JPS6224917A - 加工液供給装置 - Google Patents
加工液供給装置Info
- Publication number
- JPS6224917A JPS6224917A JP16163385A JP16163385A JPS6224917A JP S6224917 A JPS6224917 A JP S6224917A JP 16163385 A JP16163385 A JP 16163385A JP 16163385 A JP16163385 A JP 16163385A JP S6224917 A JPS6224917 A JP S6224917A
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- JP
- Japan
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- machining
- ion exchange
- ions
- fluid
- exchange resin
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、水を主成分（水のみである場合を含む）とす
るワイヤカットあるいは型彫放電加工用加工液供給装置
に関する。
るワイヤカットあるいは型彫放電加工用加工液供給装置
に関する。
（従来の技術）
型彫あるいはワイヤカット放電加工において、純水また
は水を主成分とする水系加工液を加工液として使用する
場合、加工部に供給する加工液中のイオンを除去するた
め、加工部に供給する加工液中の電導度を測定し、その
電導度が大になると加工液槽の加工液をイオン交換樹脂
を有する循環路に循環するか、あるいは管路を通過させ
て浄化することが行なわれている。
は水を主成分とする水系加工液を加工液として使用する
場合、加工部に供給する加工液中のイオンを除去するた
め、加工部に供給する加工液中の電導度を測定し、その
電導度が大になると加工液槽の加工液をイオン交換樹脂
を有する循環路に循環するか、あるいは管路を通過させ
て浄化することが行なわれている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、イオン交換樹脂は、イオン濃度の大きい
液からイオンを交換する場合には、樹脂の表面層のみに
て交換作用が行なわれ、内部層が利用されないままにイ
オン交換機能が失なわれ、再生頻度が高いという問題点
がある。
液からイオンを交換する場合には、樹脂の表面層のみに
て交換作用が行なわれ、内部層が利用されないままにイ
オン交換機能が失なわれ、再生頻度が高いという問題点
がある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、上記の問題点を解決するため、型彫放電加工
またはワイヤカット放電加工に使用する水系加工液を供
給する装置において、加工液を入れる加工液槽を浸透膜
により複数の区域に区分 □し、１つの区域を使用済加
工液の貯槽とし、他の区域の加工液に対して、イオン交
換樹脂を有する加工液浄化用循環路を形成し、前記貯槽
の加工液中のイオンを前記浸透膜を介して他の区域に透
過させて浄化する構成を有し、かつ前記貯槽の加工液の
み、あるいは複数の区域の加工液を選択的に前記加工槽
に供給する構成を有するすることを特徴とするものであ
り、浸透膜を透過して来たイオンについてイオン交換が
行なわれるので、イオン濃度の少ない状態でイオン交換
が行なわれ、イオン交換樹脂の全体的な利用率が上がり
、イオン交換樹脂の再生頻度が少なくてすむ。
またはワイヤカット放電加工に使用する水系加工液を供
給する装置において、加工液を入れる加工液槽を浸透膜
により複数の区域に区分 □し、１つの区域を使用済加
工液の貯槽とし、他の区域の加工液に対して、イオン交
換樹脂を有する加工液浄化用循環路を形成し、前記貯槽
の加工液中のイオンを前記浸透膜を介して他の区域に透
過させて浄化する構成を有し、かつ前記貯槽の加工液の
み、あるいは複数の区域の加工液を選択的に前記加工槽
に供給する構成を有するすることを特徴とするものであ
り、浸透膜を透過して来たイオンについてイオン交換が
行なわれるので、イオン濃度の少ない状態でイオン交換
が行なわれ、イオン交換樹脂の全体的な利用率が上がり
、イオン交換樹脂の再生頻度が少なくてすむ。
（実施例）
以下本発明の一実施例を、型彫放電加工に例をとり、第
１図により説明する。第１図において、１はＸ、Ｙ位置
決め機構を有する加工テーブル、２は該加工テーブル上
に設置された加工槽、３は加工槽２内に満たされた水系
加工液でなる加工液４中に浸漬された被加工体、５は該
被加工体３との間に電圧パルスまたはパルス放電を生じ
させる電圧を加え、該被加工体３に対して近接させるこ
とにより、加工を行なう加工電極、６は加工液槽である
。
１図により説明する。第１図において、１はＸ、Ｙ位置
決め機構を有する加工テーブル、２は該加工テーブル上
に設置された加工槽、３は加工槽２内に満たされた水系
加工液でなる加工液４中に浸漬された被加工体、５は該
被加工体３との間に電圧パルスまたはパルス放電を生じ
させる電圧を加え、該被加工体３に対して近接させるこ
とにより、加工を行なう加工電極、６は加工液槽である
。
該加工液槽６は、セロファンあるいは素焼材または高分
子の浸透または透析膜からなる浸透膜７により２つの区
域ＡＩ 、 Ａ２に区分されており、１つの区域Ａ１に
は、前記加工槽２から、使用済加工液がフィルタ８を有
する戻り管９介してポンプ１０により、あるいは溢流に
よって導入される。なお、加工液槽６と加工槽２との間
には使用済加工液の受槽が設けられ、該受槽からポンプ
で汲み上げ、フィルタを介して加工液槽にへと循環させ
る構成とする場合もある。
子の浸透または透析膜からなる浸透膜７により２つの区
域ＡＩ 、 Ａ２に区分されており、１つの区域Ａ１に
は、前記加工槽２から、使用済加工液がフィルタ８を有
する戻り管９介してポンプ１０により、あるいは溢流に
よって導入される。なお、加工液槽６と加工槽２との間
には使用済加工液の受槽が設けられ、該受槽からポンプ
で汲み上げ、フィルタを介して加工液槽にへと循環させ
る構成とする場合もある。
加工液槽６の一方の区域Ａ１は、加工液供給管１１を介
してポンプ１２により加工槽２に供給しうるように配管
されている。また、他方の区域Ａ２は、その中の加工液
に対して、イオン交換樹脂１３およびポンプ１４を有す
る加工液浄化用循環路１５を形成する。
してポンプ１２により加工槽２に供給しうるように配管
されている。また、他方の区域Ａ２は、その中の加工液
に対して、イオン交換樹脂１３およびポンプ１４を有す
る加工液浄化用循環路１５を形成する。
この装置において、加工槽２から加工液槽６の区域Ａ１
に導入された加工液中のＣｌイオン等のイオンは、濃度
差により浸透膜７を通して区域Ａ２に透過し、ポンプ１
４によってイオン交換樹脂１３を介して循環することに
より、除去される。
に導入された加工液中のＣｌイオン等のイオンは、濃度
差により浸透膜７を通して区域Ａ２に透過し、ポンプ１
４によってイオン交換樹脂１３を介して循環することに
より、除去される。
このように、浸透膜７を介して透過するイオン分のみを
イオン交換樹脂１３によって除去することにより、イオ
ン生成度に一部関与する加工速度等にもよるが１例えば
区域ＡＩの加工液の比抵抗を０．５Ｘ１０’Ωとしたと
き、区域Ａ２のそれを５ＸＩＯ＠程度にすることができ
、従ってイオン交換樹脂１３において流通する加工液の
イオン濃度は小さく、イオン交換樹脂１３におけるイオ
ン交換作用を表層のみでなく、内層にまで行なわせるこ
とができる。
イオン交換樹脂１３によって除去することにより、イオ
ン生成度に一部関与する加工速度等にもよるが１例えば
区域ＡＩの加工液の比抵抗を０．５Ｘ１０’Ωとしたと
き、区域Ａ２のそれを５ＸＩＯ＠程度にすることができ
、従ってイオン交換樹脂１３において流通する加工液の
イオン濃度は小さく、イオン交換樹脂１３におけるイオ
ン交換作用を表層のみでなく、内層にまで行なわせるこ
とができる。
第２図は本発明の他の実施例であり、本実施例は、加工
液層６を浸透膜７Ａ 、７Ｂにより区域Ａｔ 、 Ａ２
、 Ａ３に区分し、使用済加工液を戻す区域Ａ１以外
の区域Ａ２ 、 Ａ３にはそれぞれイオン交換樹脂１３
Ａ、１３Ｂおよびポンプ１４Ａ、１４Ｂを有する尚イ）
；ｆｉ１循摺路１５Ａ、１５Ｂを形濤１、 久得躊膜７
Ａ 、７Ｂには隣り合う区域間での加工液の流動を可能
とする開閉板１６Ａ、１６Ｂを設け、加工液供給管は各
区域Ａｔ 、 Ａ２ 、 Ａ３にそれぞれ対応してそれ
ぞれ弁１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｇを有する分岐管１１Ａ、
ＩＩＢ、ＩＩＣを設け、これらをポンプ１２を有する１
つの管１１にまとめて加工槽２に接続している。
液層６を浸透膜７Ａ 、７Ｂにより区域Ａｔ 、 Ａ２
、 Ａ３に区分し、使用済加工液を戻す区域Ａ１以外
の区域Ａ２ 、 Ａ３にはそれぞれイオン交換樹脂１３
Ａ、１３Ｂおよびポンプ１４Ａ、１４Ｂを有する尚イ）
；ｆｉ１循摺路１５Ａ、１５Ｂを形濤１、 久得躊膜７
Ａ 、７Ｂには隣り合う区域間での加工液の流動を可能
とする開閉板１６Ａ、１６Ｂを設け、加工液供給管は各
区域Ａｔ 、 Ａ２ 、 Ａ３にそれぞれ対応してそれ
ぞれ弁１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｇを有する分岐管１１Ａ、
ＩＩＢ、ＩＩＣを設け、これらをポンプ１２を有する１
つの管１１にまとめて加工槽２に接続している。
この構成によれば、比較的比抵抗の低い加工液が必要な
場合には開閉板１６Ａ、１６Ｂは閉じたままとし、弁１
７Ａ〜１７ｃのうち、Ｌ７Ａのみを開け、ポンプ１４Ａ
、１４Ｂは１４Ａのみを作動させて、区域ＡＩの加工液
のイオンを除去し、ポンプ１０．１２を作動させること
により、前記同様の加工液浄化を行なうことができる。
場合には開閉板１６Ａ、１６Ｂは閉じたままとし、弁１
７Ａ〜１７ｃのうち、Ｌ７Ａのみを開け、ポンプ１４Ａ
、１４Ｂは１４Ａのみを作動させて、区域ＡＩの加工液
のイオンを除去し、ポンプ１０．１２を作動させること
により、前記同様の加工液浄化を行なうことができる。
また、より比抵抗の高い加工液が必要な場合には開閉板
１６Ｂは閉じたままとし、開閉板１６Ａを開け、弁１７
Ａ〜１７Ｃのうち、１７Ｂのみを開け、ポンプ１４Ａ、
１４Ｂを作動させて、区域Ａｔ、Ａ２の加工液のイオン
を除去し、ポンプ１０．１２を作動させることにより、
加工液をＡｔからＡ２へと流し、区域Ａ２に流入した加
工液はイオン交換樹脂１３Ａにより直接浄化され、かつ
区域Ａ２のイオンの一部は拡散により区域Ａ３に流入し
てイオン交換樹脂１３Ｂにより吸収される。この場合に
は、イオン交換樹脂１３Ｂは低イオン濃度にて交換作用
がなされ、再生頻度が少なくてすむ。さらに比抵抗の高
い加工液が必要な場合には開閉板１６Ａ、１６Ｂの双方
を開とし、弁１７Ａ−１７ｃのうち、１７Ｃのみを開け
、ポンプ１４Ａ、１４Ｂを作動させて、かつポンプ１０
．１２を作動させることにより、区域ＡＩ、Ａ２の加工
液を直接に浄化する。この場合には、イオン交換樹脂１
３Ａ、１３Ｂにおいては、共に浸透膜を介して透過して
来たイオンについてイオン交換作用がなされるのではな
く、直接的に交換作用がなされるが、イオン交換樹脂１
３Ａ、１３Ｂは共にイオンに直接作用して比較的イオン
低濃度雰囲気にてイオン交換作用をなすので、やはり再
生頻度は少なくなる。
１６Ｂは閉じたままとし、開閉板１６Ａを開け、弁１７
Ａ〜１７Ｃのうち、１７Ｂのみを開け、ポンプ１４Ａ、
１４Ｂを作動させて、区域Ａｔ、Ａ２の加工液のイオン
を除去し、ポンプ１０．１２を作動させることにより、
加工液をＡｔからＡ２へと流し、区域Ａ２に流入した加
工液はイオン交換樹脂１３Ａにより直接浄化され、かつ
区域Ａ２のイオンの一部は拡散により区域Ａ３に流入し
てイオン交換樹脂１３Ｂにより吸収される。この場合に
は、イオン交換樹脂１３Ｂは低イオン濃度にて交換作用
がなされ、再生頻度が少なくてすむ。さらに比抵抗の高
い加工液が必要な場合には開閉板１６Ａ、１６Ｂの双方
を開とし、弁１７Ａ−１７ｃのうち、１７Ｃのみを開け
、ポンプ１４Ａ、１４Ｂを作動させて、かつポンプ１０
．１２を作動させることにより、区域ＡＩ、Ａ２の加工
液を直接に浄化する。この場合には、イオン交換樹脂１
３Ａ、１３Ｂにおいては、共に浸透膜を介して透過して
来たイオンについてイオン交換作用がなされるのではな
く、直接的に交換作用がなされるが、イオン交換樹脂１
３Ａ、１３Ｂは共にイオンに直接作用して比較的イオン
低濃度雰囲気にてイオン交換作用をなすので、やはり再
生頻度は少なくなる。
（発明の効果）
以上述べたように、本発明によれば、浸透膜を透過して
来たイオンについてイオン交換が行なわれるので、イオ
ン濃度の少ない状態でイオン交換が行なわれ、イオン交
換樹脂の全体的な利用率が上がり、イオン交換樹脂の再
生頻度が少なくてすむ。
来たイオンについてイオン交換が行なわれるので、イオ
ン濃度の少ない状態でイオン交換が行なわれ、イオン交
換樹脂の全体的な利用率が上がり、イオン交換樹脂の再
生頻度が少なくてすむ。
第１図は本発明の実施例を示す装置構成図、第２図は本
発明の他の実施例を示す装置構成図である。
発明の他の実施例を示す装置構成図である。
Claims (1)
- 型彫放電加工またはワイヤカット放電加工に使用する水
系加工液を供給する装置において、加工液を入れる加工
液槽を浸透膜により複数の区域に区分し、１つの区域を
使用済加工液の貯槽とし、他の区域の加工液に対して、
イオン交換樹脂を有する加工液浄化用循環路を形成し、
前記貯槽の加工液中のイオンを前記浸透膜を介して他の
区域に透過させて浄化する構成を有し、かつ前記貯槽の
加工液のみ、あるいは複数の区域の加工液を選択的に前
記加工槽に供給する構成を有することを特徴とする加工
液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60161633A JPH0829456B2 (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 放電加工用加工液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60161633A JPH0829456B2 (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 放電加工用加工液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6224917A true JPS6224917A (ja) | 1987-02-02 |
| JPH0829456B2 JPH0829456B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=15738892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60161633A Expired - Lifetime JPH0829456B2 (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 放電加工用加工液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829456B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3743622A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-13 | Agie Ag Ind Elektronik | Vorrichtung zum filtern der bearbeitungsfluessigkeit einer elektroerosionsmaschine |
| JPH0655350A (ja) * | 1992-08-05 | 1994-03-01 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工装置 |
| US5298161A (en) * | 1991-01-07 | 1994-03-29 | Erosonic Ag | Apparatus for cleaning the working liquid of an EDM or ECM machine |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105171155B (zh) * | 2015-10-13 | 2017-10-27 | 哈尔滨理工大学 | 一种走丝机床用工作液供应及调节系统 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54100985A (en) * | 1978-01-26 | 1979-08-09 | Ebara Infilco Co Ltd | Purification of solution containing organics and inorganics |
| JPS60108216A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-13 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤカツト放電加工装置 |
-
1985
- 1985-07-22 JP JP60161633A patent/JPH0829456B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54100985A (en) * | 1978-01-26 | 1979-08-09 | Ebara Infilco Co Ltd | Purification of solution containing organics and inorganics |
| JPS60108216A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-13 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤカツト放電加工装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3743622A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-13 | Agie Ag Ind Elektronik | Vorrichtung zum filtern der bearbeitungsfluessigkeit einer elektroerosionsmaschine |
| US5298161A (en) * | 1991-01-07 | 1994-03-29 | Erosonic Ag | Apparatus for cleaning the working liquid of an EDM or ECM machine |
| JPH0655350A (ja) * | 1992-08-05 | 1994-03-01 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0829456B2 (ja) | 1996-03-27 |
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