JPS62250676A - 光スイツチ素子 - Google Patents

光スイツチ素子

Info

Publication number
JPS62250676A
JPS62250676A JP61092430A JP9243086A JPS62250676A JP S62250676 A JPS62250676 A JP S62250676A JP 61092430 A JP61092430 A JP 61092430A JP 9243086 A JP9243086 A JP 9243086A JP S62250676 A JPS62250676 A JP S62250676A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solar cell
electrode
layer
thin film
electromotive force
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61092430A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuichi Masaki
裕一 正木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP61092430A priority Critical patent/JPS62250676A/ja
Publication of JPS62250676A publication Critical patent/JPS62250676A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は光通信等に用いられる光スイッチ素子に関す
る。
(従来の技術) 従来、この種の技術として特開昭59−25280号公
報に光入力MO8)ランゾスタとして開示されたものが
ある。この光入力MDS )ランジスタ、すなわち光ス
イッチ素子の構造を第2図に示す。
第2図にみるように、この光入力Fi[)S)ランジス
タのr−)電極14は、太陽電池構造を作っている重合
層14a、14bの直下に金属層14cが設けられてな
る。この光入力MoSトランジスタにおいては、太陽電
池構造部分14a、14bの材質がポリシリコンの場合
、金属層14cの材質としてモリブデンが選ばれ、太陽
電池構造部分14&、14bの材質がアモルファスシリ
コンの場合、金属層14cの材質としてアルミニウムが
選ばれている。太陽電池構造部分は結晶シリコンの基板
11がp形のとき上層14aがn形、下層14bがp型
であり、基板1ノがn形のときは、その逆であるように
構成されている。
上記太陽電池構造部分14IL、14bは金属層J4e
の上にCVD (気相成長法)で成長させて作られてい
る。また、図中12a、12bはn形もしくはp形の拡
散層、13は絶縁酸化膜、15aはソース電極、15b
はドレイン電極である。
この光入力MO8)ランノスタは、次のように動作する
。光入力がない場合、太陽電池ゲート部はコンデンサと
ダイオードとなfi 、 MOS )ランシスタは入力
″″O”の状態となる。光入力がある場合、太陽電池ゲ
ート部に起電力が発生し、ゲートに電圧がかかるため、
MOS )ランジスタは入力@l”の状態となる。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述の光入力MO8)ランノスタすなわ
ち光スイッチ素子はトランジスタ部分が結晶Siで構成
されているため、0N10FF’比が充分にとれない、
さらにOFF電流が高いので、使途によっては補助コン
デンサを要するという問題があった。また上記光スイッ
チ素子は太陽電池部分をアモルファスシリコンで構成す
る場合PN接合を用いているが、アモルファスシリコン
のPN接合は、リーク電流が大きいため起電力が低く実
用上問題があった。
さらに、上記光スイッチ素子では太陽電池部分をアモル
ファスシリコンで構成する場合の金属層14cにアルミ
ニウムを用いているが、アルミニウムを用いた場合、ア
モルファスシリコン中に拡散を起こすため良好な接合が
形成されず、従って起電力が低くなるという問題もあっ
た。
この発明は、以上述べた問題点を解決し、入射光を効率
良く光電変換し、高い起電力を有する太陽電池部と、高
いON / OF’F’比を有するトランジスタ部とを
備えた光スイッチ素子を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) この発明は上述の問題点を解決するために、光スイッチ
素子を透明絶縁物基板上に、透明導電膜からなる下部電
極とp−1−nの3層構成のアモルファスシリコン層か
らなる感光部とクロムもしくはニクロムからなる上部金
属電極とを有する太陽電池部と、当該太陽電池部上に設
けられた薄膜トランジスタ部を備える如く構成し、さら
に太陽電池部の上部金属電極が薄膜トランジスタ部のゲ
ート電極として共用される如く構成したものである。上
記薄膜トランジスタ部の活性層としてはアモルファスシ
リコン属で形成するのが好適である。
(作用) この発明の光スイッチ素子においては、太陽電池部はp
−1−n構造の3層構成のアモルファスシリコン層から
なる感光部とその上部電極としてクロムもしくはニクロ
ムからなる金属電極とを用いているため、良好な接合が
得られ、リーク電流が小さく、高い光電変換特性を持ち
、高い起電力を発生し得る。さらに薄膜トランジスタ部
の活性層をアモルファスシリコン膜で形成したことによ
りOFF電流が低くなシ高いON / OFF’比が得
られる。従ってこの光スィッチは良好なスイッチング特
性を有する。
(実施例) 第1図に、この発明による光スイッチ素子の第1の実施
例の断面図を示す。
第1図において、2ノは透明絶縁物基板で、ガラス、合
成樹脂などの任意好適の材料からなる。
22は透明絶縁物基板2ノ上へ被着形成された良導電性
で且つ高光透過性の物質からなる第1電極としての透明
導電膜であシ、例えば酸化インジウム錫(ITO)ある
いは酸化錫(5n02 )あるいはこれらの多層膜から
なる。23は感光部で、シランガス(5IH4)あるい
はジシランガス(Si2H6)などを主成分ガスとして
グロー放電分解法によシ得られるアモルファスシリコン
膜(a−8i )であシ、この感光部23は、例えば次
の様に形成される。
まず、SiH4に対して500〜110000ppのジ
ボランガス(B2H6)を混合して、第1導電型である
p型a −Si層23aを50〜1000Xの厚さに成
膜し、つづいて、S iH4に対して、O〜1100p
pのB2H6を混合して、i型a −Si層z s b
 t−05−2μmの厚さに成膜する。さらにS i 
H4に対してホスフィンガス(PH3)を500−10
000ppm混合したガスを用い第2導電型層であるn
型a−8ノ層23cをO〜2000Xの厚さに成膜する
。その後フロン(CF4)などを用いてプラズマエツチ
ングによシ感光部23を所定の形状に加工することによ
シ感光部23は完成する。24は、感光部23の第2導
電型層23cに接して被着形成された金属膜からなる第
2電極で、a−8iに対する拡散係数の小さなニクロム
(NiCr )tクロム(Cr )からなる。このよう
にして透明絶縁物基板21上に透明導電膜の第1電極2
2.感光部23.第2電極24からなる太陽電池部が形
成される。なお第2電極24は後述する薄膜トランジス
タ部のゲート電極にも共用されるものである。
続いて、この太陽電池部を被覆する如く、絶縁膜25、
活性層26としてそれぞれグロー放電分解法によシ、シ
リコン酸化膜(5inx)、a−8i膜をそれぞれ成膜
形成する。この形成工程で絶縁膜25と活性層26は、
同一装置内で減圧下で成膜してもよいし、それぞれ独立
に成膜してもよい。
次に活性層26を第1図に示す様に所定の位置で所定の
形状に加工した後、絶縁膜25及び活性層26を被覆す
る如く保護膜27を成膜形成する。
この保護膜27は、グロー放電分解法によるシリコン酸
化膜でも良いしシリコン窒化膜でもよい。
そして、保護膜22上の2点に、活性層が露出する孔を
あける。この場合、この2つの開孔部は。
第2電極24に対向する部分を含んだ位置上の互いに離
間した2点でなければならない。更にこの2つの開孔部
にそれぞれオーミックコンタクト部28a、28b例え
ば、グロー放電法でSiH4に対しPH3を500=1
0000ppm程度混合して成膜する導電型a−3i層
を成膜し、これら各オーミックコンタクト部28m 、
211b上に金属膜からなる第3電極29.第4電極3
0を被着形成する。
このようにして光スイッチ素子が完成する。
この光スイッチ素子において、ゲート電極としての第2
電極24.絶縁膜25.活性層26.オーミックコンタ
クト部28a、第3電極29.オーミックコンタクト部
28b、第4電極30から構成される部分が薄膜トラン
ジスタ部であシ、第3電極29.第4電極30のうちい
ずれか一方がソース電極、他方がドレイン電極として機
能する。
この光スィッチの動作原理は、以下の様である。
まず信号光りが太陽電池部に入射した場合、感光部23
で起電力が発生する。この発生した起電力によシ第2電
極24及び絶縁膜25を介して、薄膜トランジスタ部分
の活性層26にチャネル26kが形成される。従って、
この薄膜トランジスタ部分は“ON”状態となる。また
逆に、信号光りがない場合は感光部には起電力が発生せ
ず、チャネル26Aは形成されず、このトランジスタ部
分は“OFF”状態となる。
次に、第3図に本発明の第2の実施例の構成を示す。こ
の第2の実施例において、透明絶縁物基板21上に太陽
電池部を設け、この太陽電池部を絶縁膜25で被覆する
までの構成は前述の第1の実施例と同様であるのでその
説明を省略する。この第2の実施例では、絶縁膜25上
の第2電極25に対向する部分を含んだ位置に互いに離
間する如く第3電極32.第4電極33を設ける。この
第3電極32.第4電極33は第1の実施例と同様の方
法でオーミックコンタクト部34a。
34bによシそれぞれ被覆される。そしてこれら各オー
ミックコンタクト部34h、34b及び両者の間を含む
如く活性層35を所定の形状に設ける。このようにして
光スイッチ素子が完成する。
この光スイクチ素子の動作は第1の実施例と同様である
ので、説明は略す。
(発明の効果) 以上説明した様に、この発明によれば太陽電池部分をP
IN形ア喝ル7アス太陽電池としたため、良好な接合形
成が得られ、リーク電流が小さく且つ高い光電変換特性
をもつため、高い起電力を発生できるという利点がある
さらに、金属からなる第2電極をクロムやニクロムなど
、アモルファスシリコンに対し低い拡散係数をもつもの
としたため、太陽電池部分上に薄膜トランジスタ部分を
作成しても太陽電池の接合がこわれず、太陽電池部分で
高い起電力を発生できるという利点もある。また薄膜ト
ランジスタ部分の活性層をアモルファスシリコンで形成
したため、OFF電流を低くでき高いON / OF’
F’比が得られるという利点もある。従って高信頼性で
良好なスイッチング特性を有する光スイッチ素子を実現
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の実施例の構造を示す断面図、
第2図は従来の光スイッチ素子の構造を示す断面図、第
3図はこの発明の第2の実施例の構造を示す断面図。 21・・・透明絶縁物基板、22・・・透明導電膜(第
1電極)、23・・・感光部、24・・・第2電極、2
5・・・絶縁膜、26.35・・・活性層、27・・・
保護膜、28 m 、 28 b 、 34 m 、 
34 b−−−オー%7クコンタクト部、2.9 、3
2・・・第3電極、30.33・・・第4電極。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透明絶縁物基板上に透明導電膜からなる下部電極
    とp型層−i型層−n型層の3層構成のアモルファスシ
    リコン層からなる感光部とクロムもしくはニクロムから
    なる上部金属電極とを有する如く設けられた太陽電池部
    と、当該太陽電池部上に設けられた薄膜トランジスタ部
    とを備え、前記上部金属電極が前記薄膜トランジスタ部
    のゲート電極として共用されることを特徴とする光スイ
    ッチ素子。
  2. (2)前記薄膜トランジスタ部の活性層がアモルファス
    シリコン膜からなることを特徴とする特許請求の範囲第
    (1)項記載の光スイッチ素子。
JP61092430A 1986-04-23 1986-04-23 光スイツチ素子 Pending JPS62250676A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61092430A JPS62250676A (ja) 1986-04-23 1986-04-23 光スイツチ素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61092430A JPS62250676A (ja) 1986-04-23 1986-04-23 光スイツチ素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62250676A true JPS62250676A (ja) 1987-10-31

Family

ID=14054221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61092430A Pending JPS62250676A (ja) 1986-04-23 1986-04-23 光スイツチ素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62250676A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01201970A (ja) * 1988-02-08 1989-08-14 Fujitsu Ltd イメージセンサ
EP0347471A1 (en) * 1987-12-28 1989-12-27 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Solar cell array for driving mosfet gates
JPH0251285A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Sharp Corp リレー装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0347471A1 (en) * 1987-12-28 1989-12-27 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Solar cell array for driving mosfet gates
JPH01201970A (ja) * 1988-02-08 1989-08-14 Fujitsu Ltd イメージセンサ
JPH0251285A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Sharp Corp リレー装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5923049A (en) Trichromatic sensor
KR910001194B1 (ko) 광 감지기
US4405915A (en) Photoelectric transducing element
JP3236624B2 (ja) 光感応性電子素子、その素子を使用したカラーセンサー、及びその素子の製造方法
JP2959682B2 (ja) フォトダイオード
JPS62250676A (ja) 光スイツチ素子
JPH01128477A (ja) アモルファスシリコン光センサー
KR20000073716A (ko) 박막트랜지스터형 광 감지센서와 그 제조방법
JPH02111080A (ja) 非晶質薄膜太陽電池
EP0310353A2 (en) High gain thin film sensor
JP2938083B2 (ja) 薄膜トランジスタおよびそれを用いた光センサ
KR970004494B1 (ko) 밀착형 이미지센서의 제조방법
CA2005255C (en) Contact type photoelectric transducer
JPS6213066A (ja) 光電変換装置
US5440149A (en) Planar type image sensor having electrodes on a photoelectric conversion layer
JP3398161B2 (ja) 光電変換装置
JPH0640584B2 (ja) 薄膜トランジスタ
JP2692144B2 (ja) ラインセンサ
JPH05167097A (ja) 受光素子
KR100304866B1 (ko) 광트랜지스터
JPH0729649Y2 (ja) 光電変換装置
JPH0294576A (ja) ホトトランジスタ
JPH0323679A (ja) 光電変換素子
JPH049389B2 (ja)
KR960011476B1 (ko) 밀착형 이메지 센서의 광전변환소자 구조 및 제조방법