JPH041679B2 - - Google Patents
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- JPH041679B2 JPH041679B2 JP59180610A JP18061084A JPH041679B2 JP H041679 B2 JPH041679 B2 JP H041679B2 JP 59180610 A JP59180610 A JP 59180610A JP 18061084 A JP18061084 A JP 18061084A JP H041679 B2 JPH041679 B2 JP H041679B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/02—Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
- B01D61/08—Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2311/00—Details relating to membrane separation process operations and control
- B01D2311/06—Specific process operations in the permeate stream
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2313/00—Details relating to membrane modules or apparatus
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2313/00—Details relating to membrane modules or apparatus
- B01D2313/24—Specific pressurizing or depressurizing means
- B01D2313/243—Pumps
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は純水の製造装置に係り、特に医薬、半
導体製造工業に適用して好適な純水製造装置に関
するものである。
導体製造工業に適用して好適な純水製造装置に関
するものである。
医薬を製造する製薬工業や半導体を製造する電
子工業では純度の高い水を必要としている。例え
ば、集積回路（I.C）や大規模集積回路（L.S.I）
等の精密な半導体の製造にはその洗浄水の純度が
直接製造の良否に関与することになり、水の高純
度化が重要な問題となつている。
子工業では純度の高い水を必要としている。例え
ば、集積回路（I.C）や大規模集積回路（L.S.I）
等の精密な半導体の製造にはその洗浄水の純度が
直接製造の良否に関与することになり、水の高純
度化が重要な問題となつている。
従来の純水の製造装置は第２図のように構成さ
れている。すなわち、原水は原水供給ライン１を
経て、一旦、中間タンク２に貯えられる。この原
水は高圧ポンプ３によつて逆浸透膜装置４の逆浸
透膜に浸透圧以上の加圧下で供給し、水中の塩類
の除去をする。逆浸透膜装置４で脱塩された透過
水は透過水ライン５を通つて自由液面を有する中
間タンク６に貯水される。透過水を中間タンク６
に貯めるのは締切運転による逆浸透膜装置４の逆
浸透膜の破損を防ぐためと、自由液面部の窒素ガ
ス等の不活性ガスをパージし水質維持を行うため
である。一方、逆浸透膜装置４によつて生成され
た濃縮水は濃縮ライン７を通つて排水とされる。
中間タンク６内の透過水、すなわち、処理水は純
水ポンプ８によつてポリシヤー、紫外線殺菌器、
フイルターを備える純水化構成機器９により最終
的に処理され、ユースポイント１０に送られて洗
浄用水に供される。ユースポイント１０で使用さ
れなかつた純水（処理水）は循環ライン１１を経
て中間タンク６に戻される。未使用の純水は中間
タンク６−純水化構成機器９−ユースポイント１
０−中間タンク６のように常に循環し水質の劣化
を防いでいる。
れている。すなわち、原水は原水供給ライン１を
経て、一旦、中間タンク２に貯えられる。この原
水は高圧ポンプ３によつて逆浸透膜装置４の逆浸
透膜に浸透圧以上の加圧下で供給し、水中の塩類
の除去をする。逆浸透膜装置４で脱塩された透過
水は透過水ライン５を通つて自由液面を有する中
間タンク６に貯水される。透過水を中間タンク６
に貯めるのは締切運転による逆浸透膜装置４の逆
浸透膜の破損を防ぐためと、自由液面部の窒素ガ
ス等の不活性ガスをパージし水質維持を行うため
である。一方、逆浸透膜装置４によつて生成され
た濃縮水は濃縮ライン７を通つて排水とされる。
中間タンク６内の透過水、すなわち、処理水は純
水ポンプ８によつてポリシヤー、紫外線殺菌器、
フイルターを備える純水化構成機器９により最終
的に処理され、ユースポイント１０に送られて洗
浄用水に供される。ユースポイント１０で使用さ
れなかつた純水（処理水）は循環ライン１１を経
て中間タンク６に戻される。未使用の純水は中間
タンク６−純水化構成機器９−ユースポイント１
０−中間タンク６のように常に循環し水質の劣化
を防いでいる。
又、この他に特表昭57−502250号、及び特開昭
60−216808号公報に記載するものもある。
60−216808号公報に記載するものもある。
上記従来技術では２つの中間タンクの存在によ
つて水質劣化の不安がある。例えば、タンク内に
僅かでも細菌がリークすると時間の経過とともに
増殖するので、タンクン内は細菌で汚染される。
特に、ユースポイント１０で純水が使用されない
場合には逆浸透膜装置４が停止するので、逆浸透
膜面の汚染が進行し、このため膜洗浄の頻度を多
くする必要があつた。
つて水質劣化の不安がある。例えば、タンク内に
僅かでも細菌がリークすると時間の経過とともに
増殖するので、タンクン内は細菌で汚染される。
特に、ユースポイント１０で純水が使用されない
場合には逆浸透膜装置４が停止するので、逆浸透
膜面の汚染が進行し、このため膜洗浄の頻度を多
くする必要があつた。
又、特表昭57−502250号のものは逆浸透膜装置
を透過した中間純水をポンプの吸込側へ戻してお
り、純水製造装置には通常、更に逆浸透膜の後に
使用されるところのポリシヤー（イオン交換樹脂
を具える純水化機器）、紫外線殺菌器等を備えて
おり、この装置では循環ラインとユースポイント
との間に滞留した純水を戻すことはできず、やは
り滞留による水質の劣化の問題が残る。
を透過した中間純水をポンプの吸込側へ戻してお
り、純水製造装置には通常、更に逆浸透膜の後に
使用されるところのポリシヤー（イオン交換樹脂
を具える純水化機器）、紫外線殺菌器等を備えて
おり、この装置では循環ラインとユースポイント
との間に滞留した純水を戻すことはできず、やは
り滞留による水質の劣化の問題が残る。
更に、特開昭60−216808号のものも上記特表昭
57−502250号のものと同様の問題を有している。
57−502250号のものと同様の問題を有している。
本発明の目的は純水の水質劣化原因を大きくす
る純水の滞留を除去した純水製造装置を提供する
ことにある。
る純水の滞留を除去した純水製造装置を提供する
ことにある。
本発明は原水を逆浸透膜装置、純水化構成機器
を用いて純水を得る純水製造装置であつて、原水
をポンプで逆浸透膜装置へ通水し、この逆浸透膜
装置及び純水化構成機器の透過水である純水をユ
ースポイントへ送水すると共に、このユースポイ
ントから戻る純水をポンプの吸込側に戻す循環ラ
インを設けたものである。
を用いて純水を得る純水製造装置であつて、原水
をポンプで逆浸透膜装置へ通水し、この逆浸透膜
装置及び純水化構成機器の透過水である純水をユ
ースポイントへ送水すると共に、このユースポイ
ントから戻る純水をポンプの吸込側に戻す循環ラ
インを設けたものである。
ユースポイントから戻る純水をポンプの吸込側
に戻すことによつて滞留による水質の劣化を完全
に除去できる。
に戻すことによつて滞留による水質の劣化を完全
に除去できる。
以下、本発明の実施例を第１図について説明す
る。
る。
図において、第２図と同じ部分には同じ符号を
付して示す。
付して示す。
原水は原水供給ライン１を通つて高圧ポンプ３
に導びかれる。高圧ポンプ３は逆浸透膜に浸透圧
以上に加圧して供給する。逆浸透膜装置４で脱塩
された透過水はポリシヤー、紫外線殺菌器、フイ
ルターを備える純水化構成機器９に直接供給され
る。純水化構成機器９を経た純水（処理水）はユ
ースポイント１０に送られ洗浄用水に供され、残
りは循環ライン１１を経て高圧ポンプ３の吸込側
に戻される。ユースポイント１０において純水を
使用しない場合にも高圧ポンプ３は連続運転され
る。循環ライン１１と高圧ポンプ３の吸込側の原
水供給ライン１との間には原水が循環ライン１１
に流入するのを避けるチエツク弁１４が配置され
ている。また、循環ライン１１には開閉弁１５が
設けられ純水製造装置の運転を停止した際、閉鎖
することにより循環ライン１１に原水が拡散する
のを避ける。開閉弁１５にはリリーフ弁１６が並
設されており、純水製造装置の起動は開閉弁１５
が閉鎖状態で行われ、立ち上げ終了後、開閉弁１
５を開口させる。立ち上げ時には循環ライン１１
からの純水はリリーフ弁１６を経て高圧ポンプ３
の吸込側に戻され、逆浸透膜装置の締切運転を避
けることができる。また、循環ライン１１にはエ
ゼクター１７が配置されており、このエゼクター
１７に開閉弁１８を介し洗浄液タンク１２が接続
される。純水製造装置のラインを洗浄するに際し
ては開閉弁１８を開口すれば洗浄液タンク１２か
らの洗浄液はエゼクター１７の作用によつて循環
ライン１１に流入し、高圧ポンプ３、逆浸透膜装
置４、純水化構成機器９を経て循環ライン１１に
戻るように循環する。
に導びかれる。高圧ポンプ３は逆浸透膜に浸透圧
以上に加圧して供給する。逆浸透膜装置４で脱塩
された透過水はポリシヤー、紫外線殺菌器、フイ
ルターを備える純水化構成機器９に直接供給され
る。純水化構成機器９を経た純水（処理水）はユ
ースポイント１０に送られ洗浄用水に供され、残
りは循環ライン１１を経て高圧ポンプ３の吸込側
に戻される。ユースポイント１０において純水を
使用しない場合にも高圧ポンプ３は連続運転され
る。循環ライン１１と高圧ポンプ３の吸込側の原
水供給ライン１との間には原水が循環ライン１１
に流入するのを避けるチエツク弁１４が配置され
ている。また、循環ライン１１には開閉弁１５が
設けられ純水製造装置の運転を停止した際、閉鎖
することにより循環ライン１１に原水が拡散する
のを避ける。開閉弁１５にはリリーフ弁１６が並
設されており、純水製造装置の起動は開閉弁１５
が閉鎖状態で行われ、立ち上げ終了後、開閉弁１
５を開口させる。立ち上げ時には循環ライン１１
からの純水はリリーフ弁１６を経て高圧ポンプ３
の吸込側に戻され、逆浸透膜装置の締切運転を避
けることができる。また、循環ライン１１にはエ
ゼクター１７が配置されており、このエゼクター
１７に開閉弁１８を介し洗浄液タンク１２が接続
される。純水製造装置のラインを洗浄するに際し
ては開閉弁１８を開口すれば洗浄液タンク１２か
らの洗浄液はエゼクター１７の作用によつて循環
ライン１１に流入し、高圧ポンプ３、逆浸透膜装
置４、純水化構成機器９を経て循環ライン１１に
戻るように循環する。
尚、洗浄液タンク１２から循環ライン１１に洗
浄液を注入する手段はエゼクター１７によつて行
うようにしたが、洗浄液タンク１２内に洗浄液の
液落差を利用することも可能である。
浄液を注入する手段はエゼクター１７によつて行
うようにしたが、洗浄液タンク１２内に洗浄液の
液落差を利用することも可能である。
以上説明したように、本発明によれば原水をポ
ンプで逆浸透膜装置及び純水化構成機器へ通水
し、この装置の透過水である純水をユースポイン
トを経てポンプの吸込側へ戻す循環ラインを設け
たので、滞留による純水の水質劣化を防ぐことが
できる。
ンプで逆浸透膜装置及び純水化構成機器へ通水
し、この装置の透過水である純水をユースポイン
トを経てポンプの吸込側へ戻す循環ラインを設け
たので、滞留による純水の水質劣化を防ぐことが
できる。
第１図は本発明の純水製造装置の系統図、第２
図は従来の純水製造装置の系統図である。 １……原水供給ライン、３……高圧ポンプ、４
……逆浸透膜装置、９……純水化構成機器、１０
……ユースポイント、１１……循環ライン、１４
……チエツク弁、１５……開閉弁、１６……リリ
ーフ弁、１７……エゼクター。
図は従来の純水製造装置の系統図である。 １……原水供給ライン、３……高圧ポンプ、４
……逆浸透膜装置、９……純水化構成機器、１０
……ユースポイント、１１……循環ライン、１４
……チエツク弁、１５……開閉弁、１６……リリ
ーフ弁、１７……エゼクター。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 原水をポンプ、逆浸透膜装置、純水化構成機
器を用いて純水を得る純水製造装置において、前
記原水をポンプで逆浸透膜装置及びポリシヤー、
紫外線殺菌器、フイルターを備える純水化構成機
器へ通水し、この逆浸透膜装置及び純水化構成機
器の透過水である純水をユースポイントへ送水す
ると共に、このユースポイントから戻る純水を前
記ポンプの吸込側に戻す循環ラインを設けたこと
を特徴とする純水製造装置。 ２ 特許請求の範囲第１項のものにおいて、循環
ラインにチエツク弁を配置し、原水の供給ライン
から前記循環ラインに前記原水が逆流するのを防
ぐことを特徴とする純水製造装置。 ３ 特許請求の範囲第１項または第２項のものに
おいて、循環ラインに開閉弁と、この開閉弁に並
列にリリーフ弁を設置し、運転起動に際して開閉
弁を閉鎖状態で行なうことを特徴とする純水製造
装置。 ４ 特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれ
かのものにおいて、循環ラインにエゼクターを配
置し、このエゼクターに洗浄液タンクを接続して
洗浄液を供給することを特徴とする純水製造装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59180610A JPS6161689A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 純水製造装置 |
| US07/022,881 US4773993A (en) | 1984-08-31 | 1987-03-06 | Apparatus for purifying and dispensing water with stagnation preventing means |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59180610A JPS6161689A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6161689A JPS6161689A (ja) | 1986-03-29 |
| JPH041679B2 true JPH041679B2 (ja) | 1992-01-13 |
Family
ID=16086248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59180610A Granted JPS6161689A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 純水製造装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4773993A (ja) |
| JP (1) | JPS6161689A (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0767556B2 (ja) * | 1985-08-20 | 1995-07-26 | アルバツクサ−ビス株式会社 | 超純水、無菌純水製造装置のポンプ発熱による殺菌方法 |
| JP2727008B2 (ja) * | 1989-02-01 | 1998-03-11 | 日本酸素株式会社 | 静菌化水の製造方法 |
| US4969991A (en) * | 1989-08-30 | 1990-11-13 | Valadez Gerardo M | Water purifying and dispensing system |
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-
1984
- 1984-08-31 JP JP59180610A patent/JPS6161689A/ja active Granted
-
1987
- 1987-03-06 US US07/022,881 patent/US4773993A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60216808A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-30 | Daicel Chem Ind Ltd | 逆汚染防止方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4773993A (en) | 1988-09-27 |
| JPS6161689A (ja) | 1986-03-29 |
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