JPS6182326A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は蒸着、イオンブレーティング、スパッタリング
等によって非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成して
なるいわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体に関する
ものである。

〔従来の技術〕

従来ニジ磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にｒ−
Ｆｅ２０３、Ｃｏを含有するｒ　−Ｆ　ｅ２０３、Ｆｅ
５ｏ４、ＣＯを含有するＦｅ３Ｏ４、ｒ−Ｆｅ２０３と
Ｆｅ５０．のベルトライド化合物、ｃｏを含有するベル
トライド化合物、ＣｒＯ２等の酸化物磁性粉末あるいは
Ｆｅ、　Ｃｏ　。

Ｎｉ等を主成分とする合金磁性粉末等の粉末磁性材料を
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、
ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめた
磁性塗料を塗布、乾燥させることによシ得られる塗布型
の磁気記録媒体が広く使用されている。

近年、高密度磁気記録への要求の高まシと共に、非磁性
支持体上に強磁性金属からなる金属磁性薄膜を真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、メッ
キ法等の手法を用いて直接被着形成した強磁性金属薄膜
型磁気記録媒体が注目を集めている。この強磁性金属薄
膜型磁気記録媒体は抗磁力Ｈｃや残留磁束密度Ｂｒが大
きいばかシでなく、磁性層の厚みを極めて薄くすること
が可能であるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著し
く小さいとと、磁性層中に非磁性材である有機バインダ
ーを混入する必要がないため磁性材料の充填密度を高め
ることができること等、磁気特性の点で数々の利点を有
している。

しかし、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、磁性層が金
属であるために、保存中、とくに高温ないし高湿下に放
置された場合、磁性層表面に腐食を生じやすく、このた
め飽和磁化量の如き磁気特性が経口的に劣化する問題が
あった。

そこで、上記の強磁性金属薄膜上に防錆剤を付着させる
ことによシ磁気記録媒体の耐食性を改善することが試み
られている。

例えば防錆剤として二価フェノール類を用いること（特
開昭５７−１５２５１７号）、ジアリルケトンを用いる
こと（特開昭５７−１５２５１８号）、アルキルフェノ
ールを用いるとと（特開昭５７−１５２５１９号）、ナ
フトール類を用いるとと（特開昭５７−１５２５２０号
）等が前記公報中に開示されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は、高温ないし高湿下に於ても磁性層表面に錆が
ほとんど発生せず、磁気特性の経口変化の少ない強磁性
金属薄膜型の磁気記録媒体を提供することを目的とし、
更には新規な防錆剤を用いることによシ、上述の問題点
を解決しようとするものである。

〔問題点を解決するだめの手段〕

すなわち本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体上
に強磁性金属薄膜を形成し、上記強磁性金属薄膜に、ア
ミノ基若しくはイミノ基を有し、かつ窒素原子を含む複
素環化合物を主成分とする防錆剤を付着させたことを特
徴とするものである。

本発明において防錆剤として使用されるアミノ基若しく
はイミノ基を有し、かつ窒素原子を含む複素環化合物と
しては、２−アミノベンズイミダゾール、５−アミノ−
ＩＨ−テトラゾール、５−アミノ−ＩＩ−１−１、２、
４）リアゾール、アデニン、グアニン、ルミノール、２
−ヒドラジノキノリン、チアミノ等が挙げられる。

上述の防錆剤は、強磁性金属薄膜の少なくとも表面、可
能であれば内部、あるいは強磁性金属薄膜が形成されて
いる下地との界面に接する状態で存在せしめることによ
シ、その効果を発揮せしめる。その適量は磁気記録媒体
１靜当り０．５〜１００ｒｒＬｐ程度である。

上述の防錆剤を強磁性金属薄膜に付着させる方法として
は、防錆剤を適当な溶媒に希釈して強磁性金属薄膜表面
に塗布する方法、あるいは防錆剤の蒸気を強磁性金属薄
膜表面にあてる方法等の手段を用いることができる。

また防錆剤ととも（ニ、通常の潤滑剤を併用してもかま
わない。前述の溶媒としては、例えばアセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノ
エチルエーテル等のエステル類、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム
、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素
化炭化水素、トリクロロフルオロメタン、ジクロロシフ
ルオロメタン、クロロトリフルオロメタン、クロロジフ
ルオロメタン、１，１．２−ＩＬ７０ロー１゜２　、２
−　）　ＩＪフルオロエチレン、３−ジクロロテトラフ
ルオロエチレン等のフルオロ炭化水素、水及ヒこれらの
混合溶媒が挙げられる。

更に潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸
アミド、金、川石ケン、脂肪族アルコール、パラフィン
、シリコーン、フッ素系界面活性剤等が使用できる。

脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リルン酸
等の炭素数が１２個以上のものが使用できる。

脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸エチル、ステア
リン酸ブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸モノ
グリセリド、オレイン酸モノグリセリド゛等が使用でき
る。

脂肪酸アミドとして１ハ、カプロン酸アミド、カプリン
酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ス
テアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド
、リノール酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド
、エチレンビスステアリン酸アミド等が使用できる。

金属石グンとしては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リノＶ７酸等のＺｎ、　ＰｂＸＮ　１ＸＣｏ、
Ｆｅ、、Ａｊ！、Ｍｇ、ｓｒ、　Ｃｕ等との塩、ラウリ
ル、パルミチル、ミリスチル、ステアリル、ベヘニル、
オレイル、リノール、リルン等のスルホン酸と上記金属
との塩等が使用できる。

脂肪族アルコールとしては、セチルアルコール、ステア
リルアルコール等が使用できる。

パラフィンとしては、ｎ−ノナデカン、ｎ−）リゾカン
、ｎ−トコサン等の飽和炭化水素が使用できる。

シリコーンとしては、水素がアルキル基またはフェニル
基で部分置換されたポリシロキサン及びそれらを脂肪酸
、脂肪族アルコール、脂肪酸アミド等で変性したもの等
が使用できる。

フッ素系界面活性剤としては、バーフロロアビレキルス
ルホン酸とＮａＸＫ％　Ｍｇ、　Ｚｎ、　Ｎｉ、ＦｅＸ
Ｃｏ、　Ｎｉ等トの塩、パーフロロアルキルリン酸エス
テル、パーフロロアルキルベタイン、パーフロロアルキ
ルトリメチルアンモニウム塩、パーフロロエチレンオキ
サイド、パーフロロアルキル脂肪族エステル等が使用で
きる。

非磁性支持体　の素材としては、ポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステル類、ポリエチレン、ホリフロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート
、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブ
チレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、
ポリイミド、ポリアミドイミド等のプラスチック等が挙
げらねる。また、上記非磁性支持体の形態としては、フ
ィルム、テープ、シート、ディスク、カード、ドラム等
のいずれでもよい。

強磁性金属薄膜　の材料としてｊｄ、ＦｅＸＣｏ、　Ｎ
ｉ等の金属あるいはＣｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、
Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ”Ｃｏ−
Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｆｅ−Ｂ　合金あるいはこれら
にＣｒ、Ａｉ等の金属が含有されたもの等が挙げられる
。

上記強磁性金属薄膜材料の被着手段としては、真空蒸着
法、イオンブレーティング法、スパッタリング法等が挙
げられる。上記真空蒸着法は、１０””〜１Ｏ−８Ｔｏ
ｒｒの真空下で上記強磁性金属材料を抵抗加熱、高周波
加熱、電子ビーム加熱等により蒸発させ非磁性支持体上
に蒸発金属（強磁性金属材料）を沈着するというもので
あシ、斜方蒸着法及び垂直蒸着法に大別される。上記斜
方蒸着法は、高い抗磁力を得るため非磁性支持体に対し
て上記強磁性金属材料を斜め蒸着するものであって、よ
シ高い抗磁力を得るために酸素雰囲気中で上記蒸着を行
なうものも含まれる。上記垂直蒸着法は、蒸着効率や生
産性を向上し、かつ高い抗磁力を得るために非磁性支持
体上にあらかじめＢｉ、８ｂ、Ｐｂ、　Ｓｎ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、ＣｄＸＧｅ。

５ｉＸＴｊ！等の下地金属層を形成しておき、この下地
金属層上に上記強磁性金属材料を垂直に蒸着するという
ものである。上記イオンブレーティング法も真空蒸着法
の一種であり、１０″″４〜１Ｏ−３Ｔｏｒｒの不活性
ガス雰囲気中でＤＣグロー放電、ＲＦグロー放電を起こ
し、放電中で上記強磁性金属を蒸発させるというもので
ある。上記名パンタリング法は、１０−３〜１Ｏ−ＩＴ
ｏｒｒのアルゴンガスを主成分とする雰囲気中でグロー
放電を起こし、生じたアルゴンイオンでターゲット表面
の原子をたたき出すというものであシ、グロー放電の方
法にニジ直流２極、３極スパツター法や高周波スパッタ
ー法、またマグネトロン放電を利用したマグネトロンス
パッター法等がある。

〔作用〕

以上述べたように、磁性層である強磁性金属薄膜の表面
、内部あるいは下地との界面等にアミノ基若しくはイミ
ノ基を有しかつ窒素原子を含む複素環化合物を付着せし
めることにより、上記強磁性金属薄膜での錆の発生が防
止される。

〔実施例〕

以下本発明の具体的な実施例について説明するが、本発
明がこれら実施例に限定されるものでないことは言うま
でもない。

実施例１ 厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、真空蒸着装置を用いてコバルトｃｏを入射角５０°
〜９０°で斜方蒸着し、膜厚約１３００λの強磁性金属
薄膜を形成した。

次いで、上記強磁性金属薄膜上に、アデニンをアセトン
と水との混合溶媒（アセトン：水＝１：１）に希釈した
溶液（０，１ｗ　ｔ％浴溶液）を塗布（塗布量２０う汐
）シ、サンプルテープを作成した。

実施例２ アデニンの代わシに２−アミノベンズイミダゾールを用
いた以外は、実施例１と同様にしてサンプルテープを作
成した。

実施例３ アデニンの代わシに５−アミノ−ＩＨ−テトラゾールを
用いた以外は、実施例１と同様にしてサンプルテープを
作成した。。

実施例４ アデニンの代わりに５−アミノ−ＩＨ−１，２゜４トリ
アゾールを用いた以外は、実施例１と同様にしてサンプ
ルテープを作、成した。

実施例；５ アデニンの代わりにグアニンを用いた以外は、実施例１
と同様にしてサンプルテープを作成した。

実施例６ アデニンの代わりにルミノールを用いた以外は、実施例
１と同様にしてサンプルテープを作成した。

実施例７ アデニンの代わシに２−ヒドラジノキノリンを用いた以
外は、実施例１と同様にしてサンプルテープを作成した
。

実施例８ アデニンの代わりにチアミノを用いた以外は、実施例１
と同様にしてサンプルテープを作、成した。

比較例 厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、真空蒸着装置を用いてコバルトｃｏを入射角５０°
〜９０°で斜方蒸着し、膜厚約１３００λの強磁性金属
薄膜を形成し、サンプルテープを作成した。

上記の実施例及び比較例にニジ得られた各サンプルテー
プにつき、初期の保磁力Ｈｃ１　及び飽和磁化量Ｉ　Ｓ
　ｔ　　と４５℃、８０％ＲＨ下に１週間放置した後の
保磁力Ｈｃ２及び飽和磁化量ＩＳ２とからその変化率を
求めた。

Ｈｃの変化率＝　（Ｈｃ、、　−Ｉ（ｃ２）／）ｌ　ｃ
１■ｓの変化率＝　ＣＩ　Ｓｌ　−Ｉ　８２　）／Ｉ　
ｓｔ次表にその結果を示す。

表 尚、実施例のサンプルテープ表面（７ｉ：は錆の発生は
認められなかった。

上記表より本発明による磁気記録媒体は磁性層表面に錆
がほとんど発生せず、磁気特性の経日変化の少ないこと
がわかる。

〔発明の効果〕

上述の説明からも明らかなように、本発明においては、
強磁性金属薄膜に、アミノ基若しくはイミノ基を有し、
かつ窒素原子を含む複素環化合物を主成分とする防錆剤
を付着させているので、高温ないし高湿下においても磁
性層である強磁性金属薄膜表面での錆の発生が防止され
、保磁力や飽和磁化量等の磁気特性の経日変化も少ない
ものとなる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成し、上記強磁性
   金属薄膜に、アミノ基若しくはイミノ基を有し、かつ窒
   素原子を含む複素環化合物を主成分とする防錆剤を付着
   させたことを特徴とする磁気記録媒体。