JPS62247203A - 非接触式表面凹凸の測定方法 - Google Patents

非接触式表面凹凸の測定方法

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JPS62247203A
JPS62247203A JP62019597A JP1959787A JPS62247203A JP S62247203 A JPS62247203 A JP S62247203A JP 62019597 A JP62019597 A JP 62019597A JP 1959787 A JP1959787 A JP 1959787A JP S62247203 A JPS62247203 A JP S62247203A
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JP
Japan
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light beam
objective lens
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ray
measurement
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JP62019597A
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ジャン−マリー コーシニャック
ジェラール モレル
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Laboratoire Central des Ponts et Chaussees
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Laboratoire Central des Ponts et Chaussees
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、接触することなく物体あるいは構造物の被検
査表面の凹凸を迅速に測定する方法に関する。この方法
は前記被検査表面から反射される放射線の検出および測
定に基すいて凹凸を測定するものである。
(従来の技術) 従来のこの種の方法としては、被検査表面に集束光線を
あて、この表面によって反射された、より厳密には後方
散乱された、光線を観察して行なうものがある。より詳
述すると、反射光線は表面の凹凸、あるいは1■さによ
って大なり小なり拡散する。従って、この拡散量を調べ
ることにより表面の凹凸状態を測定することができるの
である。
この様な方法に関する一つの先行技術例として5U−A
1067350に開示されたものがあるが、この方法に
おいては、被検査表面を所定の角度より照射し、反射光
線中の放射線を、鏡面反射方向に対し垂直な平面中の様
々な点において測定する。
このatq定は反射光線のエネルギー分布、即ち、反射
放射線を表す値あるいは曲線値を得ることに役立ち、そ
してこれらの値f!:被検査面の他の点における値と比
較することによりこの被検査面のこの点における1■さ
゛あるいは凹凸特性を測定することができるのである。
しかしながら、上記の方法を用いた測定値は被検査面の
一点の特性に関するものであり、被検査面の全部分の測
定値を得る為には、この面の全ての点において上記の測
定を繰り返さなければならず、しかもそれぞれの測定に
は一連のいくつかの作業が必要である。この様に全部の
点において測定を行なう代わりに、被検査表面の特定領
域のみを測定することも可能であるが、この場合には測
定値はこの特定領域の平均値にすぎなくなってしまう。
更に、この方法による凹凸度測定は本質的に比較に基ず
くものであり、従って、この凹凸の形状あるいは断面を
正確に測定することはできない。
更に、この測定法による結果は、対象物から発せられる
放射線の変化によって変わってくる。そしてこの様な放
射線の変化は測定を繰り返す内に発生する可能性がある
次にUS−^4017+88に開示された方法について
述べる。この方法においては、被検査面に光線をあて、
この面から後方散乱された前記光線をレンズによって集
束する。すると光線はこのレンズによって測定光線に分
離され、この測定光線はダイアフラムを通過する。この
ダイアフラム通過後の測定光線は総エネルギー値Wfを
有している。
一方、このダイアフラムを通過しない基準光線は総エネ
ルギー値WOを有している。そして、前記入射光線と前
記レンズを、前記面に対してこの面から一定平均距離で
変位させながらこの変位作業の間、連続的に前記測定光
線と前記基準光線を測定する。そして、それぞれの測定
点においてこれらの値の比率W f / W oを算出
する。この時、前記変位中における前記比率の変化力曹
皮検査表面の凹凸度を表しているのである。この方法に
おいて。
前記ダイアフラムは長穴によって構成されている。
虻って この方法の適用範囲は特定タイプの凹凸に限ら
れている。しかも、rFt記レンズは光源と被検査に面
との間に設けられてるZ)、二重焦点現象が生じ、これ
によって小光点、従って、測定領域はかなり小さなもの
になってしまう。つまり、面に対する光線のインパクト
の二重焦点化に伴い、この面に対して平行な空間の解像
度も制限されてしまうのである。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、」1記の欠点を収り除くことができる
表面凹凸検出、測定方法な提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明による方法は、物体もしくは構造物の表面の凹凸
を、前記表面に接触することなく検出もしくは測定する
方法であって、前記被検査表面を電磁波光線により照射
し、前記表面から後方散乱した前記光線を対物レンズに
より合焦し、前記対物レンズからの光線を測定光線及び
基準光線に分離し、前記測定光線にダイアフラム作用を
施し、前記ダイアフラム作用後の前記rTllI定光線
が二光線ギー値Wfを有し、前記ダイアフラム作用を受
けない基準光線が総エネルギー値WOを有し、前記入射
光線及び前記対物レンズを前記被検査表面に対し平行か
つこれから一定平均距離で変位させ、この変位作業中に
前記測定光線及び前記基準光線のエネルギーを連続的に
測定し、それぞれの測定点において前記値の比率W f
 / W oを求め、前記変位作業中のこの比率の変化
によって前記被検査表面の凹凸を測定することを特徴と
する。
(作用、効果) 本発明による方法においては、被検査表面を電磁波の入
射光線によって照らず。この光線は狭帯で、集束されて
おり、通常のエネルギー分散率を有し、円対称でなけれ
ばならない。次に、従来の方法により、この面から後方
散乱された光線を対物レンズを用いて合焦させる。この
対物レンズから発せられる光線は二つの光線に分離され
、これらの光線の内一方が測定光線であり、これはダイ
アフラムの作用により制限され、この作用を受けたt裔
、総エネルギー値W fを有している。一方、らう一つ
の光線は基準光線であり、これは前記ダイアフラム作用
を受けずに、総エネルギー値W 。
を有している0次に、前記入射光線とレンズを被検査表
面に対し、この表面から一定平均距離で変位させてゆく
。そして、この変位中、前記測定光線及び基準光線のエ
ネルギー値は常時測定される。
それぞれの測定点において、上記の値開の比率Wf /
 W oが算出されるが、この時、前記変位中のこの比
率の変化が被検査表面の凹凸度を表している。
上記の説明において、光線に用いられた分離という言葉
は、一つの入力光線から少なくとも二つの光線を得るこ
とを意味するのであり、この分離がたとえ仮想上のもの
であってもよく、得られる二つ光線が物理的に互いに分
離している必要はない。同様に、ダイアフラムという言
葉は、その断面が特定の表面によって制限された状態で
、光線の一部分のみを取り出すのに的したあらゆる手段
を指している。
さて、周知の様に、前記被検査面はその凹凸の働きによ
り、前記入射光線を後方散乱させる。
そして、この後方散乱された光線は前記対物レンズによ
り合焦される。ここでもし前記対物レンズと入射光線に
よって照らされた表面上の点との真光学距離が変化すれ
ば、この対物レンズとこの点の像との真光学距離もまた
変化し、更に、対物レンズからの収束光線の立体角もま
た変化する。その結果、前記レンズから一定距雛で、し
かも前記光線の像平面から離れて配設されたダイアフラ
ムは、前記対物レンズと被検査表面との間の真光学距離
における変化に基すき前記光線を制限する。
その結果、前記測定光線のエネルギーはこのダイアフラ
ムにより変調され、一方、前記基準光線はダイアフラム
によって制限されないので、その全部が送信される。
従って、一つの光線を分離することによって得られた前
記測定光線と前記基準光線とのエネルギー値の比率W 
f / W oであるところの測定結果は、前記入射光
線内のエネルギーの変化、即ち、検査’t−f象拘の変
動から影響を受けないのである。
この方法の一つの特筆すべき点は、前記入射光線は狭帯
で集束された(即ちほぼ円筒形状)ものではあるが、シ
ャープなものである必要はなく、b′Cって、この方法
は実行が容易であることである。
又、ばかしは一度しか行なわないので、光点の大きさは
、この光点内でのエネルギー分布が円対称であるので、
一定している。
その実施範囲にはそれなりの限界があるものの、この方
法は、もしその実施において適切な変数が与えられるな
らば広い粒度測定範囲に渡って凹凸をNIQ定するのに
利用することが可能である。
最後に、本発明の方法によって得られた測定結果は対物
レンズと被検査表面上の点との間の真光学距離を表すも
のであり、基準表面に対する比較値を表すものではない
、従って、被検査表面の凹凸の断面を事実上、直接表す
ことが可能になると・いう特別な利点を有している。
次に本発明による方法の一つの有用な利用法について詳
述する。入射光線を対物レンズを介して、被検査表面に
直角に当て、後方散乱される光線も同様にこの表面に対
し直角に観察できる様にする。この様にすることにより
、前記表面に対して斜めに照射し観察する時に生じる投
射形現象を避けるこ°とができ゛、これにより測定誤差
をかなり取り除くことが可能である。
本発明は、接触することなく物体あるいは構造物の表面
粗さを測定する装置により実施することができる。前記
装置は次のものを有する:周知の円対称エネルギー分布
特性を有する電磁波を持つ狭帯の集束され、かつ被検査
表面に向けられここから後方散乱される光線を発するこ
とができる光源と、前記後方散乱光線を合焦させる対物
レンズと、前記対物レンズの下方に設けられ、この対物
レンズからの光線を二種の光線、即ち、測定光線、及び
、基準光線とに分離する分離装置と、前記分離装置内あ
るいはこの装置の下方の前記測定光線上であって、しか
も前記対物レンズによって与えられる前記被検査表面の
像平面から常に異なっている平面内に設けられ、前記測
定光線を常時制限するダイアフラムと、前記入射光線と
前記対物レンズとを、前記被検査表面に対し、この表面
と平行かつ、この表面から一定平均距離で変位させる手
段と、前記測定光線及び前記基準光線上に配設され、前
記入射光線と前記対物レンズの被検査表面に対する変位
中に、前記測定光線と前記基準光線とのエネルギー値の
比率W f / W 。
を常時測定する測定手段と、前記測定光線と基準光線と
のエネルギー値の比率W f / W oをそれぞれの
測定点において算出する手段。
本発明の特に好ましい実施例としては、前記対物レンズ
からの光線は検出装置の感受表面上に受けられる。この
検出!A置は放射線を電気信号に変える時、正確にさま
ざまな帯域を限定する様に構成されており、前記基準光
線の全横断面に対応するその第1帯域においてエネルギ
ー値Wfを測定し、ダイアフラムの効果分受けた前記光
線の槽断面に対応する小さな帯域においてエネルギー値
Woを測定する。
この小さな帯域は、はぼ円形あるいは環状であり、前記
第1帯域内に含ま!している。
(実施例) 第1図において、放射線源1(この実施例においては、
スペクトラムの可視領域において作用するレーザーであ
るが、他の電磁放射線源であっても良く、可視である必
要はない)は、光線10を発する。この光線10は、装
置を適当な空間で使用できる様に、ミラー16によって
90”屈折される。なお、このミラーは前記光線10の
特性に対しこれ以外の影響は与えない。
前記入射光線10は被検査表面2に向けられ、屈折、よ
り厳密にはここから発散光線11.12として後方散乱
される。この散乱光線11.12は対物し〉・ズ4によ
り合焦され、収束光線13になる。
第1図においで、3は前記後方散乱光線11のI)の反
射板であり、前記光線12はこの光線11に対し一定の
角度を有している。本発明において、前記入射光線10
を前記表面2に当てこの表面2に対して傾斜している前
記後方散乱光線を観′!:(することも可能ではあるが
、入射光線10e表面2に当てこの表面2に対し直角を
成す前記後方散乱光線11を観察する方が明らかに好都
合である。これは、前記光線の光路に有り、前記入射光
線の方向に対し45°の角度に位置し、半透明板あるい
は狭い入射光線10が通過できる穴、あるいは他の同様
の装置によって構成されている前記反射板3を用いるこ
とにより可能である。
対物レンズ4がらの前記収束光線13は光線分離装置に
向けられる。第1図においてこの光線分離装置はキュー
ブ5により形成されている。光線13はこの光線分離装
置により分離されて二つの光線14.15になるが、こ
れらの光線は直交していることが望ましい。
前記光線15は基準光線であり、これはこの基準光線1
5のエネルギーをJll定する検出装置8に向けられる
前記光線14は工:1定光線であり、これはタイアフラ
11通過後のこの測定光線14のエネルギーを測定する
検出装置7に向けられる。
これら検出装置7.8は、受け取った放射線エネルギー
をこのエネルギーに対応する電気信号に変換することで
この放射線エネルギーを測定する様になっている。そし
て、これらの検出装置7.8が発生する信号は次に電気
信号処理ユニット9によって処理される。
第1図において略図的に示したこの装置を用いて実際に
測定を行なうには、前記光源1、ミラー16、半透明板
3、対物レンズ4、光線分離装置5、ダイアフラム6、
そして前記検出装置7.8から構成されたアセンブリを
前記被検査表面2に対して相対的に移動させる。
この移動は、この表面の凹凸における変化が前記装置全
体の寸法に対して僅かなものである場合、前記表面2に
対して平行、がっこの表面2がら一定平均距離をおいて
、即ち、この表面2の表面エンベロー1に対して平行に
行なわれる。
前記装置の前記表面2に対する相対変位動作中、対物レ
ンズ4と被検査表面2の被照射点との間の真光学距離に
は変化が生じる。そして、この距pZの変化に(fい、
前記光線分離装置の後方に位置する像平面Pi、P2も
変化し、前記光線14の直径をこれが前記ダイアフラム
6に一致するまで変化させる。従って、前記距離Zの変
化に伴いこのダイアフラム6を通過する測定光線14中
のエネルギーも変化する。
前記入射光線10が表面2上の突出した点を照射すると
5距NZは小さくなり、前記像平面P1を前記対物レン
ズ4から遠ざけ、ダイアフラム6の真上に位置する前記
光線14の直径を大きくする。その結果、ダイアフラム
6はこの光線中のエネルギーの内比較的少量部分を通過
させる。
このエネルギー値Wfは前記検出装置7によって測定さ
れる。同時に、前記基準光線15(即ち、ダイアフラム
を通過しない光線)中のエネルギー値Woは前記検出装
置8によって測定される。このエネルギー[W oは前
記後方散乱光線11のエネルギー値に対し正確に比例し
ている。一方、前記検出装置7によって測定されるエネ
ルギー値Wfは、前記ダイアフラム6による変調によっ
て変化する。
上記の測定を正確に行なうりには、前記検出装置7.8
は共に、受け取る放射線の全部を、前記像平面P1、P
2の位置にかかわらず、積分できるだけの十分な感受表
面を有していなければならない。又、前記ダイアフラム
6が常に前記像平面P1、P2からはなれた所に位置し
ていること、そして、このダイアフラム6の直径がこの
ダイアフラム6の真上に位置する前記光線14の直径に
比べて、同じくらいか、少なくともこの直径よりも小さ
いものであることも必要である。
言うまでもなく、第1図に示した方法、即ち、前記像平
面PI、P2を前記光線分離装置5の後方に位置させる
方法は、これらの必要性に対して好都合に構成されてい
る。というのは、前記検出装置感受表面を小さく維持す
ることが可能であるからである。しかしながら、前記f
ffi平面P1、P2を前記光線分離装置5(この場合
、これらの像平面は一つの像平面として形成される)の
前方に位置させ、これにより発散光線14.15を発生
さぜ、検出SA7/として大型のものを使用することも
可能て′あろう。
第3図は、本発明を特に有用に実施するろの装置の略図
であり、ここにおいて、前記光線分離装置及び前記ダイ
アフラムは前記測定手段の検出装置の感受表面と同じ平
面に位置している。
この場合、第3図において1点鎖線によって示されてい
る基準光線15′は前記対物レンズからの全光線13に
よって構成され、測定光線14′は、同様に1点鎖線に
よって示され、前記光線と同軸の円形部17に制限され
る部分により構成されている。
対物レンズ4からの前記光線13は、検出装置18に接
続された前記信号処理手段により直接分離される。前記
検出装置18の感受表面1つは、放射線を電気信号に変
換する際に異なった領域を正確に限定する様に構成され
、しかも常に前記全光線13の横断面20よりも大きい
勿論、前記測定光線はダイアフラムによって物理的に制
限されるものではなく、必要な制限はこの測定光線を制
限する部分17に対応する領域を選択することにより、
前記感受表面によって行なわれるのである。
前記検出装置18の特性許容範囲内であれば、円形状も
しくは環状の前記測定光線を制限する部分17に対応す
る領域を選択することも同様に可能である。この時、必
要条件としては、ただ前記光線13が前記全領域17の
少なくとも一部を照射すること、そして前記測定光線領
域が対物レンズからの前記光線13と同軸であれば良い
前記感受表面1つはマトリックス型のセル19a(第3
A図参照)あるいは環状型セル19b(第3B図参照)
により構成することができるが、この時いずれの場合に
おいてムその解像力は可能な限り良好であることが望ま
しい(この点に関して図面は極めて略図的である)。例
えば、この感受表面を電荷移動検出装置を利用したソリ
・ソドステートカメラによって構成することができる。
前記検出装置の感受表面により光線を分離、制限する時
、二つのエネルギー値が得られる。即ち、前記領域17
a、17bにより制限された測定光線に対応する値Wf
と、前記基準光線に対応し、領域20a、20bにおい
て受け取られた前記対物レンズから来る、前記エネルギ
ー値Wfと前記領域17a、17bの外部で前記検出装
置によりとらえられた放射エネルギー値との和であると
ころのft1W oである。
雨検出装置から発せられる電気信号は前記信号処理装置
に送り込まれ、ここで前記の比率がアナログ除法により
リアルタイムでそれぞれの点に対して得られるのである
。その結果得られた信号r (z)は前記対物レンズ4
と前記披検査表面2との間の距gIizの関数であり、
ここで次の式が成立する。
1(Z)  =  Wf/W。
理論的には、そして実験によっても確かめられたことで
あるが、前記表面一対物レンズ距離Zの関数としての、
ある点における前記比率Wf/Wo−I(Z)の変化は
非対称鏡型曲線(第2図参照)によって表される。この
曲線の両側はそれぞれ前記像平面P1の前記ダイアフラ
ムに対する上方、下方位置を表している。ここでこの曲
線の頂点中央部は同時に得られたものである。
明らかに、この装置の有用作用領域は、対物レンズ6と
表面との間の真光学距1litzする時の比率WfとW
Oの最大変化に対応する前記曲線の疑11ブ、直線部分
に有る。
この装置の有用作業領域はこの装置の一つあるいはそれ
以上のパラメーターを変えることにより、所望の能力、
測定範囲に適応させることができる。これらのパラメー
ターには次のものが有る。
1、対物レンズの直径 2、対物レンズの焦点距離 3、変調ダイアフラムの直径 4 ダイアフラム一対物レンズ距離、そして5、非検査
表面と対物レンズとの間の距離。
第2図に示す一連の曲線は他のパラメーター1.2.3
そして5が一定である場合の上記パラメーター4(ダイ
アフラム一対物レンズ距M)の変化に対応している。
距離Zの関数としての非直線性I (Z)は、前記信−
;■(Z)を処理する際に補正する必要が′あるかもし
れない。そしてこの補正は前記信号処111!装置9を
用いることにより可能である。この装置9は前記アナロ
グ信号1(Z)を、表面粗さに閏するパラメーターを導
き出す為に実際の横断面の1−?性をJll+定するの
に用いることができるデジタル信号に変換する。
外部光、即ち、障害の関数としての値T (Z)の変化
も又、補正することが可能である。これは次の作業によ
り行なう。前記領域20a、20bの外部(例えば、前
記マトリックス検出装置19aの端部のセル、あるいは
前記環状検出装置19bの最外端セル)に位置する一つ
の測定センサーに受け取られたエネルギーWiを測定し
、次に前記領域17.20のそれぞれにおけるセルの数
としてNf、Noを与える。この時、値1 (Z)の補
正値I’  (Z)は次の式により与えられる。
(′(Z ) = (W f −N f W i ) 
/ (W o −N OW i ) 上述した様に、そのパラメーターを変えることができる
ので、この装置はさまざまな応用が可能である。例えは
、二つの直交する方向で走査すれば。
表面の凹凸を立体的に再構成することができる。
その幾何学的配置を選択することにより、被検査表面に
接触することなく、マクロ粗さ、マイクロ粗さ、縦断面
、高さの測定が可能である。
この方法は又、道路表面の粗さを測定するのにも利用で
きる。しかし、本方法の利用はこれに限定されるもので
はない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による方法を実施する装置の略図、第2
図はさまざまなダイアフラム一対物レンズ距離に対する
対物レンズと被検査表面との間の光学距離の関数である
ところの比率W f / W 。 は第3図に示した実施例に適切な検出装置の略正面図で
あり、第3A図はマトリックス検出装置そして第38図
は環状検出装置を示している。 2・・・被検査表面、4・・・対物レンズ、6・・・ダ
イアフ、ラム、10・・・電磁波光線、1 tl、14
′ ・・・測定光線、 15.15′ ・・・基準光線。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、物体もしくは構造物の表面の凹凸を、前記表面に接
    触することなく検出もしくは測定する方法であって、前
    記被検査表面を電磁波光線により照射し、前記表面から
    後方散乱した前記光線を対物レンズにより合焦し、前記
    対物レンズからの光線を測定光線及び基準光線に分離し
    、前記測定光線にダイアフラム作用を施し、前記ダイア
    フラム作用後の前記測定光線がエネルギー値Wfを有し
    、前記ダイアフラム作用を受けない基準光線が総エネル
    ギー値Woを有し、前記入射光線及び前記対物レンズを
    前記被検査表面に対し平行かつこれから一定平均距離で
    変位させ、この変位作業中に前記測定光線及び前記基準
    光線のエネルギーを連続的に測定し、それぞれの測定点
    において前記値の比率Wf/Woを求め、前記変位作業
    中のこの比率の変化によって前記被検査表面の凹凸を測
    定する方法。 2、前記入射光線が、前記表面から後方散乱された光線
    を前記表面に対し直交する角度で観察することを可能に
    する装置により、前記表面に直交する角度で照射される
    ところの、特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3、前記比率Wf/Woの変化が、前記対物レンズ及び
    前記被検査表面間の真光学距離が変化する時に最大とな
    る様に、前記対物レンズが前記被検査表面から平均光学
    距離に位置するところの、特許請求の範囲第1項に記載
    の方法。 4、前記基準光線が前記対物レンズからの全光線により
    構成され、一方、前記測定光線が前記対物レンズからの
    前記光線の一部分により構成され、しかも前記部分の横
    断面が前記対物レンズからの前記全光線と同軸である円
    形上もしくは環状領域に限定されているところの、特許
    請求の範囲第1項に記載の方法。 5、前記表面に対し直交する角度で照射及び観察を可能
    にするところの前記装置が前記入射光線に対し望ましく
    は45°の角度に向けられた半透明板によって構成され
    ているところの、特許請求の範囲第2項に記載の方法。 6、前記表面に対し直交する角度で照射及び観察を可能
    にするところの前記装置が前記入射光線に対し望ましく
    は45°の角度に向けられたミラーによって構成されて
    いるところの、特許請求の範囲第2項に記載の方法。 7、前記入射光線がレーザー光線であるところの、特許
    請求の範囲第1項に記載の方法。 8、前記対物レンズからの前記光線が、前記光線を二つ
    の直交する光線に分離する光線分離キューブによって分
    離されるところの、特許請求の範囲第1項に記載の方法
    。 9、前記対物レンズからの前記光線が、放射線を電気信
    号に変換する時に異なった領域を正確に限定できる様に
    構成された検出装置の感受表面に受け取られ、前記検出
    装置はまず前記基準光線の全横断面に対応する第1領域
    において受け取られるエネルギー値Wfを測定するのに
    用いられ、次に、前記ダイアフラム作用を受ける前記光
    線の横断面に対応する相対的に小さな領域において受け
    取られるエネルギー値Woを測定するのに用いられると
    ころの、特許請求の範囲第1項に記載の方法。 10、前記相対的に小さな領域が前記第1領域に含まれ
    るほぼ円形状あるいは環状領域であるところの、特許請
    求の範囲第9項に記載の方法。
JP62019597A 1986-01-29 1987-01-29 非接触式表面凹凸の測定方法 Pending JPS62247203A (ja)

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DE3768531D1 (de) 1991-04-18
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