JPS62286979A - チアジアゾリル酢酸の製造方法 - Google Patents

チアジアゾリル酢酸の製造方法

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JPS62286979A
JPS62286979A JP12923486A JP12923486A JPS62286979A JP S62286979 A JPS62286979 A JP S62286979A JP 12923486 A JP12923486 A JP 12923486A JP 12923486 A JP12923486 A JP 12923486A JP S62286979 A JPS62286979 A JP S62286979A
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Takeo Kanai
武夫 金井
Keizo Takayanagi
高柳 恵三
Yasuhide Tanaka
田中 康秀
Atsushi Koiwa
淳 小岩
Shinichi Endo
真一 遠藤
Katsuhiko Sato
勝彦 佐藤
Seiichiro Nomoto
野本 誠一郎
Isao Sugiyama
功 杉山
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  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は抗菌剤の中間体の製造方法に関するものである
特開昭57−158769号公報には、7−アシルアミ
ノセファロスポリン化合物を製造するためのアシル化剤
として有用なチアジアゾリル酢酸誘導体の製造方法が示
されている。この方法は、対応するアセトニトリル体を
塩基の存在下に加水分解する方法であるが、副反応物が
生成して収率が30%以下と非常に低(、工業的に満足
できる方法とはいえない。
そこで1本発明者等は、チアジアゾリル酢酸誘導体の工
業的製造方法について研究した結果、対応する新規チア
ジアゾリルアセトアミド誘導体を加水分解することによ
り収率より目的物が得られることを見い出し9本発明を
完成した。
したがって9本発明の目的は抗菌剤の中間体として有用
なチアジアゾリル酢酸誘導体の新規な製造方法を提供す
ることにある。
〔発明の構成〕
本発明は一般式: 〔式中I R1は低級アルキル基、R2は保護基で保護
されていてもよいアミノ基を示す〕で表わされる化合物
またはその塩を塩基の存在下で加水分解し、必要により
保護基を脱離することを特徴とする一般式: 〔式中+R1およびR2は前記の定義に同じ〕で表わさ
れるチアジアゾリル酢酸またはその塩の製造方法である
ができる。保護基の脱離は、保護基の種類に応じて、常
法1例えば加水分解、還元などの方法により行うことが
できる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、酢酸ナトリウム。
酢酸カリウムなどを用いることができる。
水性溶媒としては、水、緩衝液、あるいはこれらとメタ
ノール、エタノールなどの低級アルコールとの混合溶媒
を用いることができる。
一般式(Itおよび(IIIの化合物のR1の低級アル
キル基としては、メチル、エチル、n−プロピル。
i−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、池−ブチルな
どがあげられる。また、R2の「保護基で保護されてい
てもよいアミノ基」における保護基の種類としては9通
常アミノ基の保護基として知られているものを使用する
ことができる。例えば。
ホルミル、アセチル、クロロアセチル、ジクロルアセチ
ル、プロピオニル、フェノキシアセチルなどの置換また
は非置捗の低級アルカノイル基;ベンジルオキシカルボ
ニル、t−ブトキシカルボニル、p−ニトロベンジルオ
キシカルボニルナトノ置換または非置換の低級アルコキ
シカルボニル基;トリチル、p−メトキシベンジル、ジ
フェニルメチルなどの置換低級アルキル基;トリメチル
シリル、t−ブチルジメチルシリルなどの置換シリル基
;ベンジリデン、サリチリデン、3.5−ジ(t−ブチ
ル)−4−ハイドロキシベンジリデンなどの置換または
非置換のベンジリデン基等があげられる。
一般式(Ilの化合物の塩としては、上記の反応を妨げ
ないものであれば使用することができる。例えば塩酸塩
、硫酸塩、炭酸塩1重炭酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素
酸塩などの無機酸塩;酢酸塩。
マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、トリフルオロ酢酸塩
などの有機カルボン酸塩;メタンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホンm塩、)ルエンスルホン酸塩などの有機スル
ホン酢酸塩;アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩などの
アミノ酸塩等があげられる。
また、一般式fIIlの化合物の塩としては1例えばナ
トリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩;カルシ
ウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩;ア
ンモニウム塩;塩酸塩、硫酸塩。
炭酸塩9重炭酸塩、臭化水素塩、沃化水素酸塩などの無
機酸塩;酢酸塩、マレイン酸塩9乳酸塩。
酒石酸塩、トリフルオロ酢酸塩などの有機カルボン酸塩
;メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエ
ンスルホン酸塩などの有機スルホン酸塩;トリメチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩。
ピリジン塩、プロ力イン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、 N、 N’−ジベンジルエチレンジア
ミン塩、N−メチルグルカミン塩、ジェタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシメチ
ルアミノ)メタン塩などのアミン塩;アルギニン塩、ア
スパラギン酸塩、リジン塩、グルタミン酸塩、セリン塩
などのアミノ酸塩等があげられる。
本発明の原料化合物である一般式(I)の化合物は対応
するチアジアゾリルアセトニトリル誘導体を過酸化水素
等の酸化剤および塩基の存在下で加水分解して得ること
ができる。したがってチアジアゾリルアセトニトリル誘
導体から出発するとすれば、チアジアゾリルアセトニト
リル誘導体よりチアジアゾリルアセトアミド誘導体を得
、ついで加水分解してチアジアゾリル酢酸誘導体を得る
という2段階反応であるが、前に示したチアジアゾリル
アセトニトリル誘導体より直接にチアジアゾリル酢酸誘
導体を得る従来法に比べて高収率であり。
工業的に優れた方法である。
次に実施例および実験例を示し1本発明をさらに詳しく
説明する。
実験例1(原料化合物の製造) 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−(Zl−2−メトキシイミノアセトアミド 水400mL、水酸化ナトリウム10 g 、 359
6過酸化水素水160 mLの混合液に2−(5−アミ
ノ−1゜2.4−チアジアゾール−3−イル)−(21
−2=メトキシイミノアセトニトリル80gを加え、水
冷下で5時間撹拌した。析出物を戸数し、水、アセトン
で洗浄した後、乾燥して目的物77.7 y (収率8
8.4%)を得た。
実験例2(原料化合物の製造) 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル’)−(Z)−2−エトキシイミノアセトアミド 水150 mL 、  水酸化ナトリウム6、O,、お
よび35%過酸化水素水30 mlの混合溶液にメタノ
ール75mLを加え、室温まで冷却した。ついでこの溶
液に2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル’)−(Z)−2−エトキシイミノアセトニト
リル15.0.を加え、室温下で約6時間撹拌した。反
応液を10°Cまで冷却後、析出物を戸数し、水、イソ
プロピルアルコール、エチルエーテルで洗浄シタ。
これを乾燥して目的物13.2. (収率80.696
)を得た。
実験例3(原料化合物の製造) 2−(5−クロロアセトアミド−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル’)−(Zl−2−メトキシイミノア
セトアミド 水100 ml 、水酸化ナトリウム2.0gおよび3
5%過酸化水素水10.OrnLの混合溶液に2−(5
−クロロアセトアミド−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Zl−2−メトキシイミノアセトニトリ
ル5.0gを加え、30分間撹拌した。反応液を一2°
Cまで冷却し、析出物を戸数した。これを氷水、エチル
エーテルで洗浄後、乾燥して目的物2.0gを得た。
さらに、上記の炉液を酢酸エチル抽出した。これに無水
硫酸マグネシウムを加えて乾燥した後。
酢酸エチルを留去した。残渣にイソプロピルエーテルを
加えて結晶化を行い、目的物2.2gを得た。
目的物として合計4.2g(収率78.65%)を得た
実施例1 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−(Zl−2−メトキシイミノ酢酸2N水酸化す
)IJウム水溶液80耐および2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−2−メ
トキシイミノアセトアミド4.02 gの混合物を50
°Cで5時間撹拌した。反応液を10℃まで冷却し、濃
塩酸にて溶液のpHを1に調整した。これを酢酸エチル
で抽出し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。つ
いでこれを減圧濃縮した後、濃縮液にイソプロピルエー
テル100mLを滴下した。不溶物を炉取し、イソプロ
ピルエーテルで洗浄後、乾燥して目的物3.2g(収率
79.296)を白色粉末として得た。純度は、  H
PLC分析で98.296であった。
実験例4(従来法) 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジブ−ルー3−イ
ル’)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z
l−2−メトキシイミノアセトニトリル7.50Q、水
40鼎りの懸濁液に、40°Cにて。
4N水酸化ナトリウム水溶液95mLを滴下し、 50
″C〜55℃にて5時間撹拌した。反応液を10°Cに
冷却した後、6N塩酸を滴下して溶液のpHを2.4に
調整した。これ1ζ酢酸エチル50 atを加えて不純
物を抽出、除去した。水層に6N塩酸を加えてpH0,
8に調整した後、活性炭0.5gを加えて濾過した。
P液を酢酸エチルで抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシ
ウムを加えて乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、残渣
にイソプロピルエーテル100 mLを加して得た。
ついで、この粗製物3.5gに酢酸エチル−メチルエチ
ルケトン(1:1)70mLを加え、45°C〜50’
Cに15分間加熱した。同温度で濾過し、酢酸エチル7
1!LLで洗浄し、乾燥して目的物1.6g(収率19
.796)を白色粉末として得た。HPLC分析による
純度は97.55%であった。
実施例2 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−4Z)−2−エトキシイミノ酢酸2N水酸化ナ
トリウム80rntおよび2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−(Zl−2−エトキ
シイミノアセトアミド4.0gの混合物を50℃で8時
間撹拌した。反応液を10°Cまで冷却し、濃塩酸にて
溶液のpHを1に調整した。
これを酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムを加
えて乾燥した。ついで減圧濃縮した後、0縮液にイソプ
ロピルエーテル100 mLを滴下した。
不溶物を炉底し、イソプロピルエーテルで洗浄後。
乾燥して目的物3.2g(収率80.2%)を白色粉末
として得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1は低級アルキル基、R_2は保護基で保
    護されていてもよいアミノ基を示す〕で表わされる化合
    物またはその塩を塩基の存在下で加水分解し、必要によ
    り保護基を脱離することを特徴とする一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_1およびR_2は前記の定義に同じ〕で表
    わされるチアジアゾリル酢酸またはその塩の製造方法。
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