JPS62267360A - 高分子着色成形材用の耐光安定化剤 - Google Patents
高分子着色成形材用の耐光安定化剤Info
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- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical group C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- AUMBZPPBWALQRO-UHFFFAOYSA-L zinc;n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical compound [Zn+2].C=1C=CC=CC=1CN(C(=S)[S-])CC1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1CN(C(=S)[S-])CC1=CC=CC=C1 AUMBZPPBWALQRO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
技術分野
本発明は、有機顔料を主要着色剤とする高分子着色組成
物に関する。ざらに具体的には、本発明は、光退色性に
係る耐光安定化高分子着色組成物に関する。
物に関する。ざらに具体的には、本発明は、光退色性に
係る耐光安定化高分子着色組成物に関する。
高分子中の顔料は、色彩を与えるばかりでなく、高分子
表面の亀裂、白亜化などの物理的または化学的欠陥を補
足ないし増強するなどの役目をも担うものである。
表面の亀裂、白亜化などの物理的または化学的欠陥を補
足ないし増強するなどの役目をも担うものである。
このような目的で用いられる顔料は、一般に方寸光性、
隠蔽力、耐溶剤[生などの物けにすぐれている無殿質の
ものが常用されている。しかしながら、無影顔料には色
の種類、鮮やかさ等において制限がある。
隠蔽力、耐溶剤[生などの物けにすぐれている無殿質の
ものが常用されている。しかしながら、無影顔料には色
の種類、鮮やかさ等において制限がある。
このようなところから、有機顔料に対する需要が必って
、無影顔料では得テゴい巨、たとえば赤色や鮮やかな色
の高分子着色物を調製する場合には有機顔料によらざる
を得ないのが現状でおる。
、無影顔料では得テゴい巨、たとえば赤色や鮮やかな色
の高分子着色物を調製する場合には有機顔料によらざる
を得ないのが現状でおる。
有機顔料は、このように、色相が臂富で鮮明さ及び着色
力にすぐれている。しかしながら、耐光性や隠蔽力など
の物性においては、無影顔料に比べて劣っており、特、
に耐光性の低0ことが使用上の大きな障害となっている
。
力にすぐれている。しかしながら、耐光性や隠蔽力など
の物性においては、無影顔料に比べて劣っており、特、
に耐光性の低0ことが使用上の大きな障害となっている
。
近年、これらの点を改良した有C’2 顔料も開発され
つつあるが、それらは非常に高1匝であるので、極く限
られた分野でしか使用されていないのが実情である。し
たがって、農用されている安価な有機顔料の副光[生が
改良されて耐久力のめる高分子着色物を得ることができ
るならば、その着色物の付7)O価値性を向上させるた
めにも、また省資源・省エネルギーの見地からも、有意
義なことである。
つつあるが、それらは非常に高1匝であるので、極く限
られた分野でしか使用されていないのが実情である。し
たがって、農用されている安価な有機顔料の副光[生が
改良されて耐久力のめる高分子着色物を得ることができ
るならば、その着色物の付7)O価値性を向上させるた
めにも、また省資源・省エネルギーの見地からも、有意
義なことである。
当該業界ではこのような技術の開発を強く要望している
。
。
先行技術
高分子@色物中の有門顔料の色を光に対して堅牢にする
ために従来いくつかの千円が試みられてきた。例えば、
(1)顧f斗そのものを光に対して堅牢にしたり、(2
)紫外線から看色顔5月を(呆日する紫外線吸収剤を高
分子中に練り込んだり、(3)光によって引き起こされ
る有毀顔料の分解を抑制する自動間化防止剤を使用した
り等の手段で必るa (1)の手段として、耐光性など
の有数顔料の欠点を改善したものも開発されてはいるが
、上記したようにこのような高級有数顔料は非常に高圃
であるため、青〜緑色のフタロシアニン系のものを除い
ては、極く限られた分野でしか用いられず、汎用顔料と
は言い難いのが現状でおる。
ために従来いくつかの千円が試みられてきた。例えば、
(1)顧f斗そのものを光に対して堅牢にしたり、(2
)紫外線から看色顔5月を(呆日する紫外線吸収剤を高
分子中に練り込んだり、(3)光によって引き起こされ
る有毀顔料の分解を抑制する自動間化防止剤を使用した
り等の手段で必るa (1)の手段として、耐光性など
の有数顔料の欠点を改善したものも開発されてはいるが
、上記したようにこのような高級有数顔料は非常に高圃
であるため、青〜緑色のフタロシアニン系のものを除い
ては、極く限られた分野でしか用いられず、汎用顔料と
は言い難いのが現状でおる。
(2)の紫外線吸収剤としてはサリチル酸エステルやそ
のg4体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール
誘導体などがよく知られてあり、また(3〉の酸化防止
剤としては立体障害の必るフェノール[1化合物、アミ
ン誘導体、イミグゾール誘導体等のラジカル捕捉能もし
くは過酸化物分解能を有する化合物などが知られている
。これらの化合物の中には、確かに有数顔料の変色や退
色の防止効果を示すものもあるが、その効力は小ざくで
、充分なものとは言い難い。
のg4体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール
誘導体などがよく知られてあり、また(3〉の酸化防止
剤としては立体障害の必るフェノール[1化合物、アミ
ン誘導体、イミグゾール誘導体等のラジカル捕捉能もし
くは過酸化物分解能を有する化合物などが知られている
。これらの化合物の中には、確かに有数顔料の変色や退
色の防止効果を示すものもあるが、その効力は小ざくで
、充分なものとは言い難い。
近年、染料などの有毀系色素の光退色が主として、色素
自身の光増感作用と空気中の酸素(三重項酸素)とが関
与して生成する活性な一重項状態の酸素によって鍍化さ
れるために起こる、ということが明らかにされている。
自身の光増感作用と空気中の酸素(三重項酸素)とが関
与して生成する活性な一重項状態の酸素によって鍍化さ
れるために起こる、ということが明らかにされている。
このメカニズムによる光退色を防止するためには、従来
の紫外線吸収剤や自gjJ酸化防止剤は殆ど効果がなく
、光退色の主要因である活性な一重項酸素を非活性化さ
せる作用を有する化合物が効果を発揮する。このような
作用をもつ化合物としては、1,4−ジアザビシクロ(
2,2,2)オクタンや3−カロチン類等が知られてい
るが、これらは昇華性や光安定性などに問題があるため
実用に供するには不向きてあり、高分子用として総合的
に優れた効果を発揮する有数顔料着色物の耐光堅牢剤は
いまだ見当たらない。(なお、後記の効果の項を参照さ
れたい。) 発明の慨要 2」旦 本発明は上記の問題に解決を与えることを目的とし、効
果的な副光堅牢他剤の使用によってこの目的を達成しよ
うとするものである。
の紫外線吸収剤や自gjJ酸化防止剤は殆ど効果がなく
、光退色の主要因である活性な一重項酸素を非活性化さ
せる作用を有する化合物が効果を発揮する。このような
作用をもつ化合物としては、1,4−ジアザビシクロ(
2,2,2)オクタンや3−カロチン類等が知られてい
るが、これらは昇華性や光安定性などに問題があるため
実用に供するには不向きてあり、高分子用として総合的
に優れた効果を発揮する有数顔料着色物の耐光堅牢剤は
いまだ見当たらない。(なお、後記の効果の項を参照さ
れたい。) 発明の慨要 2」旦 本発明は上記の問題に解決を与えることを目的とし、効
果的な副光堅牢他剤の使用によってこの目的を達成しよ
うとするものである。
したがって、本発明による光退色性に係る両光[生を改
善した有職顔料を主要着色剤とする高分子着色組成物は
、下記の(イ)〜(へ)群から選ばれた金属錯体の少な
くとも一つを含有することを特徴とするものである。
善した有職顔料を主要着色剤とする高分子着色組成物は
、下記の(イ)〜(へ)群から選ばれた金属錯体の少な
くとも一つを含有することを特徴とするものである。
(イ)一般式(I)で表されるビスジチオ−α−ジケト
ンの金飄錯体。
ンの金飄錯体。
((T)式中、R1及びR−はメチル基、エチル基又は
フェニル基を示し、Mlは\i又はC’oを示す。〕 (ロ)一般式(TI>で表されるシアルギルジチオカル
バミン酸の金属錯1本 ((■)式中、R3及びR4は炭素原子1〜4個のアル
キル基、シクロヘキシル基、フェニル基。
フェニル基を示し、Mlは\i又はC’oを示す。〕 (ロ)一般式(TI>で表されるシアルギルジチオカル
バミン酸の金属錯1本 ((■)式中、R3及びR4は炭素原子1〜4個のアル
キル基、シクロヘキシル基、フェニル基。
ベンジル基、おるいは窒素原子と共に結合して\−ペン
タメチレン基を形成する;M2はN1゜Go又はznを
示す。〕 (ハ〉一般式(III)で表されるビス1\−(n−ア
ルキル)サリチルアルドイミンのニッケル塩。
タメチレン基を形成する;M2はN1゜Go又はznを
示す。〕 (ハ〉一般式(III)で表されるビス1\−(n−ア
ルキル)サリチルアルドイミンのニッケル塩。
〔(■)式中、R5は炭素原子1〜.12fIlのn−
アルキル基を示す。〕 (ニ)一般式(IV )で表される置換フェニルスル’
(IV)式中、R6はメチル基又は水酸基を、R7及び
R8は水素原子又はメチル基を示す。〕(ホ)化学式(
V)で表される1、5−ジスルホン酸ナフタレンのニッ
ケル塩。
アルキル基を示す。〕 (ニ)一般式(IV )で表される置換フェニルスル’
(IV)式中、R6はメチル基又は水酸基を、R7及び
R8は水素原子又はメチル基を示す。〕(ホ)化学式(
V)で表される1、5−ジスルホン酸ナフタレンのニッ
ケル塩。
(へ)化学式(Vl)で表される8−ヒドロキシキノリ
ン−5−スルホン酸のニッケル塩。
ン−5−スルホン酸のニッケル塩。
処暑
本発明の高分子着色組成物は、上記の点において改善さ
れている。
れている。
なお、(イ)〜(ハ)群に係る化合物を塗料組成物に応
用し、塗料退色防止の発明を完成している(特願昭5.
9−209501号)、、また、(ハ)群に係る化合物
、ビス(1\−n−ドデシルサリチ昭56−99340
号公−報)。しかし、この(イ)〜(へ)群に係る金属
錯体を、有酸顔料を主要着色剤とした高分子着色組成物
に直接添加し、光退色性に係る両光堅牢化を目的として
、適用した報告はいまだ見当らない。
用し、塗料退色防止の発明を完成している(特願昭5.
9−209501号)、、また、(ハ)群に係る化合物
、ビス(1\−n−ドデシルサリチ昭56−99340
号公−報)。しかし、この(イ)〜(へ)群に係る金属
錯体を、有酸顔料を主要着色剤とした高分子着色組成物
に直接添加し、光退色性に係る両光堅牢化を目的として
、適用した報告はいまだ見当らない。
本発明は、有機色素の光退色メカニズムや防止メカニズ
ムの基礎的研究に基づいて、このニッケル錯体の光退色
防止作用が光退色の主要因である一重項酸素の活性エネ
ルギーを吸収して非活性化させることに在るという発見
をなし、この発明を高分子着色物に応用して、所期の目
的を遅するのに成功したものでおる。
ムの基礎的研究に基づいて、このニッケル錯体の光退色
防止作用が光退色の主要因である一重項酸素の活性エネ
ルギーを吸収して非活性化させることに在るという発見
をなし、この発明を高分子着色物に応用して、所期の目
的を遅するのに成功したものでおる。
本発明の安定剤化合物は、そのけλ量を高分子中に含有
させた際に、着色有機原料の副光堅牢)生を著しく高め
るものであって、これらの特性を利用すれば高分子着色
物の付加価値性や耐久性を高めて工業的ならびに省資源
的に有利な改良を提供し得るものである。
させた際に、着色有機原料の副光堅牢)生を著しく高め
るものであって、これらの特性を利用すれば高分子着色
物の付加価値性や耐久性を高めて工業的ならびに省資源
的に有利な改良を提供し得るものである。
化合物
本発明で高分子着色物の光退色に対する安定剤として使
用する錯体は、前記の(イ)へ・(へ)群に属する化合
物である。
用する錯体は、前記の(イ)へ・(へ)群に属する化合
物である。
(イ)群のビスジチオ−α−ジケトンの金属錯体の金属
種は、\i又1まCOである。これらのうちでは、Ni
がHA Aである。この化合物はメチル基、エチル基を
置換基とする以外にフェニル基を持つが、このフェニル
基は低級アルキル基又は低級アルコキシ基(いずれも炭
素原子数1〜6個程度)で置換されたものであってもよ
い。したがって、この化合物に関しての「フェニル」と
いう用語は、低級アルキル又は低級アルコキシ置換フェ
ニルを包含するものとして理解すべきであるCなお、合
成面やコスト面からは、非置換のフェニルのものが好ま
しい。
種は、\i又1まCOである。これらのうちでは、Ni
がHA Aである。この化合物はメチル基、エチル基を
置換基とする以外にフェニル基を持つが、このフェニル
基は低級アルキル基又は低級アルコキシ基(いずれも炭
素原子数1〜6個程度)で置換されたものであってもよ
い。したがって、この化合物に関しての「フェニル」と
いう用語は、低級アルキル又は低級アルコキシ置換フェ
ニルを包含するものとして理解すべきであるCなお、合
成面やコスト面からは、非置換のフェニルのものが好ま
しい。
(ロ)群のジアルキルジチオカルバミン酸の金属錯体の
金属種は、si、Co又は7−nである。
金属種は、si、Co又は7−nである。
(ロ)群の化合物の場合も、金Z種はNiが最適である
。Eアルキル」は、炭素原子数1〜61固程度の低級ア
ルキル基、特にメチル基、エチル基及びブチル基が適当
である。
。Eアルキル」は、炭素原子数1〜61固程度の低級ア
ルキル基、特にメチル基、エチル基及びブチル基が適当
である。
(ハ)群の化合物はn−アルキル基を有するニッケル塩
であるが、高分子との相溶性から、n−ドデシル基が適
当である。
であるが、高分子との相溶性から、n−ドデシル基が適
当である。
(ニ)群の化合物の場合は置換フェニルスルホン酸ニッ
ケル塩のうち、適当なものはR6,R7及びR8がメチ
ル基であるメシチレンスルホン駁ニッケル塩又はR6が
水=基で、R7及びR8が水素原子であるp−フェノー
ルスルホン駁ニッケル塩が挙げられる。
ケル塩のうち、適当なものはR6,R7及びR8がメチ
ル基であるメシチレンスルホン駁ニッケル塩又はR6が
水=基で、R7及びR8が水素原子であるp−フェノー
ルスルホン駁ニッケル塩が挙げられる。
(ホ)及び(へ)群は、それぞれナフタレン及び8−ヒ
ドロキシキノ1ノンのスルホン似ニッケル塩であるっ これらの化合物はいずれも公知のものでおり、したがっ
て合目的的な任意の方法で合成したものを使用すること
ができる。例えば、(イ)群の化合物でおるビスジチオ
ベンジル金属錯体の合成は公知の方法によって行なわれ
る。すなわち、ベンゾインと五硫化リンをジオキサン又
はキシレンに溶解し、95〜110’Cで約15時間騎
拌する。
ドロキシキノ1ノンのスルホン似ニッケル塩であるっ これらの化合物はいずれも公知のものでおり、したがっ
て合目的的な任意の方法で合成したものを使用すること
ができる。例えば、(イ)群の化合物でおるビスジチオ
ベンジル金属錯体の合成は公知の方法によって行なわれ
る。すなわち、ベンゾインと五硫化リンをジオキサン又
はキシレンに溶解し、95〜110’Cで約15時間騎
拌する。
室温にまで冷却後、濾過する。この濾過母液に、ベンゾ
イン仕込量の約1/2モル景の塩化ニッケルを水に溶か
した溶液を加えて、還流下に3〜5時間攪拌する。、空
温にまで冷却し、析出した結晶を濾過して得る。この粗
生成物を、ジオキサン、メタノール等の何間溶媒及び(
又は)温水で速理することにより未反応物、副反応物等
を除去じてから乾燥すると、融点280〜286°Cの
目的物て必るニッケル1d体が固型状又は扮未払として
trられる。なお、上記操作中の塩化ニッケルの代りに
塩化コバルトを使用すると300°C以上の融点をもつ
コバルト錯体が得られる。
イン仕込量の約1/2モル景の塩化ニッケルを水に溶か
した溶液を加えて、還流下に3〜5時間攪拌する。、空
温にまで冷却し、析出した結晶を濾過して得る。この粗
生成物を、ジオキサン、メタノール等の何間溶媒及び(
又は)温水で速理することにより未反応物、副反応物等
を除去じてから乾燥すると、融点280〜286°Cの
目的物て必るニッケル1d体が固型状又は扮未払として
trられる。なお、上記操作中の塩化ニッケルの代りに
塩化コバルトを使用すると300°C以上の融点をもつ
コバルト錯体が得られる。
次に代表的な化合物を融点又は分解点と共に例示するが
、これらに限定されるものではない。
、これらに限定されるものではない。
(イ)群の化合物
ビスく2,3−ジチオブタンジオン〉ニッケル(分解点
254°C) ビス(3,4−ジチオブタンジオン)ニッケル(分解点
112°C〉 ビス(ジチオベンジル)ニッケル (融点 286°C) ビス(ジチオベンジル)コバルト (融点 300’C以上) ビス(4,4’−ジメチルジチオベンジル)ニッケル
(分解点 337°C)(ロ)群
の化合物 ジメチルジチオカルバミン (融点 3 0 0 ’C以上) ジエチルジチオカルバミン酸ニッケル*1)(融点 2
32°C) ジーn−プロピルジチオカルバミン酸ニッケル(融点
129°C) ジーiSOープロピルジチオカルバミンル
(融点 300’C以上)ジーn−ブチルジチ
オカルバミン (融点 87°C〉 N−エチル−N−n−ブチルジチオカルバミン酸ニッケ
ル (融点 96°C)ジシクロヘ
キシルジチオカルバミン (融点 300’C以上) ジメチルジチオカルバミン酸コバルト (融点 300’C以上) ジーn−ブチルジチオカルバミン (融点 90°C) ジメチルジチオカルバミン酸亜N 1 >(融点 24
5°C〉 シーnーブチルジチオカルバミン該亜鉛:::’+>(
融点 106°C) N−エチル−\ーフェニルジチオカルバミン酸亜61%
”l” 1 ) (融点 200
’C)和 ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛*1)(融点 17
5°C) \ーペンタメチレンジチオカルバミン酸亜m”F” 1
)(融点 230’C) *1)印の化合物は、市販品(大内新興化学工業株式会
社製品)である。
254°C) ビス(3,4−ジチオブタンジオン)ニッケル(分解点
112°C〉 ビス(ジチオベンジル)ニッケル (融点 286°C) ビス(ジチオベンジル)コバルト (融点 300’C以上) ビス(4,4’−ジメチルジチオベンジル)ニッケル
(分解点 337°C)(ロ)群
の化合物 ジメチルジチオカルバミン (融点 3 0 0 ’C以上) ジエチルジチオカルバミン酸ニッケル*1)(融点 2
32°C) ジーn−プロピルジチオカルバミン酸ニッケル(融点
129°C) ジーiSOープロピルジチオカルバミンル
(融点 300’C以上)ジーn−ブチルジチ
オカルバミン (融点 87°C〉 N−エチル−N−n−ブチルジチオカルバミン酸ニッケ
ル (融点 96°C)ジシクロヘ
キシルジチオカルバミン (融点 300’C以上) ジメチルジチオカルバミン酸コバルト (融点 300’C以上) ジーn−ブチルジチオカルバミン (融点 90°C) ジメチルジチオカルバミン酸亜N 1 >(融点 24
5°C〉 シーnーブチルジチオカルバミン該亜鉛:::’+>(
融点 106°C) N−エチル−\ーフェニルジチオカルバミン酸亜61%
”l” 1 ) (融点 200
’C)和 ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛*1)(融点 17
5°C) \ーペンタメチレンジチオカルバミン酸亜m”F” 1
)(融点 230’C) *1)印の化合物は、市販品(大内新興化学工業株式会
社製品)である。
(ハ)群の化合物
ビス(メチル・サリチルアルドイミン)ニッケル(融点
206°C) ビス(n−ブチルサリチルアルドイミン)ニッケル
(融点 141°C)ビ
ス(n−ドデシルサリチルアルドイミン)ニッケル
(融点 98°C)(二)詳の化
合物 メシチレンスルホン酸ニッケル (融点 30o’c以上) p−フェノールスルホン酸ニッケル (融点 300’C以上) (ホ)群の化合物 1、5−ジスルホン順ナフタレンのニッケル塩(融点
300’C以上) (へ)群の化合物 8−ヒドロキシキノリン−5−スルホン酸のニッケル塩
(融点 294.5°C)上記((イ
)〜(へ)群)の化合物の例のうち、市販品以外は試作
合成し、いずれも元素分析及び赤外線吸収スペクトル分
析で溝道確認を行なった。
206°C) ビス(n−ブチルサリチルアルドイミン)ニッケル
(融点 141°C)ビ
ス(n−ドデシルサリチルアルドイミン)ニッケル
(融点 98°C)(二)詳の化
合物 メシチレンスルホン酸ニッケル (融点 30o’c以上) p−フェノールスルホン酸ニッケル (融点 300’C以上) (ホ)群の化合物 1、5−ジスルホン順ナフタレンのニッケル塩(融点
300’C以上) (へ)群の化合物 8−ヒドロキシキノリン−5−スルホン酸のニッケル塩
(融点 294.5°C)上記((イ
)〜(へ)群)の化合物の例のうち、市販品以外は試作
合成し、いずれも元素分析及び赤外線吸収スペクトル分
析で溝道確認を行なった。
安定剤化合物の使用
本発明の「耐光安定化高分子着色組成物」は、慣用の高
分子着色組成物に前記((イ)〜(へ)群〕の金属錯体
(安定剤化合物)を1種又は2種以上配合することによ
って17られる。
分子着色組成物に前記((イ)〜(へ)群〕の金属錯体
(安定剤化合物)を1種又は2種以上配合することによ
って17られる。
本発明安定剤化合物の添加量は、高分子成分に対して0
.1〜10重量%が一般的な範囲であるが、特に好まし
くは0.3〜2重量%である。クロロスルホン化ポリエ
チレンに含有させる場合には、加え過ぎると安定剤化合
物により加硫時間をやや遅らせたり、速めたりする傾向
があるため、この添加量は0.3〜1.5重量%程度が
好適で。
.1〜10重量%が一般的な範囲であるが、特に好まし
くは0.3〜2重量%である。クロロスルホン化ポリエ
チレンに含有させる場合には、加え過ぎると安定剤化合
物により加硫時間をやや遅らせたり、速めたりする傾向
があるため、この添加量は0.3〜1.5重量%程度が
好適で。
る。
なお、本発明による安定剤化合物は、それ自身わずかに
緑色を呈しているものもおるが、上記した添加量の範囲
では着色顔料の色調変化を伴う挙動は殆どみられず、安
心して用いることができる。
緑色を呈しているものもおるが、上記した添加量の範囲
では着色顔料の色調変化を伴う挙動は殆どみられず、安
心して用いることができる。
本発明では、これらの安定剤化合物に他の酸化防止剤や
紫外線吸収剤を併せて使用してもかまわない。退色防止
を助長する公知の酸化防止剤としては、2,6−ジーt
−ブチル−4−メチルフェノール、2.2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール>、4.
4’−チオビス(3−メチル−6−、t−ブチルフェノ
ール)、4.4′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−
m−クレゾール)などのフェノール誘導体答が挙げられ
る。これらとの併用によって、より大きな光退色抑制効
果の1尋られる場合がある。
紫外線吸収剤を併せて使用してもかまわない。退色防止
を助長する公知の酸化防止剤としては、2,6−ジーt
−ブチル−4−メチルフェノール、2.2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール>、4.
4’−チオビス(3−メチル−6−、t−ブチルフェノ
ール)、4.4′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−
m−クレゾール)などのフェノール誘導体答が挙げられ
る。これらとの併用によって、より大きな光退色抑制効
果の1尋られる場合がある。
基材高分子着色組成物
本発明の安定剤化合物が上記した特定の金属錯体でおり
、N殿顔料を主要着色剤とするもので必る限り、基材高
分子着色組成物は合目的的な任意のものでありうる。
、N殿顔料を主要着色剤とするもので必る限り、基材高
分子着色組成物は合目的的な任意のものでありうる。
なお、ここで「基材高分子着色組成物」とは、本発明の
安定剤化合物を配合すべき高分子組成物をいう。したが
って、前記のフェノール誘導体のような公知の酸化防止
剤を必要に応じて配合したものも、本発明でいう基材高
分子着色組成物と解するものとする。
安定剤化合物を配合すべき高分子組成物をいう。したが
って、前記のフェノール誘導体のような公知の酸化防止
剤を必要に応じて配合したものも、本発明でいう基材高
分子着色組成物と解するものとする。
高分子組成物は一般に非常に複雑な組成をしているもの
であるが、本発明の安定剤化合物が通用できる高分子の
種類は、ポリエチレン、ポ1ノプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル等のポリオレフィン類、ポリウレタン類、合成ゴム
類などが好適なものとして挙げられるが、これらに限定
するものではない。
であるが、本発明の安定剤化合物が通用できる高分子の
種類は、ポリエチレン、ポ1ノプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル等のポリオレフィン類、ポリウレタン類、合成ゴム
類などが好適なものとして挙げられるが、これらに限定
するものではない。
本発明の高分子@色組成物の主要着色剤として用いる何
間顔料としては、C,1,Piqrnen−t Re
d49(リトールレツド)、C,I。
間顔料としては、C,1,Piqrnen−t Re
d49(リトールレツド)、C,I。
Pigment Red3(トルイジンレッド)。
C,1,piqment Red38(ビラソロンレ
ッドB)、C,1,Pic+ment Red48(
つyryチングL/7ド)、c、”、、pigm−en
、t Orange17(オレンジレーキ)などの赤
色系何派顔料の他、C,1,Sole−nt33(キノ
リンイエローベース)などの黄色や青色系などの多くの
何間顔料が挙げられ、本発明は使用する何間顔料の種類
を特に限定するものではない。しかしながら、耐光性に
優れる無影顔料の中に適当なものが少ないためやむなく
何間顔料が使用され、かつ使用頻度の非常に高い赤色系
及び黄色系有機顔料で着色した高分子組成物に適用した
場合に本発明のメリットは最も大きいといえよう。また
、近年の重金属公害問題に関連して使用が困難になりつ
つある無影順:F斗、j2シえ:J古くから多用されて
きた黄色の硫化カドミウム(CdS)のようなカドミウ
ムの毒性によりユーザー側で自主規制を行っているもの
に対して、耐光性を犠牲にしてでも安全な有機系顔料に
代嘗しようとする考えから開発された代替有殿顔料(f
ailえば、キノフタロン貴名を有するものなど)を用
いた高分子着色物に、本発明の安定剤化合物を適用した
場合などにも大きなメリットが期待てきる。
ッドB)、C,1,Pic+ment Red48(
つyryチングL/7ド)、c、”、、pigm−en
、t Orange17(オレンジレーキ)などの赤
色系何派顔料の他、C,1,Sole−nt33(キノ
リンイエローベース)などの黄色や青色系などの多くの
何間顔料が挙げられ、本発明は使用する何間顔料の種類
を特に限定するものではない。しかしながら、耐光性に
優れる無影顔料の中に適当なものが少ないためやむなく
何間顔料が使用され、かつ使用頻度の非常に高い赤色系
及び黄色系有機顔料で着色した高分子組成物に適用した
場合に本発明のメリットは最も大きいといえよう。また
、近年の重金属公害問題に関連して使用が困難になりつ
つある無影順:F斗、j2シえ:J古くから多用されて
きた黄色の硫化カドミウム(CdS)のようなカドミウ
ムの毒性によりユーザー側で自主規制を行っているもの
に対して、耐光性を犠牲にしてでも安全な有機系顔料に
代嘗しようとする考えから開発された代替有殿顔料(f
ailえば、キノフタロン貴名を有するものなど)を用
いた高分子着色物に、本発明の安定剤化合物を適用した
場合などにも大きなメリットが期待てきる。
本発明に係る討光安定化高分子管色組成物を有効に利用
できる好適品としては、屋外で太陽光に直接さらされる
カラフルに@色された波板、雨諸。
できる好適品としては、屋外で太陽光に直接さらされる
カラフルに@色された波板、雨諸。
ルーフインク材、シーリング材などの建築関連物。
洗濯バサミ、はきもの、パイプ、ホース、レジャー用品
、自動車等乗物の外装品など、屋内で長時間光にさらさ
れる電線、家電製品、OA殿器を含む事務用品、化粧板
、浴槽始め大型及び小型各種容器、エスカレータハンド
レール、玩具類など多くのものを挙げることができる。
、自動車等乗物の外装品など、屋内で長時間光にさらさ
れる電線、家電製品、OA殿器を含む事務用品、化粧板
、浴槽始め大型及び小型各種容器、エスカレータハンド
レール、玩具類など多くのものを挙げることができる。
以下、本発明の効果を実施例に説明するが、この発明の
範囲は実施例の記載の態様に限定されるものではない。
範囲は実施例の記載の態様に限定されるものではない。
実施例
実施例1゜
クロロスルホン化ポリエチレン(米国Du P−〇nt
社製ハイパロン40>100重量部に、軽質炭酸カルシ
ウム50重量部、チタン白15重量部、マグネシア4重
置部、ペンタエリスリトール3重量部、ツクセラーT
RA (ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドの
大内¥Tl1l化学工業株式会社商品名〉2重量部、C
,1,5O1ve−nt33(キノリンイエローベース
)の黄色有殿顔料4重量部、各種安定剤化合物0.5重
量部(ただし、2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフ
ェノール(以下、rBHTJと略す。)は1.0重量部
〕を練りロール殿を用いて、通常の加工方法で混練りし
た。この混練物を加熱プレスで160°CX20分加硫
し、150X150X2Mのシート状加硫物を得た。こ
のシート状加硫物から所定の大きざのテストピースを切
り取り、下記条件で光B露した。
社製ハイパロン40>100重量部に、軽質炭酸カルシ
ウム50重量部、チタン白15重量部、マグネシア4重
置部、ペンタエリスリトール3重量部、ツクセラーT
RA (ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドの
大内¥Tl1l化学工業株式会社商品名〉2重量部、C
,1,5O1ve−nt33(キノリンイエローベース
)の黄色有殿顔料4重量部、各種安定剤化合物0.5重
量部(ただし、2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフ
ェノール(以下、rBHTJと略す。)は1.0重量部
〕を練りロール殿を用いて、通常の加工方法で混練りし
た。この混練物を加熱プレスで160°CX20分加硫
し、150X150X2Mのシート状加硫物を得た。こ
のシート状加硫物から所定の大きざのテストピースを切
り取り、下記条件で光B露した。
サンシャインウェザ−メータ(黒板温度63°C1降雨
なし)で200時間光暴露したときの結果は表−1に示
す通りである。
なし)で200時間光暴露したときの結果は表−1に示
す通りである。
ただし、テストピースの光暴露前後の色差値(△E−”
ab >を測定し、[(安定剤化合物を添のの△E* ab)E Xl 00の直を算出して、副光堅牢性改善
の目安(表−1〜・5に示す「退色比率」)として比較
した。
ab >を測定し、[(安定剤化合物を添のの△E* ab)E Xl 00の直を算出して、副光堅牢性改善
の目安(表−1〜・5に示す「退色比率」)として比較
した。
安定剤化合物を含まない標準加硫物の色差値*
(△E =28.5>を基準(’100)とすa
b ると、本発明の安定剤化合物(本発明例)は、9.8〜
54.3%となり、これらの安定剤化合物の添加により
着色顔料の光退色が1/10〜1/2に抑制され、耐光
堅牢性の向上が認められる。また、本発明の安定剤化合
物((i3N8HQs)とフェノール系ヱ化防止剤であ
るBHTとの併用によっても耐光堅牢性の向上が認めら
れる(表−1参照)。
b ると、本発明の安定剤化合物(本発明例)は、9.8〜
54.3%となり、これらの安定剤化合物の添加により
着色顔料の光退色が1/10〜1/2に抑制され、耐光
堅牢性の向上が認められる。また、本発明の安定剤化合
物((i3N8HQs)とフェノール系ヱ化防止剤であ
るBHTとの併用によっても耐光堅牢性の向上が認めら
れる(表−1参照)。
実施1列2
実施例1のうち黄色顔料をc、 1.Piqme−n
t38 (ピラゾロンレッドB〉の赤色顔料6重置部に
、またサンシャインウェザ−メータ中での光暴露時間を
270時間に変更する以外、同一の方法で行った結果は
表−2に示す通りで必る。
t38 (ピラゾロンレッドB〉の赤色顔料6重置部に
、またサンシャインウェザ−メータ中での光暴露時間を
270時間に変更する以外、同一の方法で行った結果は
表−2に示す通りで必る。
表−2から1本発明の安定剤化合物添加により両光堅牢
)生の向上か認められる。
)生の向上か認められる。
実施例3
ポリエーテル系ウレタンプレポリマー(日Aポリウレタ
ン工業(株)製コロネート40’95 )100重量部
に赤色顔料であるC、1.Pic+−ment38 6
重量部、各種安定剤化合物1.0重量部(ただし、BH
Tは1゜O重巳部)を空温にて混合する。この混合物を
70’Cに加熱し、減圧下で脱泡する。120′Cに加
熱溶融した硬化剤(3,3’−ジクロロ−4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン)をプレポリマー10011部
に対して17.6重は部を70’Cでその脱泡した混合
物へ混合した俊、金型中に注入し120°CX3時間で
硬化ざぜ、150X150X2mの架矯ウレタンシート
を1萼た。このシートから所定の大きさのテストピース
を切り取り、サンシャインウェザ−メータ(黒板温度6
3°C1降雨なし)中で270時間光暴露したときの結
果は表−3に示す通りである。
ン工業(株)製コロネート40’95 )100重量部
に赤色顔料であるC、1.Pic+−ment38 6
重量部、各種安定剤化合物1.0重量部(ただし、BH
Tは1゜O重巳部)を空温にて混合する。この混合物を
70’Cに加熱し、減圧下で脱泡する。120′Cに加
熱溶融した硬化剤(3,3’−ジクロロ−4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン)をプレポリマー10011部
に対して17.6重は部を70’Cでその脱泡した混合
物へ混合した俊、金型中に注入し120°CX3時間で
硬化ざぜ、150X150X2mの架矯ウレタンシート
を1萼た。このシートから所定の大きさのテストピース
を切り取り、サンシャインウェザ−メータ(黒板温度6
3°C1降雨なし)中で270時間光暴露したときの結
果は表−3に示す通りである。
表−3から、本発明の安定剤化合物添加により閉光堅牢
i土の向上か認められる。
i土の向上か認められる。
実施例4
低密度ポリエチレン(日本ユニカー(株)製NUCポリ
エチレン)100重塁部に赤色顔料C,1,P’iC1
ment38 6重量部、各種安定剤化合物0.5重量
部を混合し、加熱プレスにより175°CX5分で加熱
成型し、150X150X2mのシートを作製した。こ
れ以降、実施例3と同一方法によりサンシャインウェザ
−メータ中で光暴露した結果は表−4に示す通りである
。
エチレン)100重塁部に赤色顔料C,1,P’iC1
ment38 6重量部、各種安定剤化合物0.5重量
部を混合し、加熱プレスにより175°CX5分で加熱
成型し、150X150X2mのシートを作製した。こ
れ以降、実施例3と同一方法によりサンシャインウェザ
−メータ中で光暴露した結果は表−4に示す通りである
。
実施)す)5
実施例4のうち低密度ポリエチレンをポリ塩化ビニル(
三井東圧化学■製ビニクロン4000M>添加により耐
光堅牢性の向上が&2められる。
三井東圧化学■製ビニクロン4000M>添加により耐
光堅牢性の向上が&2められる。
手続補正書
昭和62年2り/J1日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高分子の光退色性を改善するに当たって、下記の(イ)
〜(ヘ)群から選ばれた金属錯体の少なくとも1つを含
有することを特徴とする、有機顔料を主要着色剤とする
高分子着色組成物。 (イ)一般式( I )で表されるビスジチオ−α−ジケ
トンの金属錯体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔( I )式中、R^1及びR^2はメチル基、エチル
基又はフェニル基を示し、M^1はNi又はCoを示す
。〕 (ロ)一般式(II)で表されるジアルキルジチオカルバ
ミン酸の金属錯体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔(II)式中、R^3及びR^4は炭素原子1〜4個の
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル
基あるいは窒素原子と共に結合してN−ペンタメチレン
基を形成する;M^2はNi、Co又はZnを示す。〕 (ハ)一般式(III)で表されるビスN−(n−アルキ
ル)サリチルアルドイミンのニッケル 塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔(III)式中、R^5は炭素原子1〜12個のn−ア
ルキル基を示す。〕 (ニ)一般式(IV)で表される置換フェニルスルホン酸
ニッケル塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔(IV)式中、R^6はメチル基又は水酸基を、R^7
及びR^8は水素原子又はメチル基を示す。〕(ホ)化
学式(V)で表される1,5−ジスルホン酸ナフタレン
のニッケル塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (ヘ)化学式(VI)で表される8−ヒドロキシキノリン
−5−スルホン酸のニッケル塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11084486A JPS62267360A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 高分子着色成形材用の耐光安定化剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11084486A JPS62267360A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 高分子着色成形材用の耐光安定化剤 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13386189A Division JPH02132133A (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | 高分子着色成形材用の耐光安定化剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62267360A true JPS62267360A (ja) | 1987-11-20 |
JPH0374704B2 JPH0374704B2 (ja) | 1991-11-27 |
Family
ID=14546094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11084486A Granted JPS62267360A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 高分子着色成形材用の耐光安定化剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62267360A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011046792A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Pyramid:Kk | 合成樹脂及び合成樹脂製品の耐光性向上剤及び耐光性向上方法 |
JP2011051669A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Mitsubishi Electric Building Techno Service Co Ltd | マンコンベアの移動手摺及びマンコンベア用手摺 |
CN109438822A (zh) * | 2018-09-29 | 2019-03-08 | 云南曲靖塑料(集团)有限公司 | 一种烟用黑色地膜及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4974226A (ja) * | 1972-10-16 | 1974-07-17 | ||
JPS5024344A (ja) * | 1973-02-26 | 1975-03-15 | ||
JPS5045027A (ja) * | 1973-08-28 | 1975-04-22 | ||
JPS54135837A (en) * | 1977-09-21 | 1979-10-22 | Scott Gerald | Decomposition controllable polymer composition and film*and other products made therefrom |
JPS5523119A (en) * | 1978-08-04 | 1980-02-19 | Kawaguchi Kagaku Kogyo Kk | Preparation of granular rubber compounding ingredient |
JPS5573710A (en) * | 1978-11-28 | 1980-06-03 | Japan Atom Energy Res Inst | Preparation of molded article of flame-retardant and radiation-resistant polymer composition |
JPS5921374A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-03 | Yuichi Imagawa | 鰻の骨の処理方法 |
JPH0238145A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-07 | Iseki & Co Ltd | トラクタの走行制御装置 |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP11084486A patent/JPS62267360A/ja active Granted
Patent Citations (8)
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JPS4974226A (ja) * | 1972-10-16 | 1974-07-17 | ||
JPS5024344A (ja) * | 1973-02-26 | 1975-03-15 | ||
JPS5045027A (ja) * | 1973-08-28 | 1975-04-22 | ||
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JPS5573710A (en) * | 1978-11-28 | 1980-06-03 | Japan Atom Energy Res Inst | Preparation of molded article of flame-retardant and radiation-resistant polymer composition |
JPS5921374A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-03 | Yuichi Imagawa | 鰻の骨の処理方法 |
JPH0238145A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-07 | Iseki & Co Ltd | トラクタの走行制御装置 |
Cited By (3)
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JP2011051669A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Mitsubishi Electric Building Techno Service Co Ltd | マンコンベアの移動手摺及びマンコンベア用手摺 |
CN109438822A (zh) * | 2018-09-29 | 2019-03-08 | 云南曲靖塑料(集团)有限公司 | 一种烟用黑色地膜及其制备方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0374704B2 (ja) | 1991-11-27 |
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