JPS62269704A - 表面親水化高選択性透過膜とその製造方法 - Google Patents
表面親水化高選択性透過膜とその製造方法Info
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- JPS62269704A JPS62269704A JP61110924A JP11092486A JPS62269704A JP S62269704 A JPS62269704 A JP S62269704A JP 61110924 A JP61110924 A JP 61110924A JP 11092486 A JP11092486 A JP 11092486A JP S62269704 A JPS62269704 A JP S62269704A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0093—Chemical modification
- B01D67/00931—Chemical modification by introduction of specific groups after membrane formation, e.g. by grafting
-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Transplantation (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は、精密濾過膜、限外濾過膜および逆浸透膜とし
て使用する選択透過膜とその製造方法に関するものであ
る。
て使用する選択透過膜とその製造方法に関するものであ
る。
(従来の技術)
耐熱性に優れ、かつ高透水性の選択濾過膜を作成するた
めに、近年、分子設計上、耐熱性を有する疎水性エンジ
ニアリングプラスチックスに荷電基を導入した半透膜が
提案されてきている。このような半透膜は、ポリマーの
疎水性主鎖が三次元骨格としての役割を果たすため、作
成される膜の分離特性や透過量などの物性値が、高温溶
液中においても比較的安定であるという特徴を有する。
めに、近年、分子設計上、耐熱性を有する疎水性エンジ
ニアリングプラスチックスに荷電基を導入した半透膜が
提案されてきている。このような半透膜は、ポリマーの
疎水性主鎖が三次元骨格としての役割を果たすため、作
成される膜の分離特性や透過量などの物性値が、高温溶
液中においても比較的安定であるという特徴を有する。
アニオン性の荷電基をエンジニアリングプラスチックス
に導入する方法としては、従来、芳香族環にスルホン酸
基を直接導入するスルホン化反応法が主として用いられ
てきた。スルホン化ポリスルホン(米国特許第3709
841号明縦書)に代表されるスルホン化エンジニアリ
ングプラスチックスは、比較的合成法が容易であるため
、アニオン性半透膜用素材としてしばしば用いられてい
る。また、ポリスルホンあるいはポリエーテルイミド半
透膜をスルホン化剤で処理することにより得られる、表
面スルホン化ポリスルホンあるいは表面スルホン化ポリ
エーテルイミド半透膜なども知られている。しかしなが
ら、スルホン化反応は可逆反応である[R,T、Mor
ri 5onand R,N、Boyd、rorga
nicChemistry」4thed、(1983)
、A11yn and Bacon IncNe
wton、Massachusetts、参照]ため、
高温の酸水溶液中では脱スルホン化反応が起こることが
知られている。さらに、エンジニアリングプラスチック
ス骨格中の芳香族環に直接スルホン酸基が導入されてい
る場合には、荷電基(スルホン酸基)の運動性がポリマ
ー主鎖により著しく妨げられ、有効に働いている電荷(
有効電荷密度)が低くなっていることが推定される。
に導入する方法としては、従来、芳香族環にスルホン酸
基を直接導入するスルホン化反応法が主として用いられ
てきた。スルホン化ポリスルホン(米国特許第3709
841号明縦書)に代表されるスルホン化エンジニアリ
ングプラスチックスは、比較的合成法が容易であるため
、アニオン性半透膜用素材としてしばしば用いられてい
る。また、ポリスルホンあるいはポリエーテルイミド半
透膜をスルホン化剤で処理することにより得られる、表
面スルホン化ポリスルホンあるいは表面スルホン化ポリ
エーテルイミド半透膜なども知られている。しかしなが
ら、スルホン化反応は可逆反応である[R,T、Mor
ri 5onand R,N、Boyd、rorga
nicChemistry」4thed、(1983)
、A11yn and Bacon IncNe
wton、Massachusetts、参照]ため、
高温の酸水溶液中では脱スルホン化反応が起こることが
知られている。さらに、エンジニアリングプラスチック
ス骨格中の芳香族環に直接スルホン酸基が導入されてい
る場合には、荷電基(スルホン酸基)の運動性がポリマ
ー主鎖により著しく妨げられ、有効に働いている電荷(
有効電荷密度)が低くなっていることが推定される。
また、上記スルホン化樹脂のうち、高交換容量のものは
アセトンと水との混合液あるいはアルコールと水との混
合液などに溶解しく特公昭53−32840号公報参照
)、耐有機溶剤性が悪い。
アセトンと水との混合液あるいはアルコールと水との混
合液などに溶解しく特公昭53−32840号公報参照
)、耐有機溶剤性が悪い。
(本発明が解決しようとする問題点)
本発明は、耐熱および耐有機溶剤性に優れた表面親水化
された高選択性透過膜とその製造方法を提供するもので
ある。
された高選択性透過膜とその製造方法を提供するもので
ある。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は、疎水性エンジニアリングプラスチックス
中の芳香族環に、従来のように直接スルホン酸基などの
荷電基を導入するのではなく、少なくとも1つ以上のメ
チレン基(メチレン基中の水素原子はハロゲン原子に置
換されていてらよい)を隔てて荷電基を導入することが
、#熱および耐有機溶剤性に優れた荷電性半透膜を得る
ために重要であることを見い出した。さらに、疎水性エ
ンジニアリングプラスチックスから製膜した半透膜表面
に荷電基を導入した表面親水化半透膜は、膜素材全体を
親水化した膜よりも、機械的強度が高く、かつ高温水中
でも膜の分離特性、透過量などの諸物性値が安定である
ことを見い出し、本発明に到達した。
中の芳香族環に、従来のように直接スルホン酸基などの
荷電基を導入するのではなく、少なくとも1つ以上のメ
チレン基(メチレン基中の水素原子はハロゲン原子に置
換されていてらよい)を隔てて荷電基を導入することが
、#熱および耐有機溶剤性に優れた荷電性半透膜を得る
ために重要であることを見い出した。さらに、疎水性エ
ンジニアリングプラスチックスから製膜した半透膜表面
に荷電基を導入した表面親水化半透膜は、膜素材全体を
親水化した膜よりも、機械的強度が高く、かつ高温水中
でも膜の分離特性、透過量などの諸物性値が安定である
ことを見い出し、本発明に到達した。
すなわち1本発明の要旨は、芳香族環を繰り返し単位中
に含む疎水性エンジニアリングプラスチックスから製膜
した半透膜を、サルトン類とフリーデルクラフッ触媒と
の混合物で処理することを特徴とする表面親水化された
高選択性透過膜の製法とその結果得られる透過膜に関す
るものであり、さらに芳香族環を繰り返し単位中に含む
疎水性エンジニアリングプラスチックスから製膜した中
空糸状半透膜の外表面あるいは内表面あるいは内外両表
面を、サルトン類とフリーデルクラフッ触媒との混合物
で処理することを特徴とする表面親水化された高選択性
中空糸状透過膜の製法とその結果得られる透過膜に関す
るものである。
に含む疎水性エンジニアリングプラスチックスから製膜
した半透膜を、サルトン類とフリーデルクラフッ触媒と
の混合物で処理することを特徴とする表面親水化された
高選択性透過膜の製法とその結果得られる透過膜に関す
るものであり、さらに芳香族環を繰り返し単位中に含む
疎水性エンジニアリングプラスチックスから製膜した中
空糸状半透膜の外表面あるいは内表面あるいは内外両表
面を、サルトン類とフリーデルクラフッ触媒との混合物
で処理することを特徴とする表面親水化された高選択性
中空糸状透過膜の製法とその結果得られる透過膜に関す
るものである。
本発明により得られる透過膜は「芳香族環を繰り返し単
位中に含む疎水性エンジニアリングプラスチックスから
製膜した半透膜の膜表面部分に、少なくとも1つ以上の
メチレン基(メチレン基中の水素原子はハロゲン原子に
置換されていてもよい)を隔ててスルホン酸基を導入し
たことを特徴とする表面親水化高選択性透過膜、」であ
る。
位中に含む疎水性エンジニアリングプラスチックスから
製膜した半透膜の膜表面部分に、少なくとも1つ以上の
メチレン基(メチレン基中の水素原子はハロゲン原子に
置換されていてもよい)を隔ててスルホン酸基を導入し
たことを特徴とする表面親水化高選択性透過膜、」であ
る。
(実施態様)
本発明をさらに詳細に説明すると、膜の骨格を形成する
高分子素材としては、芳香族環を繰り返し単位中に含む
疎水性エンジニアリングプラスチックスを用いることが
でき、この代表例としては、ポリエーテルスルホン、ポ
リイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ボ
リアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェ
ニレンスルフィト、ポリフェニレンオキサイド、ポリカ
ーボネートなどが挙げられる。サルトン類とは、ラクト
ンに相当する分子内オキシスルホン酸のエステルを差し
、 などがこの中に含まれる。ここでnは2から5までの整
数であり、また上記構造式中の水素原子は一部または全
部がハロゲン原子に置換されていても良い、フリーゾル
タラフッ触媒としては、A10文3 、ZnO,Zn
Cl2 、FeCl3 .5nCJ12 、S n
c!Lsなどをはじめとする種々のルイス醜や、HF、
BF、さらにはH+ などの電子受容体が挙げられる。
高分子素材としては、芳香族環を繰り返し単位中に含む
疎水性エンジニアリングプラスチックスを用いることが
でき、この代表例としては、ポリエーテルスルホン、ポ
リイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ボ
リアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェ
ニレンスルフィト、ポリフェニレンオキサイド、ポリカ
ーボネートなどが挙げられる。サルトン類とは、ラクト
ンに相当する分子内オキシスルホン酸のエステルを差し
、 などがこの中に含まれる。ここでnは2から5までの整
数であり、また上記構造式中の水素原子は一部または全
部がハロゲン原子に置換されていても良い、フリーゾル
タラフッ触媒としては、A10文3 、ZnO,Zn
Cl2 、FeCl3 .5nCJ12 、S n
c!Lsなどをはじめとする種々のルイス醜や、HF、
BF、さらにはH+ などの電子受容体が挙げられる。
フリーデルクラフッ触媒の使用量は、使用するサルトン
の量に対して0.1〜500%の範囲において可能であ
り、特に1〜150%の範囲で使用することが好ましい
、これは、触媒が過剰に含まれている処理液に膜を高温
で浸漬させた場合に、膜の一次構造が破壊される恐れが
あるためである。
の量に対して0.1〜500%の範囲において可能であ
り、特に1〜150%の範囲で使用することが好ましい
、これは、触媒が過剰に含まれている処理液に膜を高温
で浸漬させた場合に、膜の一次構造が破壊される恐れが
あるためである。
本発明において、サルトン類とフリーゾルタラフッ触媒
との混合液で半透膜を処理するに際しては、膜を溶解さ
せない触媒(例えばn−デカンなどのシくラフイン系炭
化水素溶媒など)中で行なうことも可能である。
との混合液で半透膜を処理するに際しては、膜を溶解さ
せない触媒(例えばn−デカンなどのシくラフイン系炭
化水素溶媒など)中で行なうことも可能である。
反応温度は、用いるサルトンの融点の+30℃以上+2
00℃以下が好ましい、これは、サルトン類とフリーデ
ルクラフッ触媒とを混合した場合、反応中間体が形成さ
れ、そしてこの中間体の融点が通常用いるサルトンより
20〜30℃高くなるためである。さらに、200℃以
上では半透膜が劣化する可能性があるためである。
00℃以下が好ましい、これは、サルトン類とフリーデ
ルクラフッ触媒とを混合した場合、反応中間体が形成さ
れ、そしてこの中間体の融点が通常用いるサルトンより
20〜30℃高くなるためである。さらに、200℃以
上では半透膜が劣化する可能性があるためである。
本発明による表面処理を行なった半透膜が、実際に表面
親水化されているかどうかは、水に対する触媒角や表面
抵抗の値より判定できるが、簡便には、カチオン染料に
よる染色性から判定することができる。
親水化されているかどうかは、水に対する触媒角や表面
抵抗の値より判定できるが、簡便には、カチオン染料に
よる染色性から判定することができる。
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく具体的に説
明する。なお、薬品類はすべて特級試薬を用いた。
明する。なお、薬品類はすべて特級試薬を用いた。
(実施例1)
ポリスルホンP−3500(ユニオンカーバイド社製)
15重量部をジメチルアセトアミド75重量部に加えて
4時間で加熱溶解させ、その後テトラエチレングリコー
ル10重量部を添加した。
15重量部をジメチルアセトアミド75重量部に加えて
4時間で加熱溶解させ、その後テトラエチレングリコー
ル10重量部を添加した。
このポリマー溶液を脱泡し、室温まで放冷した後、ガラ
ス板上に流延した。その後ただちに20℃の水に浸漬し
て一昼夜放置した。得られた平膜状半透膜の膜厚は0.
1mmであり、エタノールに浸漬後の透水率は7.8m
i/mi n * cm″・(kg/cm”)at 2
5℃であった。さらに、分子量1万のデキストラン5重
量%水溶液を用いて1.0kg/crn’、20℃にて
、エタノール浸漬後にこの平膜の分画性の測定を行なっ
た。(デキストラン濃度の測定は屈折率計を用いて行な
った。)その結果、分子量1万のデキストランの阻止率
は8.0%であった0次にこの平膜状半透膜を30重量
%のグリセリン水溶液に60℃で5時間浸漬させた。そ
の後、膜を取り出して50℃の乾燥機中で24時間乾燥
させ、さらに80°Cの真空乾燥機中で3時間乾燥させ
て、乾燥ポリスルホン膜を得た。この乾燥膜をエタノー
ル浸漬後に。
ス板上に流延した。その後ただちに20℃の水に浸漬し
て一昼夜放置した。得られた平膜状半透膜の膜厚は0.
1mmであり、エタノールに浸漬後の透水率は7.8m
i/mi n * cm″・(kg/cm”)at 2
5℃であった。さらに、分子量1万のデキストラン5重
量%水溶液を用いて1.0kg/crn’、20℃にて
、エタノール浸漬後にこの平膜の分画性の測定を行なっ
た。(デキストラン濃度の測定は屈折率計を用いて行な
った。)その結果、分子量1万のデキストランの阻止率
は8.0%であった0次にこの平膜状半透膜を30重量
%のグリセリン水溶液に60℃で5時間浸漬させた。そ
の後、膜を取り出して50℃の乾燥機中で24時間乾燥
させ、さらに80°Cの真空乾燥機中で3時間乾燥させ
て、乾燥ポリスルホン膜を得た。この乾燥膜をエタノー
ル浸漬後に。
透水率および分子量1万のデキストランの阻止率を測定
したところ、乾燥前に比べて変化は認められなかった。
したところ、乾燥前に比べて変化は認められなかった。
次にプロパンサルトン60gを40℃に昇温して融解し
た後、撹拌しながら無水塩化アルミニウム5gを加えた
。この混合液をただちに80℃に昇温し、1時間撹拌し
た。この混合液に上記乾燥ポリスルホン膜を20分間浸
漬処理した後、水洗し1.さらにエタノール中で1時間
浸漬させ、水中で保存した。得られた膜の透水率は5.
0ml/mi n * crn”* (kg/cm″
)at25℃であり、未処理膜の約578に低下した力
(、分子量1万のデキストランの阻止率は52%であり
、分画性が向上した。この表面処理膜を乾燥させた後。
た後、撹拌しながら無水塩化アルミニウム5gを加えた
。この混合液をただちに80℃に昇温し、1時間撹拌し
た。この混合液に上記乾燥ポリスルホン膜を20分間浸
漬処理した後、水洗し1.さらにエタノール中で1時間
浸漬させ、水中で保存した。得られた膜の透水率は5.
0ml/mi n * crn”* (kg/cm″
)at25℃であり、未処理膜の約578に低下した力
(、分子量1万のデキストランの阻止率は52%であり
、分画性が向上した。この表面処理膜を乾燥させた後。
未処理膜とともにカチオン染料(CI Ba5ic
Bluel)で染色したところ、未処理膜は全く染ま
らなかったが、本発明による表面処理膜では濃色に染色
された。また、この乾燥表面処理膜を重クロロホルム(
CDC13)に溶解させてH−NMRの測定を行ったと
ころ、δ=4.Oppm付近にメチレンプロトンに帰属
されう、るシグナルが観測された。
Bluel)で染色したところ、未処理膜は全く染ま
らなかったが、本発明による表面処理膜では濃色に染色
された。また、この乾燥表面処理膜を重クロロホルム(
CDC13)に溶解させてH−NMRの測定を行ったと
ころ、δ=4.Oppm付近にメチレンプロトンに帰属
されう、るシグナルが観測された。
(実施例2)
ポリスルホンP−350020重量部、ジメチルアセト
アミド71重量部、テトラエチレングリコール9重量部
を用いて実施例1と同様にしてポリマー原液を作成した
。特開昭58−156018号公報の実施例1の方法に
準じて、外径1゜5mm、内径0.75mmの中空糸状
半透膜を作成した。得られた膜のエタノール浸漬後の透
水率は9 、9mi/no mi no (kg/cr
n’) a t25℃、分子量1万のデキストランの阻
止率は18.8%であった。この中空糸状半透膜を50
cmの長さに切断し、実施例1と同様にしてグリセリン
処理後乾燥させ、乾燥ポリスルホン中空糸膜を得た。こ
の乾燥膜をエタノール浸漬後透水率および分子量1万の
デキストランの阻止率を測定したところ、乾燥前に比べ
て変化は認められなかった。
アミド71重量部、テトラエチレングリコール9重量部
を用いて実施例1と同様にしてポリマー原液を作成した
。特開昭58−156018号公報の実施例1の方法に
準じて、外径1゜5mm、内径0.75mmの中空糸状
半透膜を作成した。得られた膜のエタノール浸漬後の透
水率は9 、9mi/no mi no (kg/cr
n’) a t25℃、分子量1万のデキストランの阻
止率は18.8%であった。この中空糸状半透膜を50
cmの長さに切断し、実施例1と同様にしてグリセリン
処理後乾燥させ、乾燥ポリスルホン中空糸膜を得た。こ
の乾燥膜をエタノール浸漬後透水率および分子量1万の
デキストランの阻止率を測定したところ、乾燥前に比べ
て変化は認められなかった。
次にプロパンサルトン30gを40℃に昇温しで融解し
た後、撹拌しながら無水塩化第二スズ19gを徐々に加
えた。この混合液を80°Cに昇温し、1時間撹拌した
。乾燥中空糸の先端1cmを上記混合液中に浸し、他端
を容量1mjLのデスポーザル注射器に連結して、混合
液を吸引した。
た後、撹拌しながら無水塩化第二スズ19gを徐々に加
えた。この混合液を80°Cに昇温し、1時間撹拌した
。乾燥中空糸の先端1cmを上記混合液中に浸し、他端
を容量1mjLのデスポーザル注射器に連結して、混合
液を吸引した。
この状態で2分間放置し、ただちに水洗した。その後エ
タノール中に1時間浸漬させ、水中で保存した。得られ
た膜の透水率は1.9m文/mφmi n・ (kg/
crn’)at25°Cであり、未処理膜の約175に
低下したが、分子量1万のデキストランの阻止率は80
%であり、分画性が向上した。
タノール中に1時間浸漬させ、水中で保存した。得られ
た膜の透水率は1.9m文/mφmi n・ (kg/
crn’)at25°Cであり、未処理膜の約175に
低下したが、分子量1万のデキストランの阻止率は80
%であり、分画性が向上した。
上記の内面処理中空糸膜を97℃の熱水中で12時間浸
漬させた後、分子量1万のデキストランの阻止率を再度
測定したところ、実験誤差範囲内(±2%)で阻止率に
変化は認められなかった。
漬させた後、分子量1万のデキストランの阻止率を再度
測定したところ、実験誤差範囲内(±2%)で阻止率に
変化は認められなかった。
この内面処理中空糸膜を斜めに切断して実施例1と同様
に染色したところ、外表面は染色されなかったが、内表
面は濃色に染色された。
に染色したところ、外表面は染色されなかったが、内表
面は濃色に染色された。
(実施例3)
実施例2で作成した乾燥ポリスルホン中空糸状半透膜を
30cmの長さに切断し、中空糸の両端を接着剤で封止
した。実施例2で用いた処理液(プロパンサルトン−無
水塩化第二スズ混合液)を内径1cm、長さ50cmの
ガラス管中に入れて80℃に保温した。この処理液中に
上記の両端封止中空糸膜を2分間浸漬させた。その後た
だちに水洗し、エタノール中で1時間浸漬した後、水中
で保存した。得られた膜の透水率は2 、5mjL/m
5m1 no Ckg/crrf)at25℃であり、
分子量1万のデキストランの阻止率は78%であった。
30cmの長さに切断し、中空糸の両端を接着剤で封止
した。実施例2で用いた処理液(プロパンサルトン−無
水塩化第二スズ混合液)を内径1cm、長さ50cmの
ガラス管中に入れて80℃に保温した。この処理液中に
上記の両端封止中空糸膜を2分間浸漬させた。その後た
だちに水洗し、エタノール中で1時間浸漬した後、水中
で保存した。得られた膜の透水率は2 、5mjL/m
5m1 no Ckg/crrf)at25℃であり、
分子量1万のデキストランの阻止率は78%であった。
この外面処理中空糸膜を斜めに切断して実施例1と同様
に染色したところ、内表面は染まらなかったが、外表面
は濃色に染色された。
に染色したところ、内表面は染まらなかったが、外表面
は濃色に染色された。
(実施例4)
実施例2で作成した乾燥ポリスルホン中空糸状半透膜を
30cmの長さに切断し、中空糸の片端に1mJLのデ
スポーザル注射器を連結させ、実施例2で用いた処理液
(プロパンサルトン−無水塩化第二スズ混合液)中に注
射器以外を浸漬させた。ただちに処理液を注射器で吸引
して2分間放置した。その後水洗し、エタノール中で1
時間浸漬した後、水中で保存した。得られた膜の透水率
はl 、On文/m * m i n * (kg/
cm’) a t25℃であり、分子量1万のデキスト
ランの阻止率は90%であった。この内外表面処理膜を
水:イソプロパノ゛−ル=1:1の混合液中に80℃で
1週間浸漬した後、分子量1万のデキストランの阻止率
を再度測定したところ、実験誤差範囲内で阻止率に変化
は認められなかった。この内外両面処理中空糸を斜めに
切断して実施例1と同様に染色したところ、内外両表面
ともに濃色に染色された。
30cmの長さに切断し、中空糸の片端に1mJLのデ
スポーザル注射器を連結させ、実施例2で用いた処理液
(プロパンサルトン−無水塩化第二スズ混合液)中に注
射器以外を浸漬させた。ただちに処理液を注射器で吸引
して2分間放置した。その後水洗し、エタノール中で1
時間浸漬した後、水中で保存した。得られた膜の透水率
はl 、On文/m * m i n * (kg/
cm’) a t25℃であり、分子量1万のデキスト
ランの阻止率は90%であった。この内外表面処理膜を
水:イソプロパノ゛−ル=1:1の混合液中に80℃で
1週間浸漬した後、分子量1万のデキストランの阻止率
を再度測定したところ、実験誤差範囲内で阻止率に変化
は認められなかった。この内外両面処理中空糸を斜めに
切断して実施例1と同様に染色したところ、内外両表面
ともに濃色に染色された。
(実施例5)
ポリエーテルイミド(G、E 社製、ULTEMlo
oO)を膜素材に用いた以外は、実施例1と同様にして
平膜状半透膜を作成した。得られた膜は、膜厚が0.1
mmであり、エタノール浸漬後の膜の透水率は9.5m
fL/min@cm’*(kg/am’)at 25℃
であり、分子量1万のデキストランの阻止率は5.2%
であった。このポリエーテルイミド平膜状半透膜を、実
施例1と同様にして、プロパンサルトン−無水塩化アル
ミニウム混合液で処理した。得られた表面処理膜の透水
率は8.2mi/min@crn’* (kg/cm″
)at25℃、分子量1万のデキストランの阻止率は4
0%であった。
oO)を膜素材に用いた以外は、実施例1と同様にして
平膜状半透膜を作成した。得られた膜は、膜厚が0.1
mmであり、エタノール浸漬後の膜の透水率は9.5m
fL/min@cm’*(kg/am’)at 25℃
であり、分子量1万のデキストランの阻止率は5.2%
であった。このポリエーテルイミド平膜状半透膜を、実
施例1と同様にして、プロパンサルトン−無水塩化アル
ミニウム混合液で処理した。得られた表面処理膜の透水
率は8.2mi/min@crn’* (kg/cm″
)at25℃、分子量1万のデキストランの阻止率は4
0%であった。
(本発明の効果)
本発明によれば、膜の表面を比較的容易に親水化するこ
とができ、耐熱性および耐有機溶剤性に優れた高選択性
の半透膜が得られる。
とができ、耐熱性および耐有機溶剤性に優れた高選択性
の半透膜が得られる。
Claims (4)
- (1)芳香族環を繰り返し単位中に含む疎水性エンジニ
アリングプラスチックスから製膜した半透膜の膜表面部
分に、少なくとも1つ以上のメチレン基(メチレン基中
の水素原子はハロゲン原子に置換されていてもよい)を
隔ててスルホン酸基を導入したことを特徴とする表面親
水化高選択性透過膜。 - (2)半透膜が中空糸状半透膜である特許請求の範囲第
1項記載の表面親水化高選択性透過膜。 - (3)芳香族環を繰り返し単位中に含む疎水性エンジニ
アリングプラスチックスから製膜した半透膜を、サルト
ン類とフリーデルクラフツ触媒との混合物で処理するこ
とを特徴とする表面親水化高選択性透過膜の製造方法。 - (4)半透膜が中空糸状半透膜である特許請求の範囲第
3項記載の表面親水化高選択性透過膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61110924A JPS62269704A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 表面親水化高選択性透過膜とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61110924A JPS62269704A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 表面親水化高選択性透過膜とその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62269704A true JPS62269704A (ja) | 1987-11-24 |
Family
ID=14548068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61110924A Pending JPS62269704A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 表面親水化高選択性透過膜とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62269704A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2631247A1 (fr) * | 1988-05-10 | 1989-11-17 | Asahi Chemical Ind | Membrane semi-permeable tres selective et hydrophile en surface |
JP2002110174A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質、それを用いた膜、電極触媒被覆用溶液、膜/電極接合体及び燃料電池 |
EP1296398A2 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-26 | Hitachi, Ltd. | Solid polyelectrolyte, assembly of membrane and electrodes, and fuel cell |
JP2004327450A (ja) * | 2004-07-09 | 2004-11-18 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質及びそれを用いた膜/電極接合体 |
WO2017208608A1 (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 三菱重工業株式会社 | 樹脂材料層の表面処理方法及び樹脂材料 |
CN110180411A (zh) * | 2019-05-20 | 2019-08-30 | 浙江工业大学 | 一种由磺酸内酯改性的高通量纳滤膜及制备方法 |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP61110924A patent/JPS62269704A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2631247A1 (fr) * | 1988-05-10 | 1989-11-17 | Asahi Chemical Ind | Membrane semi-permeable tres selective et hydrophile en surface |
US4948508A (en) * | 1988-05-10 | 1990-08-14 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Surface-hydrophilic, highly selective semipermeable membrane |
JP2002110174A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質、それを用いた膜、電極触媒被覆用溶液、膜/電極接合体及び燃料電池 |
US7560185B2 (en) | 2000-09-29 | 2009-07-14 | Hitachi, Ltd | Solid polymer electrolyte, a membrane using thereof, a solution for coating electrode catalyst, a membrane/electrode assembly, and a fuel cell |
US7553574B2 (en) | 2000-09-29 | 2009-06-30 | Hitachi, Ltd | Solid polymer electrolyte, a membrane using thereof, a solution for coating electrode catalyst, a membrane/electrode assembly, and a fuel cell |
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US6893764B2 (en) | 2001-09-21 | 2005-05-17 | Hitachi, Ltd. | Solid polyelectrolyte, assembly of membrane and electrodes, and fuel cell |
EP1296398A3 (en) * | 2001-09-21 | 2008-12-17 | Hitachi, Ltd. | Solid polyelectrolyte, assembly of membrane and electrodes, and fuel cell |
US7541107B2 (en) | 2001-09-21 | 2009-06-02 | Hitachi, Ltd. | Solid polyelectrolyte, assembly of membrane and electrodes, amd fuel cell |
JP2003100317A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質と膜電極接合体および燃料電池 |
EP1296398A2 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-26 | Hitachi, Ltd. | Solid polyelectrolyte, assembly of membrane and electrodes, and fuel cell |
JP2004327450A (ja) * | 2004-07-09 | 2004-11-18 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質及びそれを用いた膜/電極接合体 |
WO2017208608A1 (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 三菱重工業株式会社 | 樹脂材料層の表面処理方法及び樹脂材料 |
US11111348B2 (en) | 2016-05-31 | 2021-09-07 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method for treating surface of resin material layer and resin material |
CN110180411A (zh) * | 2019-05-20 | 2019-08-30 | 浙江工业大学 | 一种由磺酸内酯改性的高通量纳滤膜及制备方法 |
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