JPS62247067A - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイオンプレーティング装置の構造に関するもの
である。

〔従来の技術〕

近年イオンプレーティング方式による薄膜形成技術は、
従来の湿式メッキと比較して無公害であり、且つ湿式メ
ッキではメッキできない物質を被覆させる方法として注
目を集めており、あらゆる角度から期待をかけられてい
る技術である。

従来、一般のイオンプレーティング装置の蒸発源に蒸発
材料を供給する機構は、ルツボの斜め上方から、振動式
パーツフィーダのシュータ−を通して供給する方式か、
又は、−回処理する毎に真空室内を大気圧に戻して、作
業者が直接子で供給する方式のものであった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前記振動式パーツフィーダによる機構に於いては、パー
ツフィーダの容器に入る蒸発材料の量には限りがあり、
大量に繰返して供給する事は不可能という欠点があり、
一方、作業者が毎回手作業で供給する方式は、−回毎に
真空室内を大気にしなければならず、装置の稼動効率を
著しく低下させるという欠点を有していた。

又、従来のいずれの方法においても、一定の回数の蒸発
が終ると、真空室を大気圧に戻さなければならず、前記
蒸発材料の表面が窒化あるいは酸化等の反応を起し、次
に溶融しにく（なると（・う欠点も有していた。

本発明は、上記欠点を解決すべく、真空室内の水冷ルツ
ボに真空雰囲気の状態で、繰返し大量の蒸発材料を供給
する事を目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の要旨は、蒸発材料を供給する機構を有する真空
装置に於いて、中空円筒状の水冷ルツボと、蒸発材料を
搭載する回転台と、前記蒸発材料を繰返し上昇させる押
上げ機構とを有する事にある。

〔実施例〕

２　　　　以下本発明の実施例を図にもとすき詳述する
。

第１図は本発明によるイオンプレーティング装置の概略
断面図である。

１は真空室、２は被覆される基板、６は基板を保持する
陰極、４はイオン電極、５は中空陰極電子銃、６は蒸発
材料の入る水冷ルツボ、７は供給される蒸発材料、８は
押上げ軸、９は絶縁部を有する押上げ頭部であり、さら
に、１０は外周に歯車を有する回転台、１１は回転軸、
１２は駆動歯車である。又、１３は別の真空室との間の
仕切りバルブである。

本発明の構成と動作を詳述すると、押上げ軸８が最下位
置ａに有る状態に於いて、駆動歯車１２の回転駆動によ
り、回転台１０は回転軸１１を中心に自由に回転する事
が出来る。

回転台１０は、図に示されていないが、１ビ・Ｉチ角度
毎に、回転を抑止する機構を具備し、１ピリチロ０°の
角度に円柱状の蒸発材料７を載置した受部１０ａが６ケ
所設けられ、該受部１０ａには、押上げ軸８の押上げ頭
部９が通過し得る大きさの円形孔１０ｂを有している。

押上げ頭部９は、耐熱性を有するホウ素系の電気絶縁材
を用いである。

水冷ルツボ６の内径は円柱状の蒸発材料７が遊合する寸
法で、上方が若干量いたテーパー状に製作されており、
１°〜２°の斜面を有している中空円筒状となっている
。

準備の段階に於いて、水冷ルツボ６の直下に位置した受
部の下方から、押上げ頭部９が、図には示されていない
押上げ機構により上昇して行き、蒸発材料７（本実施例
ではチタン材）が、上方の水冷ルツボ６内に押上げられ
て行き、図に示す最上位置に迄押上げられてゆく。

次に、水冷ルツボ６の上方からスタート用蒸発材料７を
挿入し、真空室１内を真空雰囲気にして、中空陰極電子
銃５かもの電子によりスタート用蒸発材料７を溶融させ
る。こうして、水冷ルツボ開口部のスタート用蒸発材料
７と、その下の蒸発材料７とは溶融接合され一体となる
。

次の段階で溶融を停止して水冷ルツボ６および蒸発材料
７を冷却する。この状態で押上げ頭部９を最下位置ａ迄
降下させる。この時、水冷ルツボ６の内径がテーパー状
になっているため、冷却された蒸発材料７は水冷ルツボ
６内に掛止されて、押上げ頭部９と押上げ軸８とのみが
降下する事が出来る。次に、回転台１０を駆動歯車１２
により１ピツチ６０°回転させる。再び押上げ頭部９を
上昇させて、次にセットされた蒸発材料７が、水冷ルツ
ボ６内に丁でに掛止されている蒸発材料７に接する迄押
上げてゆ（。

さらに次の段階で、再び中空陰極電子銃５により蒸発材
料７を溶融させかつ蒸発させる。

基板６へのイオンプレーティングが１回終了すると、仕
切りバルブ１６が開いて、基板３は図示されていない搬
送機構により別の真空室へと搬出され、仕切りバルブ１
６が閉じた後、次にイオンプレーティングされる基板と
付は換えて、再び真空室１内に設置される。蒸発材料７
の溶融面の高さが常に一定になる様に、押上げ頭部９を
微量ずつ上昇させる。押上げ頭部９が最上位置すに上昇
する迄蒸発を繰返したならば、溶融を停止し、水冷ルツ
ボ６と蒸発材料７とを冷却し、押上げ頭部９を最下位置
ａ迄降下させ、回転台１０を駆動歯車１２により１ピツ
チ角度６０°回転させて再び押上げ頭部９を水冷ルツボ
６内に掛止された蒸発材料７と下から上昇させた蒸発材
料７との接する迄上昇させる。

こうして再び溶融を再開させる。

以上の動作を繰返す事により、蒸発材料７の溶融面は常
に一定に保たれる。

なお、回転台１０の１ピツチの角度は６０°以外の角度
でも実施は可能である。

〔発明の効果〕

以上に述べた如く、本発明によれば、真空雰囲気の中で
従来の方法に比べて、大量に連続して蒸発材料を供給す
る事が出来、真空装置を有効に稼動する事が出来、又、
蒸発材料の溶融面が窒化や酸化を起す事が極めて少ない
ために、蒸発材料が有効に使用出来る、等々その効果は
大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すイオンプレーティング
装置の断面図である。 ２・・・・・・基板、６・・・・・・水冷ルツボ、７・
・・・・・蒸発材料、９・・・・・・押上げ頭部、１０
・・・・・・回転台。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 蒸発源に蒸発材料を供給する機構を有する装置に於いて
   、中空円筒状の水冷ルツボと、前記水冷ルツボの下にあ
   って前記蒸発材料を複数ヶ搭載し得る回転台と、前記蒸
   発材料を繰返し前記水冷ルツボの中空部に上昇させる押
   上げ機構とを有する事を特徴とするイオンプレーティン
   グ装置。