JPS62283282A - 真空装置の仕切弁 - Google Patents
真空装置の仕切弁Info
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- JPS62283282A JPS62283282A JP12579486A JP12579486A JPS62283282A JP S62283282 A JPS62283282 A JP S62283282A JP 12579486 A JP12579486 A JP 12579486A JP 12579486 A JP12579486 A JP 12579486A JP S62283282 A JPS62283282 A JP S62283282A
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- JP
- Japan
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- coaming
- curved cover
- electromagnetic coil
- curved
- combing
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- Pending
Links
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- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Details Of Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空装置の仕切弁に関するものである。
第３図は従来の真空装置の予備真空室とプロセス室とを
模式的に示した斜視図である。図において、２は予備真
空室、３は真空室で、画室の仕切壁４には第４図に示す
ように基板を出し入れする開口部４ａがあり、この開口
部４ａを完全気寓に閉鎖するため、Ｎ５及びシール面に
は耐熱性の０リング６が取りつけられている。
模式的に示した斜視図である。図において、２は予備真
空室、３は真空室で、画室の仕切壁４には第４図に示す
ように基板を出し入れする開口部４ａがあり、この開口
部４ａを完全気寓に閉鎖するため、Ｎ５及びシール面に
は耐熱性の０リング６が取りつけられている。
次にこの作用を説明する。
予備真空室２からプロセス室３内へ鋼片等の基板を送り
込んだ後、外部からの操作機構によって、仕切壁４の開
口部４ａをＯリング６と蓋５によって成る仕切弁によっ
て閉鎖し、その後プロセス室内の気圧を下げて真空状態
とする。
込んだ後、外部からの操作機構によって、仕切壁４の開
口部４ａをＯリング６と蓋５によって成る仕切弁によっ
て閉鎖し、その後プロセス室内の気圧を下げて真空状態
とする。
従来の真空装置には、次のような問題があった。
＋１１ 仕切壁、４の開口部４ａを閉鎖するため、仕
切壁４と蓋５とのシール面の形成に極めて高精度の加工
が必要となる。
切壁４と蓋５とのシール面の形成に極めて高精度の加工
が必要となる。
（２） プロセス室３内が極めて高屈となるため、シ
ール面に使用されろ耐熱性Ｏリングの寿命が短く、交換
する頻度が多い。
ール面に使用されろ耐熱性Ｏリングの寿命が短く、交換
する頻度が多い。
＋３１ Ｉｆ切堅壁４閉鎖装置が大型となるため、真
空装置の小型化を推進出来ない。
空装置の小型化を推進出来ない。
本発明はこのような問題点を解決するためになされたも
ので、予備真空室とゴロセス室との間に開口部を有する
仕切壁を備えた真空装置において、開口部の周縁に、電
磁コイルを埋め込んだコーミングを設け、コーミングの
縦方向の両側コーミング面を曲線の波形に形成し、コー
ミング上に長孔ヒンヂによって軸止された強磁性体の曲
蓋を配設した真空装置の仕切弁を提供する。
ので、予備真空室とゴロセス室との間に開口部を有する
仕切壁を備えた真空装置において、開口部の周縁に、電
磁コイルを埋め込んだコーミングを設け、コーミングの
縦方向の両側コーミング面を曲線の波形に形成し、コー
ミング上に長孔ヒンヂによって軸止された強磁性体の曲
蓋を配設した真空装置の仕切弁を提供する。
仕切壁の開口部周縁に設けられたコーミングに埋め込ま
れた電磁コイルにより曲蓋を引きつけろとコーミングの
曲面に曲蓋が嵌合して密着し、気密性を高めろことが出
来ろ。
れた電磁コイルにより曲蓋を引きつけろとコーミングの
曲面に曲蓋が嵌合して密着し、気密性を高めろことが出
来ろ。
第１図は本発明の一実施例の正面図、第２図は側面図で
ある。図において、仕切壁４に設けたほぼ長四角形の比
較的大きな開口部４ａの周縁にコーミング１が設けられ
、コーミング１の内部に電磁コイル７が埋められている
。又、第２図に示すように、コーミング１の上部水平部
に長孔ヒンヂ８ａが設けられており、長孔上コア８ａに
曲蓋８が軸止されている。又、コーミング１の縦方向の
両側部は第２図に示すように波形に形成されており、曲
蓋８はこの波形に合わせた曲面となっている。
ある。図において、仕切壁４に設けたほぼ長四角形の比
較的大きな開口部４ａの周縁にコーミング１が設けられ
、コーミング１の内部に電磁コイル７が埋められている
。又、第２図に示すように、コーミング１の上部水平部
に長孔ヒンヂ８ａが設けられており、長孔上コア８ａに
曲蓋８が軸止されている。又、コーミング１の縦方向の
両側部は第２図に示すように波形に形成されており、曲
蓋８はこの波形に合わせた曲面となっている。
次にこの作用を説明する。
予備真空室よりプロセス室の内へ基板を送り込んｔ′！
袋、曲蓋８を外部からの操作によって降下させコーミン
グ１の前に吊下げた状態とする。ついで、電磁コイル７
に通電するとコーミング１は磁性を帯びて、曲蓋８（ま
長孔ヒンヂ８ａに沿って摺動しながらコーミング１に吸
着されろ。このとき、コーミング１の両側部の波形面と
、曲蓋８の曲面が摺合することによって、コーミング１
と曲蓋８とは安定して密着することが出来ろ。この後に
蒸着室内を真空に減圧すれば、曲蓋８は更に強固にコー
ミング１へ押圧され、気密を確保する。この時には電磁
コイル７へ通電を停止しても気密に影響はない。
袋、曲蓋８を外部からの操作によって降下させコーミン
グ１の前に吊下げた状態とする。ついで、電磁コイル７
に通電するとコーミング１は磁性を帯びて、曲蓋８（ま
長孔ヒンヂ８ａに沿って摺動しながらコーミング１に吸
着されろ。このとき、コーミング１の両側部の波形面と
、曲蓋８の曲面が摺合することによって、コーミング１
と曲蓋８とは安定して密着することが出来ろ。この後に
蒸着室内を真空に減圧すれば、曲蓋８は更に強固にコー
ミング１へ押圧され、気密を確保する。この時には電磁
コイル７へ通電を停止しても気密に影響はない。
プロセス内での作業が終了したら、前記と逆の手順によ
り開口４ａを開放することが出来ろ。尚コーミング１の
面を平面とし同時にＭ８を平板とした場合も、電磁コイ
ル７の作用により、気密を保持することも可能であるこ
とは言うまでもない。
り開口４ａを開放することが出来ろ。尚コーミング１の
面を平面とし同時にＭ８を平板とした場合も、電磁コイ
ル７の作用により、気密を保持することも可能であるこ
とは言うまでもない。
本発明により、従来のような剛構造による仕切装置を必
要としなくなり、次のような効果があげられた。
要としなくなり、次のような効果があげられた。
（１）蒸着装置全体の小型化が可能となった。
（２） 高精度の加工を必要としなくなった。
ｆ３１ ｉｎンールバッキンゲを必要としなくなっｔ
こ。
こ。
（４） 製作が容易で工費が削減された。
第１図は本発明の一実施例の正面図、第２図は側面図、
第３図は従来例の斜視図、第４図は仕切壁の側面図であ
る。 １：コーミング、２：予備真空室、３：プロセス室、４
：仕切壁、４ａ：開口部、７：電磁コイル、８：曲蓋。
第３図は従来例の斜視図、第４図は仕切壁の側面図であ
る。 １：コーミング、２：予備真空室、３：プロセス室、４
：仕切壁、４ａ：開口部、７：電磁コイル、８：曲蓋。
Claims (1)
- 予備真空室とプロセス室との間に開口部を有する仕切壁
をそなえた真空装置において、前記開口部の周縁に、電
磁コイルを埋め込んだコーミングを設け、該コーミング
の縦方向の両側コーミング面を曲線の波形に形成し、上
記コーミング上に長孔ヒンヂによって軸止された曲蓋を
配設したことを特徴とする真空装置の仕切弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12579486A JPS62283282A (ja) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | 真空装置の仕切弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12579486A JPS62283282A (ja) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | 真空装置の仕切弁 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62283282A true JPS62283282A (ja) | 1987-12-09 |
Family
ID=14919040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12579486A Pending JPS62283282A (ja) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | 真空装置の仕切弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62283282A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008501913A (ja) * | 2004-06-08 | 2008-01-24 | ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ゲート装置 |
| CN104421437A (zh) * | 2013-08-20 | 2015-03-18 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 活动阀门、活动屏蔽门及真空处理系统 |
-
1986
- 1986-06-02 JP JP12579486A patent/JPS62283282A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008501913A (ja) * | 2004-06-08 | 2008-01-24 | ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ゲート装置 |
| US8678028B2 (en) | 2004-06-08 | 2014-03-25 | Leybold Optics Gmbh | Locking device |
| CN104421437A (zh) * | 2013-08-20 | 2015-03-18 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 活动阀门、活动屏蔽门及真空处理系统 |
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