JPS62266401A - ライナ管のライナ厚測定方法 - Google Patents
ライナ管のライナ厚測定方法Info
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- JPS62266401A JPS62266401A JP61111099A JP11109986A JPS62266401A JP S62266401 A JPS62266401 A JP S62266401A JP 61111099 A JP61111099 A JP 61111099A JP 11109986 A JP11109986 A JP 11109986A JP S62266401 A JPS62266401 A JP S62266401A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、渦流法によりライナ管のライナ厚の厚みを
測定するライナ厚測定方法に関する。
測定するライナ厚測定方法に関する。
(従来の技術とその問題点)
原子炉運転の効率化のためには、急激な出力上昇や下降
が不可欠である。ところが、核燃料を封入する被覆管と
して、従来のジルカロイ管を用いたのでは、上記のよう
な急激な出力変動に耐えられず、応力腐蝕割れが発生す
るあそれがある。そこで近年、このような応力腐蝕割れ
を防ぐものとしてジルカロイ管の内周面に極薄の純ジル
コニウムライナ層を形成した被覆管が開発されている。
が不可欠である。ところが、核燃料を封入する被覆管と
して、従来のジルカロイ管を用いたのでは、上記のよう
な急激な出力変動に耐えられず、応力腐蝕割れが発生す
るあそれがある。そこで近年、このような応力腐蝕割れ
を防ぐものとしてジルカロイ管の内周面に極薄の純ジル
コニウムライナ層を形成した被覆管が開発されている。
このような被覆管のライナ厚は、強度上の要請からある
程度厚く形成する必要がある一方、母材部であるジルカ
ロイ厚の層厚を確保する上から制限も受1プるので、こ
のライナ厚を一定に管理することが重要になる。
程度厚く形成する必要がある一方、母材部であるジルカ
ロイ厚の層厚を確保する上から制限も受1プるので、こ
のライナ厚を一定に管理することが重要になる。
このような2種類の金底層からなる管の厚みを測定する
方法としては、破壊的測定と非破壊的測定の2つの方法
があるが、破壊的測定法では実際に測定の行われる管の
両端部についてしか厚みが保証されず、管内の全域にわ
たる測定が不可欠な上記ライナ被覆管の場合には適用で
きない。一方、非破壊的測定方法には超音波法と渦流法
とがあるが、超音波法においてはライナ層表面でのエコ
ーと、母材層とライナ厚の境界面でのエコーの識別が極
めて困難であるため適用できない。これに対し、交流電
流を流したコイルを被測宇金ぶ表面に近接配置して、金
属表面に渦電流を流し、その渦電流により誘起される誘
1j磁場のために被測定金属の状況に応じて変化する上
記コイルのインピーダンス変化量から金属表面の情報を
得る渦流法では、上記渦電流が被測定金属の厚さ、固有
抵抗ρ、透磁率μ、などに支配されること、および上記
ライナ被覆管のライナ層(μ、=1.ρ=50μΩ・I
yR)と母材層(μ、=1.ρ=70μΩ・m)との4
1i率σ(=1/ρ)に差があることから、上記ライナ
厚の測定が可能である。
方法としては、破壊的測定と非破壊的測定の2つの方法
があるが、破壊的測定法では実際に測定の行われる管の
両端部についてしか厚みが保証されず、管内の全域にわ
たる測定が不可欠な上記ライナ被覆管の場合には適用で
きない。一方、非破壊的測定方法には超音波法と渦流法
とがあるが、超音波法においてはライナ層表面でのエコ
ーと、母材層とライナ厚の境界面でのエコーの識別が極
めて困難であるため適用できない。これに対し、交流電
流を流したコイルを被測宇金ぶ表面に近接配置して、金
属表面に渦電流を流し、その渦電流により誘起される誘
1j磁場のために被測定金属の状況に応じて変化する上
記コイルのインピーダンス変化量から金属表面の情報を
得る渦流法では、上記渦電流が被測定金属の厚さ、固有
抵抗ρ、透磁率μ、などに支配されること、および上記
ライナ被覆管のライナ層(μ、=1.ρ=50μΩ・I
yR)と母材層(μ、=1.ρ=70μΩ・m)との4
1i率σ(=1/ρ)に差があることから、上記ライナ
厚の測定が可能である。
このような渦流法によろライナ厚の測定方法の一例とし
て、特開昭59−67405号公報に開示されたものが
ある。ところで、測定されたインピーダンス成分をライ
ナ層に換算する際には、コイルを含めた測定器の感度を
把握する(感度調整)とともにその測定器での基準点(
零点)を設定することが必要であるが、その1つの方法
が、゛渦流深傷試MA(日本非破壊検査協会、852発
行)″に示されている。この方法によれば、ライナ厚の
ない母材だけの標準板と、既知のライナ層を備えた厚み
標準板を用い、これらの板の一点で測定されたインピー
ダンス成分から零点、感度調整が行なわれる。
て、特開昭59−67405号公報に開示されたものが
ある。ところで、測定されたインピーダンス成分をライ
ナ層に換算する際には、コイルを含めた測定器の感度を
把握する(感度調整)とともにその測定器での基準点(
零点)を設定することが必要であるが、その1つの方法
が、゛渦流深傷試MA(日本非破壊検査協会、852発
行)″に示されている。この方法によれば、ライナ厚の
ない母材だけの標準板と、既知のライナ層を備えた厚み
標準板を用い、これらの板の一点で測定されたインピー
ダンス成分から零点、感度調整が行なわれる。
このように厚み標準板を用いてコイルを含めた測定器の
零点、感度の経時変化を校正する場合には、厚み標準板
は厚さが一様であることが、プローブの位置合せ精度等
の問題から望まれる。しかし実際問題として、ジルコニ
ウムライナ管においては、ライナ厚の標準管として、ラ
イナ厚が一様である管を製作することは非常に困難であ
る。もしライナ厚が一様でないなら、少くとも1点にお
いてライナ厚が既知(それを標準厚みとする)でなけれ
ばならないが、たとえそうであったとしても、その位置
にプローブを正確に位置合せすることは難しいという別
の問題を生じる。そのため従来では、経時的に変化する
コイルを含めた測定器の感度を正確に把握し、基準点を
正確に設定することができず、測定結果が不正確になる
という問題があった。
零点、感度の経時変化を校正する場合には、厚み標準板
は厚さが一様であることが、プローブの位置合せ精度等
の問題から望まれる。しかし実際問題として、ジルコニ
ウムライナ管においては、ライナ厚の標準管として、ラ
イナ厚が一様である管を製作することは非常に困難であ
る。もしライナ厚が一様でないなら、少くとも1点にお
いてライナ厚が既知(それを標準厚みとする)でなけれ
ばならないが、たとえそうであったとしても、その位置
にプローブを正確に位置合せすることは難しいという別
の問題を生じる。そのため従来では、経時的に変化する
コイルを含めた測定器の感度を正確に把握し、基準点を
正確に設定することができず、測定結果が不正確になる
という問題があった。
(発明の目的)
この発明は、上記問題を解決するためになされたもので
、渦流法によるライナ管のライナ厚測定を、簡単な校正
処理により正確に行うことのできるライナ管のライナ厚
測定方法を提供することを目的とする。
、渦流法によるライナ管のライナ厚測定を、簡単な校正
処理により正確に行うことのできるライナ管のライナ厚
測定方法を提供することを目的とする。
(目的を達成するための手段)
この発明のライナ管のライブ厚測定方法は、ライナ管内
部にプローブコイルを挿入して渦流法によりライナ層を
測定する際に、被測定ライナ管と同径かつ一周の平均ラ
イナ厚が既知でその厚みが互いに異なる2種類の標準ラ
イナ管を回転させて冑られる渦流測定器の出力から各標
準ライナ管の一周の平均ライナ厚の測定値を求め、この
測定値と前記既知の平均ライナ厚とから算出されるコイ
ルを含めた渦流測定器の感度の較正値および零点補正値
を求めて、渦流測定器の出力から被測定ライナ管のライ
ナ層を測定するようにしている。
部にプローブコイルを挿入して渦流法によりライナ層を
測定する際に、被測定ライナ管と同径かつ一周の平均ラ
イナ厚が既知でその厚みが互いに異なる2種類の標準ラ
イナ管を回転させて冑られる渦流測定器の出力から各標
準ライナ管の一周の平均ライナ厚の測定値を求め、この
測定値と前記既知の平均ライナ厚とから算出されるコイ
ルを含めた渦流測定器の感度の較正値および零点補正値
を求めて、渦流測定器の出力から被測定ライナ管のライ
ナ層を測定するようにしている。
(実施例)
第1図はこの発明によるライナ管のライナ厚測定方法の
実施に使用される装置の概略図を示し、第2図(a)〜
(C)はそれぞれ、この実施例に適用される被測定ライ
ナ管1の断面図、第1標準ライチ管2の断面図および第
2標準ライナ管3の断面図を示す。
実施に使用される装置の概略図を示し、第2図(a)〜
(C)はそれぞれ、この実施例に適用される被測定ライ
ナ管1の断面図、第1標準ライチ管2の断面図および第
2標準ライナ管3の断面図を示す。
この実施例で、第2図(a)に示すように母材管である
ジルカロイ部1aの内周面に純ジルコニウムのライナ層
1bを形成したライナ管1の上記ライナ層1bの厚み測
定が行なわれる。上記ライナ管1は、その軸心回りに回
転するように回転機4上に支持される一方、このライナ
管1内に挿入可能なプローブ5が、上記ライナ管1の両
端側に位置する渦流測定器6でそれぞれ支持されている
。
ジルカロイ部1aの内周面に純ジルコニウムのライナ層
1bを形成したライナ管1の上記ライナ層1bの厚み測
定が行なわれる。上記ライナ管1は、その軸心回りに回
転するように回転機4上に支持される一方、このライナ
管1内に挿入可能なプローブ5が、上記ライナ管1の両
端側に位置する渦流測定器6でそれぞれ支持されている
。
プローブ5内には絶対値型のコイルが埋め込まれており
、そのコイル径は約1mφである。左右のプローブ5の
コイルからの信号、すなわちコイルインピーダンス変化
は、左右の渦流測定器6により例えば電圧信号として検
出される。この渦流測定器6より得られる位相検波出力
は、インターフェース部7を通して所定の算出式がプロ
グラムされた次段の演算装置8に入力され、その入力に
応じたライナ厚が演算されて、その結果が表示器9で表
示されるように構成されている。ここでは、ライナ管1
の左右から別々のプローブ5を挿入し、ライナ管1の全
長にわたろライナ厚を両側から同時に測定することによ
り、測定の高速化がはかられている。回転機4および渦
流測定B6の駆動は、駆動機構制御装置10によって制
御される。
、そのコイル径は約1mφである。左右のプローブ5の
コイルからの信号、すなわちコイルインピーダンス変化
は、左右の渦流測定器6により例えば電圧信号として検
出される。この渦流測定器6より得られる位相検波出力
は、インターフェース部7を通して所定の算出式がプロ
グラムされた次段の演算装置8に入力され、その入力に
応じたライナ厚が演算されて、その結果が表示器9で表
示されるように構成されている。ここでは、ライナ管1
の左右から別々のプローブ5を挿入し、ライナ管1の全
長にわたろライナ厚を両側から同時に測定することによ
り、測定の高速化がはかられている。回転機4および渦
流測定B6の駆動は、駆動機構制御装置10によって制
御される。
コイルに流される交流電流の周波数として、2M HZ
と4M1−12の2重周波数が用いられる。このように
ライナ厚の測定において、2重周波数によりコイルを励
磁しているのは、リフトオフ、ライナ層1b・ジルカロ
イ部1aのSt率、ライナ厚の変動に対応するコイルイ
ンピーダンス変化の方向が周波数によって変ることを利
用するためであり、これによって各励磁周波数での渦流
測定器6の位、相撲波出力H、Vl、)−1、V2(H
l。
と4M1−12の2重周波数が用いられる。このように
ライナ厚の測定において、2重周波数によりコイルを励
磁しているのは、リフトオフ、ライナ層1b・ジルカロ
イ部1aのSt率、ライナ厚の変動に対応するコイルイ
ンピーダンス変化の方向が周波数によって変ることを利
用するためであり、これによって各励磁周波数での渦流
測定器6の位、相撲波出力H、Vl、)−1、V2(H
l。
Vlは4 M I−I Zの位相検波出力、)−i
、V は2MH2の位相検波出力)からリフトオフの
変動やライナ層1b・ジルカロイ部1aの導電率の変動
などの影響を無(しライナ厚を求めることができるので
ある。
、V は2MH2の位相検波出力)からリフトオフの
変動やライナ層1b・ジルカロイ部1aの導電率の変動
などの影響を無(しライナ厚を求めることができるので
ある。
前記ライナ管1の両端部には、それぞれ第2図(b)に
示すようにこのライナ管1と同径でかつジルカロイ部2
aの内周面に一周の平均厚み50μmの純ジルコニウム
のライナ層2bが形成された第1の標準ライナ管2と、
第2図(C)に示すようにジルカロイ部3aの内周面に
一周の平均厚み130μmの純ジルコニウムのライナ層
3bが形成されたM2の標準ライナ管3が同心状に固定
されている。なお、ここで測定対象となる上記ライナ管
1のライナ111bの厚みは、50μm〜130μ瓦の
範囲内であり、この厚み範囲の上下限に対応させて上記
第1.第2の標準ライナ管2,3のライナ厚が設定され
ている。
示すようにこのライナ管1と同径でかつジルカロイ部2
aの内周面に一周の平均厚み50μmの純ジルコニウム
のライナ層2bが形成された第1の標準ライナ管2と、
第2図(C)に示すようにジルカロイ部3aの内周面に
一周の平均厚み130μmの純ジルコニウムのライナ層
3bが形成されたM2の標準ライナ管3が同心状に固定
されている。なお、ここで測定対象となる上記ライナ管
1のライナ111bの厚みは、50μm〜130μ瓦の
範囲内であり、この厚み範囲の上下限に対応させて上記
第1.第2の標準ライナ管2,3のライナ厚が設定され
ている。
このライナ厚測定方法では、ライナ管1のライナ厚測定
を行う前に、コイル5を含めた渦流測定器6の感度、零
点の経時変化による影響を除去するために、次の手順に
よる校正が行われる。
を行う前に、コイル5を含めた渦流測定器6の感度、零
点の経時変化による影響を除去するために、次の手順に
よる校正が行われる。
(1) まずプローブ5を第1の標準ライナ管2内に
移動させて第1の標準ライナ管2を回転させ、そのとき
の渦流測定ミロの位相検波出力H1,V、H、V か
ら標準ライナ管2が一回転する1 2・ 2 間のライナ厚を算出し、その算出値を平均化して基準値
Aとする。同様にプローブ5を第2の標準ライナ管3内
に移動させて第2の標準ライナ管3を回転させ、そのと
きの渦流測定B7の位相検波出力H、V 、H、V、
2から標準ライナ管3が一回転する間のライナ厚を算出
し、その算出値を平均化して基116Bとする。
移動させて第1の標準ライナ管2を回転させ、そのとき
の渦流測定ミロの位相検波出力H1,V、H、V か
ら標準ライナ管2が一回転する1 2・ 2 間のライナ厚を算出し、その算出値を平均化して基準値
Aとする。同様にプローブ5を第2の標準ライナ管3内
に移動させて第2の標準ライナ管3を回転させ、そのと
きの渦流測定B7の位相検波出力H、V 、H、V、
2から標準ライナ管3が一回転する間のライナ厚を算出
し、その算出値を平均化して基116Bとする。
(2) 上記基準値A、Bと各標準ライナ管2゜3の
既知の平均ライナW50μm、130μmとから、前記
渦流測定器7の零点補正tiCおよび感度補正値りを D= (A−B)/ (50−130) ・・・(1
)C=A−DX50 ・・・(2)
として求める。上記A、B、C,,Dの関係は、渦流測
定器7の出力から算出される測定値(上記基準ImA、
B)を縦軸に、この測定値に対応する実際の値(上記平
均ライナ厚50μm、130μTrL)を横軸にそれぞ
れとった第3図に示す座標上の直線グラフGに対し、感
度補正値りがグラフGの勾配に対応し、零点補正値Cは
グラフGが交差する縦軸上の値に対応している。すなわ
ちグラフGは、このときの渦流測定器6の出力から求め
られる測定値、例えばtlと、これに対応する実際のラ
イナ厚t2との関係を与える校正表をなしている。
既知の平均ライナW50μm、130μmとから、前記
渦流測定器7の零点補正tiCおよび感度補正値りを D= (A−B)/ (50−130) ・・・(1
)C=A−DX50 ・・・(2)
として求める。上記A、B、C,,Dの関係は、渦流測
定器7の出力から算出される測定値(上記基準ImA、
B)を縦軸に、この測定値に対応する実際の値(上記平
均ライナ厚50μm、130μTrL)を横軸にそれぞ
れとった第3図に示す座標上の直線グラフGに対し、感
度補正値りがグラフGの勾配に対応し、零点補正値Cは
グラフGが交差する縦軸上の値に対応している。すなわ
ちグラフGは、このときの渦流測定器6の出力から求め
られる測定値、例えばtlと、これに対応する実際のラ
イナ厚t2との関係を与える校正表をなしている。
(3) そこで、上記座標の縦軸の値すなわち渦流測
定器6の出力から求められる測定値をT1、上記座標の
横軸の値すなわら実際のライナ厚をT2とすると、上記
グラフGの関係式は T =DT2+C・・・(3) となる。この(3)式は T2= (T、−C)/D ・・・(4)と
変換できるので、これをライナ管1のライナ厚の測定値
に当てはめることにより、コイル5を含めた渦流測定器
6の経時変化による測定値のずれが校正される。
定器6の出力から求められる測定値をT1、上記座標の
横軸の値すなわら実際のライナ厚をT2とすると、上記
グラフGの関係式は T =DT2+C・・・(3) となる。この(3)式は T2= (T、−C)/D ・・・(4)と
変換できるので、これをライナ管1のライナ厚の測定値
に当てはめることにより、コイル5を含めた渦流測定器
6の経時変化による測定値のずれが校正される。
すなわら、上記(1)、 (2)の手順で基準値A、B
および零点補正値C1感度補正値りを求めたあと、プロ
ーブ5を本来の測定対象であるライナ管1内に挿入し、
このライナ管1を回転させながらプローブ5を移動させ
る。このときの渦流測定器6の位相検波出力H1,V
、H、V からライナ厚T1を算出し、この算出値
を上記(4)式に代入して、較正されたライナ厚T2を
求めるのである。
および零点補正値C1感度補正値りを求めたあと、プロ
ーブ5を本来の測定対象であるライナ管1内に挿入し、
このライナ管1を回転させながらプローブ5を移動させ
る。このときの渦流測定器6の位相検波出力H1,V
、H、V からライナ厚T1を算出し、この算出値
を上記(4)式に代入して、較正されたライナ厚T2を
求めるのである。
上記した各演算はすべて先述した演算装置8で行われ、
得られた校正済みライナ厚T2は表示器9で表示される
。
得られた校正済みライナ厚T2は表示器9で表示される
。
以上の方法で測定した結果を第4図に示す。同図から明
らかなように、上記校正を経たライナ厚の算出値は実測
値と高精度に対応しており、正確なライナ厚測定方法が
可能なことが認められる。
らかなように、上記校正を経たライナ厚の算出値は実測
値と高精度に対応しており、正確なライナ厚測定方法が
可能なことが認められる。
(発明の効果)
以上のように、この発明のライナ管のライナ厚測定方法
によれば、プローブの位置合せに煩わされることなく簡
単な処理により渦流測定器の経時変化による測定値のず
れを校正でき、ライナ管のライナ厚を高精度に測定する
ことができるという効果が得られる。
によれば、プローブの位置合せに煩わされることなく簡
単な処理により渦流測定器の経時変化による測定値のず
れを校正でき、ライナ管のライナ厚を高精度に測定する
ことができるという効果が得られる。
第1図はこの発明の一実施例であるライナ管のライナ厚
測定方法に使用される装置の概略図、第2図(a)〜(
C)はそれぞれ被測定ライナ管、第1の標準ライナ管、
第2の標準ライナ管を示す断面図、第3図はこの実施例
の測定値校正手順を説明するための図、第4図は実施例
による測定結果を示す図である。 1・・・ライナ管、 2・・・第1の標準ライナ管、
測定方法に使用される装置の概略図、第2図(a)〜(
C)はそれぞれ被測定ライナ管、第1の標準ライナ管、
第2の標準ライナ管を示す断面図、第3図はこの実施例
の測定値校正手順を説明するための図、第4図は実施例
による測定結果を示す図である。 1・・・ライナ管、 2・・・第1の標準ライナ管、
Claims (1)
- (1)ライナ管内部にプローブコイルを挿入して渦流法
によりライナ厚を測定する際に、被測定ライナ管と同径
かつ一周の平均ライナ厚が既知でその厚みが互いに異な
る2種類の標準ライナ管を回転させて得られる渦流測定
器の出力から各標準ライナ管の一周の平均ライナ厚の測
定値を求め、この測定値と前記既知の平均ライナ厚とか
ら算出されるコイルを含めた渦流測定器の感度の較正値
および零点補正値を求めて、渦流測定器の出力から求め
られる被測定ライナ管のライナ厚を測定することを特徴
とするライナ管のライナ厚測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61111099A JPS62266401A (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | ライナ管のライナ厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61111099A JPS62266401A (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | ライナ管のライナ厚測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62266401A true JPS62266401A (ja) | 1987-11-19 |
JPH0560522B2 JPH0560522B2 (ja) | 1993-09-02 |
Family
ID=14552362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61111099A Granted JPS62266401A (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | ライナ管のライナ厚測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62266401A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07167838A (ja) * | 1993-08-18 | 1995-07-04 | Micro Epsilon Messtechnik Gmbh & Co Kg | 金属対象物の表面層物性を調べるためのセンサ配置及び方法 |
EP0664435A2 (en) * | 1994-01-04 | 1995-07-26 | General Electric Company | Determining thickness |
JP2006317194A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | マルチセンサ信号異常検知装置および方法 |
JP2011252877A (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Jtekt Corp | 渦電流式検査装置および渦電流式検査方法 |
-
1986
- 1986-05-14 JP JP61111099A patent/JPS62266401A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH07167838A (ja) * | 1993-08-18 | 1995-07-04 | Micro Epsilon Messtechnik Gmbh & Co Kg | 金属対象物の表面層物性を調べるためのセンサ配置及び方法 |
EP0664435A2 (en) * | 1994-01-04 | 1995-07-26 | General Electric Company | Determining thickness |
EP0664435A3 (en) * | 1994-01-04 | 1996-12-11 | Gen Electric | Determination of thickness. |
JP2006317194A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | マルチセンサ信号異常検知装置および方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0560522B2 (ja) | 1993-09-02 |
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