JPH05208896A - 箱型真空容器 - Google Patents
箱型真空容器Info
- Publication number
- JPH05208896A JPH05208896A JP1480792A JP1480792A JPH05208896A JP H05208896 A JPH05208896 A JP H05208896A JP 1480792 A JP1480792 A JP 1480792A JP 1480792 A JP1480792 A JP 1480792A JP H05208896 A JPH05208896 A JP H05208896A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- door
- box
- main body
- opening
- attached
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 扉の操作が簡単であるとともに、本体に組み
付けた機器等の取扱いやメンテナンスが容易である箱型
真空容器を提供する。 【構成】 箱状本体１０の開口部１１の上，下両部に扉
１２を進退させて前記開口部１１を開閉するための案内
レール１７ａ，１７ｂを取り付けるとともに、これらの
案内レール１７ａ，１７ｂに回転機構１８ａ，１８ｂを
介して前後動及び水平回転が可能に扉１２を組み付け
た。
付けた機器等の取扱いやメンテナンスが容易である箱型
真空容器を提供する。 【構成】 箱状本体１０の開口部１１の上，下両部に扉
１２を進退させて前記開口部１１を開閉するための案内
レール１７ａ，１７ｂを取り付けるとともに、これらの
案内レール１７ａ，１７ｂに回転機構１８ａ，１８ｂを
介して前後動及び水平回転が可能に扉１２を組み付け
た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマＣＶＤ装置や
スパッタリング装置などに用いられて好適な箱型真空容
器に関する。
スパッタリング装置などに用いられて好適な箱型真空容
器に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のプラズマＣＶＤ装置やスパッタリ
ング装置等の箱型真空容器は、図４に示すように、箱状
本体１の開口部側縁にヒンジ２を介して扉３を取り付
け、前記ヒンジ２を支点として扉３を片側に開いてい
た。また、前記扉３は必要に応じて反対側にも設けられ
る。
ング装置等の箱型真空容器は、図４に示すように、箱状
本体１の開口部側縁にヒンジ２を介して扉３を取り付
け、前記ヒンジ２を支点として扉３を片側に開いてい
た。また、前記扉３は必要に応じて反対側にも設けられ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の箱型金
属容器は、扉３を本体１にヒンジ２で取り付けていたた
め、扉３の厚みで扉３を十分に開くことができないこと
から、本体１内のものが扱いにくく、メンテナンスが難
しくなり、作業効果率も落ちるという不具合があった。
属容器は、扉３を本体１にヒンジ２で取り付けていたた
め、扉３の厚みで扉３を十分に開くことができないこと
から、本体１内のものが扱いにくく、メンテナンスが難
しくなり、作業効果率も落ちるという不具合があった。
【０００４】本発明は、このような実情に基づいて提案
されたもので、操作が簡単で扱い易く、作業効率を上げ
られる箱型真空容器を提供することを目的とする。
されたもので、操作が簡単で扱い易く、作業効率を上げ
られる箱型真空容器を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の、本発明の構成は、箱状本体開口部の上，下両部に扉
を進退させて前記開口部を開閉するための案内レールを
取り付けるとともに、これらの案内レールに前後動及び
水平回転が可能に扉を組み付けたことを特徴とする。
の、本発明の構成は、箱状本体開口部の上，下両部に扉
を進退させて前記開口部を開閉するための案内レールを
取り付けるとともに、これらの案内レールに前後動及び
水平回転が可能に扉を組み付けたことを特徴とする。
【０００６】
【作用】前記構成によれば、扉を後退させて反転するこ
とで、開口部が大きく開けられるとともに、機器等の取
扱いやメンテナンスが容易になる。
とで、開口部が大きく開けられるとともに、機器等の取
扱いやメンテナンスが容易になる。
【０００７】
【実施例】本発明の一実施例を図１及び図２に示す。図
１及び図２は、本発明をプラズマＣＶＤ装置に適用した
例で、箱状本体１０の前，後両部に設けた開口部１１が
扉１２で開閉されるようになっている。
１及び図２は、本発明をプラズマＣＶＤ装置に適用した
例で、箱状本体１０の前，後両部に設けた開口部１１が
扉１２で開閉されるようになっている。
【０００８】また、前記本体１０の下部中央には真空排
気装置１３が接続され、前記扉１２を図示しないクラン
プ装置等で密閉後、本体１０内を真空にし得るようにな
っている。さらに、箱状本体１０内の中央には、前，後
両面に基板１４を取り付けたヒータ１５が備えられ、本
体１０外の高周波（以下、ＲＦと略す）電源１６に接続
されている。
気装置１３が接続され、前記扉１２を図示しないクラン
プ装置等で密閉後、本体１０内を真空にし得るようにな
っている。さらに、箱状本体１０内の中央には、前，後
両面に基板１４を取り付けたヒータ１５が備えられ、本
体１０外の高周波（以下、ＲＦと略す）電源１６に接続
されている。
【０００９】そして、前記扉１２は、箱状本体１０の相
対する面に前後動により着脱することで、前記開口部１
１を開閉するようになっている。
対する面に前後動により着脱することで、前記開口部１
１を開閉するようになっている。
【００１０】即ち、箱状本体１０の上，下両部から前後
方向に案内レール１７ａ，１７ｂが延設され、この上下
一対の案内レール１７ａ，１７ｂに回転機構１８ａ，１
８ｂを介して扉１２が組み付けられる。
方向に案内レール１７ａ，１７ｂが延設され、この上下
一対の案内レール１７ａ，１７ｂに回転機構１８ａ，１
８ｂを介して扉１２が組み付けられる。
【００１１】図示例では、上方案内レール１７ａが円棒
状に形成されて、この案内レール１７ａ上を上方回転機
構１８ａの円筒状部が摺動自在に嵌合されている。
状に形成されて、この案内レール１７ａ上を上方回転機
構１８ａの円筒状部が摺動自在に嵌合されている。
【００１２】一方、下方案内レール１７ｂはＩ型に形成
されて、この案内レール１７ｂ上を下方回転機構１８ｂ
のブロック状部が摺動自在に嵌合している。
されて、この案内レール１７ｂ上を下方回転機構１８ｂ
のブロック状部が摺動自在に嵌合している。
【００１３】また、前記回転機構１８ａ，１８ｂは、前
記案内レール１７ａ，１７ｂに対し扉１２を単に水平回
転自在に支持させるものである。
記案内レール１７ａ，１７ｂに対し扉１２を単に水平回
転自在に支持させるものである。
【００１４】前記扉１２の内面には、一定間隔を保ち電
極１９が取り付けられ、この電極１９は扉１２の中央に
設けたＲＦ電源導入口２０を介して前述したＲＦ電源１
６に接続されている。
極１９が取り付けられ、この電極１９は扉１２の中央に
設けたＲＦ電源導入口２０を介して前述したＲＦ電源１
６に接続されている。
【００１５】このように構成されるため、箱状本体１０
内を真空にした後、ヒータ１５と電極１９との間に高周
波電力を印加すると、低圧反応ガスのプラズマが発生
し、これにより基板１４上に薄膜が形成されることは自
明である。
内を真空にした後、ヒータ１５と電極１９との間に高周
波電力を印加すると、低圧反応ガスのプラズマが発生
し、これにより基板１４上に薄膜が形成されることは自
明である。
【００１６】そして、本実施例では、電極１９が取り付
けられた扉１２は、前後にスライドし回転するため、電
極１９を箱状本体１０の外側に向けることが可能であ
り、電極１９のメンテナンスや箱状本体１０内の基板１
４のセッティングやヒータ１５のメンテナンスなどを容
易に行うことができる。
けられた扉１２は、前後にスライドし回転するため、電
極１９を箱状本体１０の外側に向けることが可能であ
り、電極１９のメンテナンスや箱状本体１０内の基板１
４のセッティングやヒータ１５のメンテナンスなどを容
易に行うことができる。
【００１７】即ち、図３に示すように、従来容器では扉
３が片側にしか開かず、メンテナンス作業に方向性があ
ったが（図３の(b) 参照）、本発明容器では扉１２が本
体１０の外側に向くので全方向から作業が可能となり
（図３の(a) 参照）、扉１２の内側の電極１９等機器類
のメンテナンスが容易となるのである。
３が片側にしか開かず、メンテナンス作業に方向性があ
ったが（図３の(b) 参照）、本発明容器では扉１２が本
体１０の外側に向くので全方向から作業が可能となり
（図３の(a) 参照）、扉１２の内側の電極１９等機器類
のメンテナンスが容易となるのである。
【００１８】なお、本発明は上記実施例に限定されず、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能で
あることは言う迄もない。
本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能で
あることは言う迄もない。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、本
体の上，下両部に取り付けた案内レールに前後動及び水
平回転が可能に扉を組み付けたので、扉の操作が簡単と
なる一方、本体に組み付けた機器等の取扱いやメンテナ
ンスが容易となる。
体の上，下両部に取り付けた案内レールに前後動及び水
平回転が可能に扉を組み付けたので、扉の操作が簡単と
なる一方、本体に組み付けた機器等の取扱いやメンテナ
ンスが容易となる。
【図１】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図２】同じく側断面図である。
【図３】本発明容器と従来容器の作用を比較した説明図
である。
である。
【図４】従来容器の斜視図である。
１０ 箱状本体 １１ 開口部 １２ 扉 １７ａ，１７ｂ 案内レール １８ａ，１８ｂ 回転機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 児玉 克 長崎県長崎市深堀町５丁目717番１号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 箱状本体開口部の上，下両部に扉を進退
させて前記開口部を開閉するための案内レールを取り付
けるとともに、これらの案内レールに前後動及び水平回
転が可能に扉を組み付けたことを特徴とする箱型真空容
器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1480792A JPH05208896A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 箱型真空容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1480792A JPH05208896A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 箱型真空容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05208896A true JPH05208896A (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=11871318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1480792A Withdrawn JPH05208896A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 箱型真空容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05208896A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010090283A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-12 | シャープ株式会社 | 真空装置 |
| CN106399927A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-02-15 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种具有倾斜式闭合门的镀膜箱 |
| CN106435469A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-02-22 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种具有倾斜平移组合式自动闭合门的镀膜箱 |
-
1992
- 1992-01-30 JP JP1480792A patent/JPH05208896A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010090283A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-12 | シャープ株式会社 | 真空装置 |
| CN106399927A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-02-15 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种具有倾斜式闭合门的镀膜箱 |
| CN106435469A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-02-22 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种具有倾斜平移组合式自动闭合门的镀膜箱 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001185534A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH05208896A (ja) | 箱型真空容器 | |
| US5150882A (en) | Treatment system having gate device for decompression chamber | |
| US5287653A (en) | Storage cabinet with sliding doors | |
| JPH05196150A (ja) | ゲートバルブ | |
| CA2454810A1 (en) | Removable panels for a welding-type machine enclosure | |
| US6916009B2 (en) | Load-lock device for introducing substrates into a vacuum chamber | |
| JP4432728B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2009132966A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH04136679A (ja) | 冷蔵庫等の扉装置 | |
| JPH07213355A (ja) | 貯蔵庫の棚装置 | |
| US6251218B1 (en) | Ion beam processing apparatus | |
| JPH05306779A (ja) | ゲート弁 | |
| JP2002295116A (ja) | スライド扉構造体 | |
| JPH10298745A (ja) | 真空成膜装置 | |
| JPH028681A (ja) | 冷蔵庫等の扉装置 | |
| JPS6257377B2 (ja) | ||
| JP2002235478A (ja) | パスボックスの扉の構造 | |
| JPH07234068A (ja) | 冷蔵庫等の扉装置 | |
| JP2567663Y2 (ja) | 収納装置 | |
| KR20040083611A (ko) | 스퍼터링 시스템용 챔버장치 | |
| JPH11233393A (ja) | 半導体処理装置 | |
| JPH0919662A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP2944566B2 (ja) | 低温庫 | |
| JPH0215339Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |