JPS62268141A - 半導体ウエハ−の搬送装置における被送体の搬路逸脱防止方法ならびにその装置 - Google Patents
半導体ウエハ−の搬送装置における被送体の搬路逸脱防止方法ならびにその装置Info
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- JPS62268141A JPS62268141A JP11187586A JP11187586A JPS62268141A JP S62268141 A JPS62268141 A JP S62268141A JP 11187586 A JP11187586 A JP 11187586A JP 11187586 A JP11187586 A JP 11187586A JP S62268141 A JPS62268141 A JP S62268141A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 33
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- 239000002609 medium Substances 0.000 claims description 21
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 18
- 239000006163 transport media Substances 0.000 claims description 9
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は半導体ウェハーの搬送装置における被送体の
搬路逸脱防止方法ならびにその装置に関するものである
。
搬路逸脱防止方法ならびにその装置に関するものである
。
この発明は気体あるいは液体の流体を搬送媒体として、
これを噴射して半導体である被送体を浮上させ、且つ所
望する方向に搬送する搬送構成でその被送体が意に反し
て所望する方向以外の方向への推進あるいは搬送媒体の
不均一噴射による揺動浮上による方向性の喪失による搬
路逸脱現象を防止する方法なうびに装置に係るものであ
る。
これを噴射して半導体である被送体を浮上させ、且つ所
望する方向に搬送する搬送構成でその被送体が意に反し
て所望する方向以外の方向への推進あるいは搬送媒体の
不均一噴射による揺動浮上による方向性の喪失による搬
路逸脱現象を防止する方法なうびに装置に係るものであ
る。
従来の技術
一般に流体の噴射によって半導体ウェハーを浮上させ、
且つ、推進させる手段は、その搬送路と定めた位置に敷
設状態に設置した搬送部材に穿設した数多の小経口より
その搬送区間の工程に対応して適応する気体あるいは液
体の流体を搬送媒体としてこれを噴射させる手段を用い
て、硬質物体を搬送媒体として接触搬送させない搬送方
法は既に公知である。例えば昭和54年特許出願公告第
10829号および昭和58年特許出願公告第4617
0号などが存在する。
且つ、推進させる手段は、その搬送路と定めた位置に敷
設状態に設置した搬送部材に穿設した数多の小経口より
その搬送区間の工程に対応して適応する気体あるいは液
体の流体を搬送媒体としてこれを噴射させる手段を用い
て、硬質物体を搬送媒体として接触搬送させない搬送方
法は既に公知である。例えば昭和54年特許出願公告第
10829号および昭和58年特許出願公告第4617
0号などが存在する。
発明が解決しようとする問題点
圧力流体の噴射によって半導体ウェハーを浮上させ、且
つ、所望する方向に推進させる場合、個個の噴射流体に
その圧力差が生じ易く、その結果、搬送する半導体ウェ
ハーである被送体が不安定な移動現象に陥り易くなる。
つ、所望する方向に推進させる場合、個個の噴射流体に
その圧力差が生じ易く、その結果、搬送する半導体ウェ
ハーである被送体が不安定な移動現象に陥り易くなる。
これらの原因の一つに流体を噴射させる搬送部材側にあ
る。即ち、流体を搬送媒体として用いる搬送部材は、無
数の微細径孔から流体を噴射させて被送体を浮上させ、
且つ、該流体の噴射角度によって浮上させた被送体に推
進作用を与えるものである。
る。即ち、流体を搬送媒体として用いる搬送部材は、無
数の微細径孔から流体を噴射させて被送体を浮上させ、
且つ、該流体の噴射角度によって浮上させた被送体に推
進作用を与えるものである。
理論的には浮上作用を与えるには被送体に対し噴射流体
を直角に照射することによってこれを可能にし、推進作
用を与えるには、前記浮上作用に加えて推進させる方向
への斜状噴射によりその目的を達成することができる。
を直角に照射することによってこれを可能にし、推進作
用を与えるには、前記浮上作用に加えて推進させる方向
への斜状噴射によりその目的を達成することができる。
実際には搬送媒体を噴射させる側の微細経口の穿孔技術
が乏しいため、噴射流体個々の形態が不揃いとなり、前
記理論上の効果を得ることが難かしい。このように移送
不安定の原因が解明されてはいるものの、その原因を修
整する手段が理解されていないのが現状である。
が乏しいため、噴射流体個々の形態が不揃いとなり、前
記理論上の効果を得ることが難かしい。このように移送
不安定の原因が解明されてはいるものの、その原因を修
整する手段が理解されていないのが現状である。
この発明は主に移送不安定の原因の一つとなっている噴
射状況の不揃現象を逆手にとる手段と推進作用に用いる
斜状噴射とを組み合せて、生じようとする不安定現象と
与える不安定要素とによってその作用を相殺し、軌道修
整という現象に変換し、また上記の作用を組み合せるこ
とによって結果的に不安定現象を正常現象に転換させる
ものである。
射状況の不揃現象を逆手にとる手段と推進作用に用いる
斜状噴射とを組み合せて、生じようとする不安定現象と
与える不安定要素とによってその作用を相殺し、軌道修
整という現象に変換し、また上記の作用を組み合せるこ
とによって結果的に不安定現象を正常現象に転換させる
ものである。
問題点を解決するための手段
この発明は半導体ウェハーである被送体(以下被送体と
称す)を搬送する搬送路で、その搬送手段を気体あるい
は液体の流体を搬送媒体とし、その搬送媒体に圧力を加
えて噴出し、被送体を浮上させ且つ推進させる方式にお
いて、従来被送体が演じる不安定移動の原因の一つであ
る噴射による揚力の不均一を利用して搬送部材からの噴
射状況を均一化に逆行して統制的不均一化を図ると共に
斜状噴射による推進作用を推進作用以外の進路修整手段
に用いるものである。
称す)を搬送する搬送路で、その搬送手段を気体あるい
は液体の流体を搬送媒体とし、その搬送媒体に圧力を加
えて噴出し、被送体を浮上させ且つ推進させる方式にお
いて、従来被送体が演じる不安定移動の原因の一つであ
る噴射による揚力の不均一を利用して搬送部材からの噴
射状況を均一化に逆行して統制的不均一化を図ると共に
斜状噴射による推進作用を推進作用以外の進路修整手段
に用いるものである。
実施例
次にこの発明の実施例を図面と共に説明すれば第1図は
従来の被送体(1)が不安定状況を示す代表事例で、搬
送部材(2)から噴射される搬送媒体(3)の揚力(a
lを矢印で示し、その総合揚力(blが不均一の波形が
描かれこれによって平均的された状態が被送体(1)の
傾斜した浮上姿勢となって現れ、該状態が進行に伴って
不連続形態をなすものである。前述したようにその原因
の一つに噴射口(4)口径の不揃いによることがあげら
れる。
従来の被送体(1)が不安定状況を示す代表事例で、搬
送部材(2)から噴射される搬送媒体(3)の揚力(a
lを矢印で示し、その総合揚力(blが不均一の波形が
描かれこれによって平均的された状態が被送体(1)の
傾斜した浮上姿勢となって現れ、該状態が進行に伴って
不連続形態をなすものである。前述したようにその原因
の一つに噴射口(4)口径の不揃いによることがあげら
れる。
この発明は前記噴射口(4)の不揃いによる被送体(1
)の不安定動作に着眼し、秩序をもった不揃構成によっ
て被送体(1)が所望の作用を呈することに着想したも
のである。
)の不安定動作に着眼し、秩序をもった不揃構成によっ
て被送体(1)が所望の作用を呈することに着想したも
のである。
第2図のように搬送媒体(3)を直上位置方向に噴射さ
せる場合は搬送路の側方、即ち搬送部材(2)の両端部
は噴射口(4)の開口分布を密にし中央部を疎にするこ
とにより搬送媒体(3)による揚力(a)は両端部に高
く中央部で低い値を示し、これによる総合揚力(′b)
は逆放物線に近似した状態を示し、これにより端部方に
ある被送体(1)は揚力の小さい中央部に誘導されるも
のである。
せる場合は搬送路の側方、即ち搬送部材(2)の両端部
は噴射口(4)の開口分布を密にし中央部を疎にするこ
とにより搬送媒体(3)による揚力(a)は両端部に高
く中央部で低い値を示し、これによる総合揚力(′b)
は逆放物線に近似した状態を示し、これにより端部方に
ある被送体(1)は揚力の小さい中央部に誘導されるも
のである。
第3図は搬送部材(2)の中心線(0)の上方を指向す
る搬送媒体(3)の噴射方向にすることにより、被送体
(1)が前記中心線(0)より偏った位置に在った場合
、偏った範囲の噴射方向による推進作用によって中心線
(0)を中央位置になるように被送体(1)の移送方向
がその軌道が修整させられる。
る搬送媒体(3)の噴射方向にすることにより、被送体
(1)が前記中心線(0)より偏った位置に在った場合
、偏った範囲の噴射方向による推進作用によって中心線
(0)を中央位置になるように被送体(1)の移送方向
がその軌道が修整させられる。
第4図示の如く、この態様は前記のように、搬送部材(
2)の中心線(0)の上部を指向する搬送媒体(3)の
指向方向を設定すると共に、この斜向の噴射作用を奏す
る噴射口(4)の開口分布を搬送部材(2)の両端部を
密に中央部を疎に形成することにより搬送媒体(3)の
揚力(alは両端部に高く中央部で低い値を示しこれら
の総合揚力は逆放物線に近似した曲線を示し、この作用
により被送体(1)は中心線(0)に接近させる推進作
用と相まって該中心線(0)に沿った移送を助成するも
のである。
2)の中心線(0)の上部を指向する搬送媒体(3)の
指向方向を設定すると共に、この斜向の噴射作用を奏す
る噴射口(4)の開口分布を搬送部材(2)の両端部を
密に中央部を疎に形成することにより搬送媒体(3)の
揚力(alは両端部に高く中央部で低い値を示しこれら
の総合揚力は逆放物線に近似した曲線を示し、この作用
により被送体(1)は中心線(0)に接近させる推進作
用と相まって該中心線(0)に沿った移送を助成するも
のである。
以上いずれの態様も搬送部材(2)の表面に開口する極
微細経口の噴射口(4)から噴射させる搬送媒体(3)
はいずれの噴射口(4)よりも均一した噴射状態で且つ
設定した噴射方向を得られることが条件でこの条件を満
たす手段として搬送部材(2)の表面に開口する噴射口
(4)を有する噴射孔(5)は前記搬送部材(2)内で
所望する噴射状態を前記噴射孔(5)で形成するもので
ある。即ち、所望する極微細径孔で且つある程度の長さ
を同一径を維持して形成するもので斜状噴射の場合は所
望する噴射角度と同一角度をもって形成するものである
。
微細経口の噴射口(4)から噴射させる搬送媒体(3)
はいずれの噴射口(4)よりも均一した噴射状態で且つ
設定した噴射方向を得られることが条件でこの条件を満
たす手段として搬送部材(2)の表面に開口する噴射口
(4)を有する噴射孔(5)は前記搬送部材(2)内で
所望する噴射状態を前記噴射孔(5)で形成するもので
ある。即ち、所望する極微細径孔で且つある程度の長さ
を同一径を維持して形成するもので斜状噴射の場合は所
望する噴射角度と同一角度をもって形成するものである
。
このような噴射孔(5)の形状技術はこの発明の特許出
願人と同一出願人がこの特許出願臼と同日出願の特許願
の穿孔技術の技術的思想に基いてなされたものである。
願人と同一出願人がこの特許出願臼と同日出願の特許願
の穿孔技術の技術的思想に基いてなされたものである。
上記の穿孔技術の大要は1つ(1例)の噴射孔を、2つ
に分割した搬送部材の単体の立面に切削工程によって所
望断面積の微細幅の溝を穿溝し、他方の部材の立面を前
記の間溝部を閉鎖して微細径の噴射孔を所望する長に形
成することができるものである。
に分割した搬送部材の単体の立面に切削工程によって所
望断面積の微細幅の溝を穿溝し、他方の部材の立面を前
記の間溝部を閉鎖して微細径の噴射孔を所望する長に形
成することができるものである。
なお、この発明における噴射孔(5)の形成手段の一例
を前記のように示したものであるが該手段以外の技術を
もって要部構成を遂行してもそれは任意である。
を前記のように示したものであるが該手段以外の技術を
もって要部構成を遂行してもそれは任意である。
効 果
以上のようにしたこの発明は、被送体(1)を搬送部材
(2)の中央位置を浮上、且つ、搬送することができる
ので半導体ウェハーが最も嫌う硬質物体の接触作用であ
るガイドレール等を設けることなく搬送路よりの逸脱現
象を防止することができる効果あることを特徴とするも
のである。
(2)の中央位置を浮上、且つ、搬送することができる
ので半導体ウェハーが最も嫌う硬質物体の接触作用であ
るガイドレール等を設けることなく搬送路よりの逸脱現
象を防止することができる効果あることを特徴とするも
のである。
第1図は被送体の搬送時における搬送媒体の噴射状況を
説明するための断面略図、第2図、第3゜図ならびに第
4図はこの発明による搬送媒体の噴射状況と被送体との
関係を説明するための断面略図、第5図は噴射孔の状態
を説明するための拡大部分的断面図である。 (1)・・・被送体、(2)・・・搬送部材、(3)・
・・搬送媒体、(4)・・・噴射口、(5)・・・噴射
孔、(a)・・・揚力、(bl・・・総合揚力。
説明するための断面略図、第2図、第3゜図ならびに第
4図はこの発明による搬送媒体の噴射状況と被送体との
関係を説明するための断面略図、第5図は噴射孔の状態
を説明するための拡大部分的断面図である。 (1)・・・被送体、(2)・・・搬送部材、(3)・
・・搬送媒体、(4)・・・噴射口、(5)・・・噴射
孔、(a)・・・揚力、(bl・・・総合揚力。
Claims (6)
- (1)流体を搬送媒体とし、これを噴射して半導体ウェ
ハーである被送体を浮上させ、且つ所望の方向に搬送す
る搬送構成において、搬送媒体の噴射分布を搬送路の両
側方を高密度に中央部を両側方より底密度とし、浮上し
且つ推進作用を受ける被送体を前記搬送路の中央部に誘
導しつつ所望方向に移送することができるようにしたこ
とを特徴とする半導体ウェハーの搬送装置における被送
体の搬路逸脱防止方法。 - (2)流体を搬送媒体とし、これを噴射して半導体ウェ
ハーである被送体を浮上させ、且つ所望の方向に搬送す
る搬送構成において、搬送部材より噴射させる搬送媒体
の噴射方向を搬送路の中心線上方を指向する斜上方向と
し、被送体が前記中心線より離脱しようとする現象を阻
止し、また離脱しようとしている被送体の進路を搬送路
の中心線を指向する軌条に修整することができるように
したことを特徴とする半導体ウェハーの搬送装置におけ
る被送体の搬路逸脱防止方法。 - (3)流体を搬送媒体とし、これを噴射して半導体ウェ
ハーである被送体を浮上させ、且つ所望の方向に搬送す
る搬送構成において、搬送部材より噴射する搬送媒体の
噴射方向を搬送路の中心線上方を指向する斜上方向とす
ると共に、その噴射分布を搬送路の両側方を高密度に中
央部に向うに従って暫時前記両側方より底密度となるよ
うにし両側方の浮揚力を中心部よりも高くして、搬送路
の中心線上を移動する被送体を該中心線より離脱する方
向に進行する作用を阻止しつつ所望の方向に搬送するこ
とができることを特徴とする半導体ウェハーの搬送装置
における被送体の搬路逸脱防止方法。 - (4)流体を搬送媒体とし、これを噴射して半導体ウェ
ハーである被送体を浮上させ、且つ、所望の方向に搬送
する搬送構成において、搬送路を構成する搬送部材の表
面に開口する微細経口の搬送媒体噴射口の開口分布を搬
送路の両側方を高密度に、中央部を前記両側方の開口密
度より底密度の開口分布にしたことを特徴とする半導体
ウェハーの搬送装置における被送体の搬路逸脱防止装置
。 - (5)流体を搬送媒体とし、これを噴射して半導体ウェ
ハーである被送体を浮上させ、且つ、所望の方向に搬送
する搬送構成において、搬送路を構成する搬送部材の表
面に開口する数多の微細経口の搬送媒体噴射口を形成す
る搬送部材内部の噴射孔を搬送路の中心線上方を指向す
る斜傾区間をある程度の距離を噴射指向性を定める助走
区間として直線状に穿孔したことを特徴とする半導体ウ
ェハーの搬送装置における被送体の搬路逸脱防止装置。 - (6)流体を搬送媒体とし、これを噴射して半導体ウェ
ハーである被送体を浮上させ、且つ、所望の方向に搬送
する搬送構成において、搬送路を構成する搬送部材の表
面に開口する数多の微細経口の搬送媒体噴射口を形成す
る搬送部材内部の噴射孔を搬送路の中心線上方を指向す
る斜傾区間をある程度の距離を噴射指向性を定める助走
区間として直線状に穿孔し、これら搬送媒体噴射口の開
口分布を搬送路の両側方を高密度に、中央部を前記両側
方の開口密度より底密度の開口分布にしたことを特徴と
する半導体ウェハーの搬送装置における被送体の搬路逸
脱防止装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11187586A JPS62268141A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 半導体ウエハ−の搬送装置における被送体の搬路逸脱防止方法ならびにその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11187586A JPS62268141A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 半導体ウエハ−の搬送装置における被送体の搬路逸脱防止方法ならびにその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62268141A true JPS62268141A (ja) | 1987-11-20 |
JPH0140496B2 JPH0140496B2 (ja) | 1989-08-29 |
Family
ID=14572345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11187586A Granted JPS62268141A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 半導体ウエハ−の搬送装置における被送体の搬路逸脱防止方法ならびにその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62268141A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH098097A (ja) * | 1995-06-15 | 1997-01-10 | Kaijo Corp | 物体浮揚装置及びこれを具備した物体搬送装置 |
JPH09202425A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Kaijo Corp | 物体浮揚装置を具備した物体搬送装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0399592U (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-17 |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP11187586A patent/JPS62268141A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH098097A (ja) * | 1995-06-15 | 1997-01-10 | Kaijo Corp | 物体浮揚装置及びこれを具備した物体搬送装置 |
JPH09202425A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Kaijo Corp | 物体浮揚装置を具備した物体搬送装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0140496B2 (ja) | 1989-08-29 |
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