に、濃度0.5wt%になるように、n−ブチル
ステアレート(C17H35COOC4H9)を溶解した潤
滑剤溶液を50mg/m2となるよう塗布して乾燥し、
潤滑剤を柱状構造の隙間に充填させた。本実施例
において潤滑剤を充填させた試料をNo.11、潤滑剤
を充填させなかつた試料をNo.12とする。 実施例 2 12μm厚のポリアミドフイルム上にCo−Ni合金
(30重量%Ni)を入射角65゜で斜め蒸着(膜厚0.3μ
m)し、柱状構造を有する磁性金属薄膜を形成さ
せて磁気テープとした。柱状構造間の隙間に下記
のように潤滑剤を充填させた。潤滑剤として
【式】
(但しR=C13H27)を用い、これをベンゼンの
有機溶媒に濃度0.3wt%になるように溶解した溶
液を20mg/m2となるよう超音波を印加しつつ塗布
した。本実施例において潤滑剤を柱状構造の隙間
に充填させた試料をNo.21、潤滑剤を充填させなか
つた試料をNo.22とする。 実施例 3 12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にFe−V合金(5重量%V)を入射角75゜で
斜め蒸着(膜厚0.25μm)し、柱状構造を有する
磁性金属薄膜を形成させて磁気テープとした。柱
状構造の長軸の膜面垂線に対する角度は62゜であ
り、柱状構造間の隙間の体積含有率は35%であつ
た。こうして得られた磁気テープに、潤滑剤とし
てn−オクタデカンアミド(C17H35CONH2)を
用い、これを酢酸エチルの有機溶媒に、濃度
0.1wt%になるように溶解した溶液を75mg/m2と
なるよう超音波を印加しつつ塗布し、潤滑剤を柱
状構造の隙間に充填させた。本実施例において潤
滑剤を充填させた試料をNo.31、潤滑剤を充填させ
なかつた試料をNo.32とする。 実施例 4 12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にCo−V合金(10重量%V)を入射角70゜で
斜め蒸着(膜厚0.2μm)し、柱状構造を有する磁
性金属薄膜を形成させて磁気テープとした。柱状
構造間の隙間に下記のように潤滑剤を充填させ
た。イソプロピルアルコールの有機溶媒に、濃度
0.8wt%になるように、潤滑剤ミリスチン酸
(C13H23COOH)を溶解した溶液を40mg/m2とな
るよう塗布乾燥し、潤滑剤を柱状構造の隙間に充
填させた。本実施例において潤滑剤を充填させた
試料をNo.41、潤滑剤を充填させなかつた試料をNo.
42とする。 比較例 12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に下記の方法によつてコバルト磁性薄膜を、
膜厚0.2μmとなるよう無電解メツキした。
有機溶媒に濃度0.3wt%になるように溶解した溶
液を20mg/m2となるよう超音波を印加しつつ塗布
した。本実施例において潤滑剤を柱状構造の隙間
に充填させた試料をNo.21、潤滑剤を充填させなか
つた試料をNo.22とする。 実施例 3 12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にFe−V合金(5重量%V)を入射角75゜で
斜め蒸着(膜厚0.25μm)し、柱状構造を有する
磁性金属薄膜を形成させて磁気テープとした。柱
状構造の長軸の膜面垂線に対する角度は62゜であ
り、柱状構造間の隙間の体積含有率は35%であつ
た。こうして得られた磁気テープに、潤滑剤とし
てn−オクタデカンアミド(C17H35CONH2)を
用い、これを酢酸エチルの有機溶媒に、濃度
0.1wt%になるように溶解した溶液を75mg/m2と
なるよう超音波を印加しつつ塗布し、潤滑剤を柱
状構造の隙間に充填させた。本実施例において潤
滑剤を充填させた試料をNo.31、潤滑剤を充填させ
なかつた試料をNo.32とする。 実施例 4 12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にCo−V合金(10重量%V)を入射角70゜で
斜め蒸着(膜厚0.2μm)し、柱状構造を有する磁
性金属薄膜を形成させて磁気テープとした。柱状
構造間の隙間に下記のように潤滑剤を充填させ
た。イソプロピルアルコールの有機溶媒に、濃度
0.8wt%になるように、潤滑剤ミリスチン酸
(C13H23COOH)を溶解した溶液を40mg/m2とな
るよう塗布乾燥し、潤滑剤を柱状構造の隙間に充
填させた。本実施例において潤滑剤を充填させた
試料をNo.41、潤滑剤を充填させなかつた試料をNo.
42とする。 比較例 12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に下記の方法によつてコバルト磁性薄膜を、
膜厚0.2μmとなるよう無電解メツキした。
【表】
〓(8) 水洗・乾燥
SEMによる観察では磁性薄膜には柱状構造は
見られず、ほぼ球状の結晶粒が殆んど隙間なく密
集しているのが観察された。こうして得られた磁
気テープ上に実施例1〜4と同じ方法にて潤滑剤
を塗布し、それぞれ試料No.51、No.52、No.53、No.54
を作製した。潤滑剤を塗布しなかつた試料はNo.55
とする。 上の実施例および比較例で得られた試料につ
き、次の2方法で測定した。 (1) 磁気ヘツドと磁気テープを90g/1/2インチ
の張力で押し付け毎秒38cmの速度で、−500回、
往復させた時の磁性薄膜の耐久性(スリキズ、
ハガレの程度)。 (2) 0回、20回、100回、500回、2000回往復させ
た時の動摩擦係数μの変化。 測定の結果は下記の第2表の通りであつた。
SEMによる観察では磁性薄膜には柱状構造は
見られず、ほぼ球状の結晶粒が殆んど隙間なく密
集しているのが観察された。こうして得られた磁
気テープ上に実施例1〜4と同じ方法にて潤滑剤
を塗布し、それぞれ試料No.51、No.52、No.53、No.54
を作製した。潤滑剤を塗布しなかつた試料はNo.55
とする。 上の実施例および比較例で得られた試料につ
き、次の2方法で測定した。 (1) 磁気ヘツドと磁気テープを90g/1/2インチ
の張力で押し付け毎秒38cmの速度で、−500回、
往復させた時の磁性薄膜の耐久性(スリキズ、
ハガレの程度)。 (2) 0回、20回、100回、500回、2000回往復させ
た時の動摩擦係数μの変化。 測定の結果は下記の第2表の通りであつた。
【表】
【表】
この測定結果から明らかなように本発明による
金属薄膜型磁気記録媒体は走行性および耐摩耗性
が著しく改良されているのみならず、この改良効
果が長期に渡つて持続するもので、極めて実用的
な磁気記録媒体である。
金属薄膜型磁気記録媒体は走行性および耐摩耗性
が著しく改良されているのみならず、この改良効
果が長期に渡つて持続するもので、極めて実用的
な磁気記録媒体である。
第1図は、本発明による磁気記録媒体の一例を
図式的に示すものである。
図式的に示すものである。
Claims (1)
- 1 斜め蒸着により形成された膜厚0.05〜0.4μm
の磁性金属薄膜を構成する柱状構造体の隙間に有
機潤滑剤を5〜60mg/m2充填したことを特徴とす
る磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7769279A JPS563428A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Magnetic recording medium |
DE19803022946 DE3022946A1 (de) | 1979-06-20 | 1980-06-19 | Magnetische aufzeichnungsmittel |
US06/325,939 US4503119A (en) | 1979-06-20 | 1981-11-30 | Magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7769279A JPS563428A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS563428A JPS563428A (en) | 1981-01-14 |
JPH0132572B2 true JPH0132572B2 (ja) | 1989-07-06 |
Family
ID=13640935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7769279A Granted JPS563428A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Magnetic recording medium |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4503119A (ja) |
JP (1) | JPS563428A (ja) |
DE (1) | DE3022946A1 (ja) |
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JPS57143727A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57143728A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57143729A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57164419A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
US4497865A (en) * | 1982-02-17 | 1985-02-05 | Toray Industries, Inc. | Polyethylene terephthalate film, process for the production thereof and magnetic recording medium therefrom |
JPS59185022A (ja) * | 1983-04-04 | 1984-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS605423A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-12 | Fujitsu Ltd | 連続磁性膜型磁気記録媒体 |
JPS6047229A (ja) * | 1983-08-24 | 1985-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | テ−プ状磁気記録媒体 |
JPH01182920A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH05271928A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-19 | Hitachi Ltd | 摺動部材とその製法並びにその用途 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3342633A (en) * | 1964-08-05 | 1967-09-19 | Ibm | Magnetic coating |
US3342632A (en) * | 1964-08-05 | 1967-09-19 | Ibm | Magnetic coating |
US3522090A (en) * | 1967-11-13 | 1970-07-28 | Du Pont | Reflex thermomagnetic recording members |
US4171399A (en) * | 1971-09-02 | 1979-10-16 | Corning Glass Works | Magnetic recording and storage device having high abrasion resistance and method |
JPS5630609B2 (ja) * | 1973-11-02 | 1981-07-16 | ||
GB1599161A (en) * | 1976-07-15 | 1981-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium and method of making the same |
US4305993A (en) * | 1979-10-09 | 1981-12-15 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1979
- 1979-06-20 JP JP7769279A patent/JPS563428A/ja active Granted
-
1980
- 1980-06-19 DE DE19803022946 patent/DE3022946A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-11-30 US US06/325,939 patent/US4503119A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4503119A (en) | 1985-03-05 |
JPS563428A (en) | 1981-01-14 |
DE3022946A1 (de) | 1981-01-22 |
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