JPS62238388A - 錫めつき浴用添加剤及び錫めつき方法 - Google Patents
錫めつき浴用添加剤及び錫めつき方法Info
- Publication number
- JPS62238388A JPS62238388A JP8309586A JP8309586A JPS62238388A JP S62238388 A JPS62238388 A JP S62238388A JP 8309586 A JP8309586 A JP 8309586A JP 8309586 A JP8309586 A JP 8309586A JP S62238388 A JPS62238388 A JP S62238388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tinning
- foaming
- tin
- plating
- bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 48
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 abstract description 27
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N (2E)-2-Tetradecenal Chemical compound CCCCCCCCCCC\C=C\C=O WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N 0.000 abstract description 7
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229940044654 phenolsulfonic acid Drugs 0.000 abstract description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical group CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 102100036092 Alpha-endosulfine Human genes 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000876352 Homo sapiens Alpha-endosulfine Proteins 0.000 description 1
- 101100342332 Mus musculus Klf16 gene Proteins 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L stannous sulfate Chemical compound [SnH2+2].[O-]S([O-])(=O)=O RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000375 tin(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は錫めっき浴用添加剤及び錫めっき方法に関する
。
。
金属物質への錫めっきは、工業的電気錫めっき浴として
、電解液の種類により 〔1〕アルカリ法、〔2〕フエ
ロスタン法、〔3〕ハロゲン法に分類される。
、電解液の種類により 〔1〕アルカリ法、〔2〕フエ
ロスタン法、〔3〕ハロゲン法に分類される。
これらのめっき法は特殊な例を除き、いずれも陽極に錫
陽極を用い、全屈物体を陰極として、直流電流を通電す
ることにより、浴中の錫イオンの補給は金属錫陽極の陽
極溶解によりめっきされている。
陽極を用い、全屈物体を陰極として、直流電流を通電す
ることにより、浴中の錫イオンの補給は金属錫陽極の陽
極溶解によりめっきされている。
代表的電気錫めっき・フェロスタン法は、アルカリ法乙
こ比較して電力依存性、温度依存性等に優れ、ハロゲン
法に比較して錫の有効利用性等に優れた特徴を存し、電
気錫めっき法として工業的に有用なことは良く知られて
いる。フェロスタン法に用いられる成分は、(1)硫酸
、フェノールスルホン酸等の酸成分、(2)可溶性錫塩
成分、及び(3)有機光沢剤成分より構成され、酸成分
、可溶性錫塩成分はもとより有機光沢剤成分は均質で、
平滑性、光沢性が((れ、かつ密着性の良好な錫めっき
を得るための必須成分である。有機光沢剤として、すで
に米国特許第2,457.152号に提案されているエ
トキシ化ナフトール〔1モルのナフトールと約3〜15
モルのエチレンオキイドとを反応させて得られる〕、特
公昭57−60435号で提案されているエトキシ化ナ
フトールスルホン酸〔1モルのナフトールと6〜7モル
のエチレンオキシドを付加反応させ、さらにスルホン化
してアニオン界面活性剤として得られる〕は、フェロス
タン法における有機光沢剤として有用な成分ということ
ができる。
こ比較して電力依存性、温度依存性等に優れ、ハロゲン
法に比較して錫の有効利用性等に優れた特徴を存し、電
気錫めっき法として工業的に有用なことは良く知られて
いる。フェロスタン法に用いられる成分は、(1)硫酸
、フェノールスルホン酸等の酸成分、(2)可溶性錫塩
成分、及び(3)有機光沢剤成分より構成され、酸成分
、可溶性錫塩成分はもとより有機光沢剤成分は均質で、
平滑性、光沢性が((れ、かつ密着性の良好な錫めっき
を得るための必須成分である。有機光沢剤として、すで
に米国特許第2,457.152号に提案されているエ
トキシ化ナフトール〔1モルのナフトールと約3〜15
モルのエチレンオキイドとを反応させて得られる〕、特
公昭57−60435号で提案されているエトキシ化ナ
フトールスルホン酸〔1モルのナフトールと6〜7モル
のエチレンオキシドを付加反応させ、さらにスルホン化
してアニオン界面活性剤として得られる〕は、フェロス
タン法における有機光沢剤として有用な成分ということ
ができる。
しかしながら、前記組成物は従来の錫めっき生産ライン
速度300m/分レヘルにおいて、優れためっき特性な
らびに操業上問題とはならない有機光沢剤に起因する発
泡レベルであったが、生産効率向上化で、例えば生産ラ
イン速度を360m/分レベルに上げることによる、(
1)被めっき鋼板の振動、(2)基準単位の電気分解に
ともなうガス発生量の増加等を主因とする有機光沢剤に
起因する発泡が、操業上、許容量をオーバーする現象が
見られる。
速度300m/分レヘルにおいて、優れためっき特性な
らびに操業上問題とはならない有機光沢剤に起因する発
泡レベルであったが、生産効率向上化で、例えば生産ラ
イン速度を360m/分レベルに上げることによる、(
1)被めっき鋼板の振動、(2)基準単位の電気分解に
ともなうガス発生量の増加等を主因とする有機光沢剤に
起因する発泡が、操業上、許容量をオーバーする現象が
見られる。
例えば、前述の米国特許第2,457.152号に記載
されているエトキシ化ナフトールの実用に供し得るエチ
レンオキシド付加体は1モルのナフl−−ルに6〜8モ
ルのエチレンオキシドであり、6モル未満では溶解性に
劣り、8モル以上では低速でも発泡する。
されているエトキシ化ナフトールの実用に供し得るエチ
レンオキシド付加体は1モルのナフl−−ルに6〜8モ
ルのエチレンオキシドであり、6モル未満では溶解性に
劣り、8モル以上では低速でも発泡する。
また、特公昭57−60435号に記載されている5〜
7モルのエトキシ化ナフトールスルホン酸においても、
期待する生産ライン速度において発泡トラブルがみられ
る。
7モルのエトキシ化ナフトールスルホン酸においても、
期待する生産ライン速度において発泡トラブルがみられ
る。
発泡による問題は、(1)高価なめつき液の持ち出しロ
ス、(2)さらには次工程浴への混入、(3)設備の腐
食、(4)排水への影響等があるため、均質で高速(3
60m/分〕生産においても、発泡トラブルのない、め
っき特性に対して、悪影響のない有機光沢剤が要求され
る。
ス、(2)さらには次工程浴への混入、(3)設備の腐
食、(4)排水への影響等があるため、均質で高速(3
60m/分〕生産においても、発泡トラブルのない、め
っき特性に対して、悪影響のない有機光沢剤が要求され
る。
本発明者等は、これらの問題点を解消すべく鋭意研究の
結果、本発明に到達したものである。即ち、本発明は、 (1)下記一般式で示される化合物からなる錫めつき浴
用添加剤、一般式、 CI+3 〔但し、一般式中、mは6〜8であり、nは0.5〜3
である。〕、および (2)硫酸あるいはフェノールスルホン酸を用いる酸性
用めっき浴に、温度20〜70℃で、少なくとも5A/
drrfの電流密度で通電し、鉄系材料に錫を電気めっ
きする方法において、めっき浴へ下記一般式で示される
化合物を添加することを特徴とする錫めっき方法を提供
するものである。
結果、本発明に到達したものである。即ち、本発明は、 (1)下記一般式で示される化合物からなる錫めつき浴
用添加剤、一般式、 CI+3 〔但し、一般式中、mは6〜8であり、nは0.5〜3
である。〕、および (2)硫酸あるいはフェノールスルホン酸を用いる酸性
用めっき浴に、温度20〜70℃で、少なくとも5A/
drrfの電流密度で通電し、鉄系材料に錫を電気めっ
きする方法において、めっき浴へ下記一般式で示される
化合物を添加することを特徴とする錫めっき方法を提供
するものである。
一般式、
H3
コ
〔但し、一般式中、mは6〜8であり、nは0.5〜3
である。〕 上記一般式で示される化合物はαナフトール初期エチレ
ンオキシド、末端プロピレンオキシド付加型非イオン性
界面活性剤であり、エチレンオキシド6〜8モル、およ
びブビレンオキシド0.5〜3モル付加体であって、硫
酸あるいはフェノールスルホン酸を用いる酸性用めっき
浴に添加し、20〜70°C温度条件下、少なくとも5
A / d rI(の電流密度で、鉄系材料に錫を電
気めっきする場合に用いる錫めっき浴用添加剤である。
である。〕 上記一般式で示される化合物はαナフトール初期エチレ
ンオキシド、末端プロピレンオキシド付加型非イオン性
界面活性剤であり、エチレンオキシド6〜8モル、およ
びブビレンオキシド0.5〜3モル付加体であって、硫
酸あるいはフェノールスルホン酸を用いる酸性用めっき
浴に添加し、20〜70°C温度条件下、少なくとも5
A / d rI(の電流密度で、鉄系材料に錫を電
気めっきする場合に用いる錫めっき浴用添加剤である。
また、前記一般式中mが6未満である場合、錫めっき浴
に安定に分散または溶解しない。mが8を超えると低発
泡性効果を発揮しない。さらにnが0.5未満である場
合、低発泡性効果を発揮することはできず、またnが3
を超えると錫めっき浴に安定に分散または溶解しない。
に安定に分散または溶解しない。mが8を超えると低発
泡性効果を発揮しない。さらにnが0.5未満である場
合、低発泡性効果を発揮することはできず、またnが3
を超えると錫めっき浴に安定に分散または溶解しない。
本発明方法において、使用するめっき浴用添加剤は、電
気錫めっき法において、均質で平滑性、光沢性が優れ、
かつ密着性の良好な錫めっきを得るための有機光沢剤で
あって、生産性の向上にともなう生産ライン速度の上界
に対して発泡に起因するトラブルの発生しない、低発泡
性、有機光沢剤組成物であることを特徴とするものであ
る。
気錫めっき法において、均質で平滑性、光沢性が優れ、
かつ密着性の良好な錫めっきを得るための有機光沢剤で
あって、生産性の向上にともなう生産ライン速度の上界
に対して発泡に起因するトラブルの発生しない、低発泡
性、有機光沢剤組成物であることを特徴とするものであ
る。
すなわち、硫酸またはフェノールスルホン酸を用いる酸
性錫めっき浴に添加し、優れた均質、分散、溶解性を保
持し、かつ高速錫めっきラインにおいても、優れた低発
泡性を発揮する。さらには均質で平滑性、光沢性、密着
性を発揮するものである。
性錫めっき浴に添加し、優れた均質、分散、溶解性を保
持し、かつ高速錫めっきラインにおいても、優れた低発
泡性を発揮する。さらには均質で平滑性、光沢性、密着
性を発揮するものである。
以下本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例1
表−1に示した錫めっき浴添加剤(1)〜(14)につ
いて、下記試験方法に基づき試験を行った。その結果を
表−2に示した。
いて、下記試験方法に基づき試験を行った。その結果を
表−2に示した。
〔1〕発泡性比較テスト
モデル錫めっき浴
硫酸第一錫 45g/βフェノー
ルスルホン酸〔硫酸換算)15g/I!添加剤
Log/Aを調整し、10Ldネス
ラー管に50戴採取する。
ルスルホン酸〔硫酸換算)15g/I!添加剤
Log/Aを調整し、10Ldネス
ラー管に50戴採取する。
50℃に60分間保持後、100回/30秒間、激しく
震とう後、静置して発生した泡減数を静置直後、及び静
置30秒後、測定し発泡性の比較を行った。
震とう後、静置して発生した泡減数を静置直後、及び静
置30秒後、測定し発泡性の比較を行った。
〔2〕溶解安定性比較テスト
前記〔1〕発泡性比較テストと同様の錫めっき浴モデル
を調整し、温度40℃の条件下、60分間保持した後、
溶解の状態を比較した。
を調整し、温度40℃の条件下、60分間保持した後、
溶解の状態を比較した。
◎; 極めて優れた溶解性を示す。
O: 良好な溶解性を示す。
Δ: 溶解性が劣り、実用に供し難い。
×: 極めて溶解性が劣り、実用に供し得ない。
(3)ハルセル比較テスト
鋼板テストピースをアルカリ脱脂剤にて電解脱脂し、水
洗後、硫酸にて表面調整し、再度水洗後、モデル錫めっ
きと同様のめっき浴を調整し、50℃、DC3Aの電流
下、40秒間、ハルセルテストを行い、水洗後、被めっ
き鋼板下端25鶴位の有効めっき中を測定した。
洗後、硫酸にて表面調整し、再度水洗後、モデル錫めっ
きと同様のめっき浴を調整し、50℃、DC3Aの電流
下、40秒間、ハルセルテストを行い、水洗後、被めっ
き鋼板下端25鶴位の有効めっき中を測定した。
表−2により明らかなように、本発明は優れた低発泡性
、溶解安定性、めっき性を示すのに対して比較品は、下
記の通りであることが確認された。
、溶解安定性、めっき性を示すのに対して比較品は、下
記の通りであることが確認された。
阻6〔エチレンオキシド付加のみ〕
低発泡性に劣る。
患7〔プロピレンオキシド付加のみ〕
溶解安定性に劣る。
患8〔エチレンオキシド5モル付加体〕溶解安定性に劣
る。
る。
患9〔エチレンオキシド9モル付加体〕低発泡性、めっ
き性に劣る。
き性に劣る。
患10〔末端プロピレンオキシド付加体範囲外〕低発泡
性に劣る。
性に劣る。
kll (末端プロピレンオキシド付加体範囲外〕低発
泡性、めっき性、溶解安定性に劣る。
泡性、めっき性、溶解安定性に劣る。
11h12OJ1期プロピレンオキシド付加体〕低発泡
性、溶解安定性に劣る。
性、溶解安定性に劣る。
患13(初期プロピレンオキシド付加体〕低発泡性、め
っき性に劣る。
っき性に劣る。
隘14(アニオン化αナフトールエトキシレート〕低発
泡性に劣る。
泡性に劣る。
実施例2
表−1に示した錫めっき浴添加剤中の本発明添加剤(1
1(21について実ラインにおいて、使用テストを実施
した。表−3には本発明の添加剤および従来の添加剤(
ENSA)を用いてめっきした時の条件を示した。なお
、実ラインテストに用いた原板は、アルミキルドタイプ
の熱間圧延された板厚2、 Ovr*のコイルを、冷間
圧延ラインにて0.24 m1llとした後、電解清浄
ラインにて脱脂を行い、バッチ焼鈍を行った後門質圧延
ラインにて約1.0%の延びを付与したものを準備した
。
1(21について実ラインにおいて、使用テストを実施
した。表−3には本発明の添加剤および従来の添加剤(
ENSA)を用いてめっきした時の条件を示した。なお
、実ラインテストに用いた原板は、アルミキルドタイプ
の熱間圧延された板厚2、 Ovr*のコイルを、冷間
圧延ラインにて0.24 m1llとした後、電解清浄
ラインにて脱脂を行い、バッチ焼鈍を行った後門質圧延
ラインにて約1.0%の延びを付与したものを準備した
。
−ト記県板を電気錫めっきラインにて錫めっきを行う前
段階として、濃度3〜7の苛性ソーダを主成分とした洗
剤中で板を陰極として電流密度10A / d rKで
0.5秒電解処理を行い、次いで濃度5〜10%の硫酸
中で、板を陰極として電流密度6゜5A/dmで0.5
秒電解処理を行った後、錫めっき部にて表−3に示した
本発明添加剤及び従来の添加剤を含んだめっき浴中にて
、360 m/minのラインスピードで電流密度25
A/amで0.5秒の断続電解を4回繰り返し、2.8
g/mの錫めっきを施した。
段階として、濃度3〜7の苛性ソーダを主成分とした洗
剤中で板を陰極として電流密度10A / d rKで
0.5秒電解処理を行い、次いで濃度5〜10%の硫酸
中で、板を陰極として電流密度6゜5A/dmで0.5
秒電解処理を行った後、錫めっき部にて表−3に示した
本発明添加剤及び従来の添加剤を含んだめっき浴中にて
、360 m/minのラインスピードで電流密度25
A/amで0.5秒の断続電解を4回繰り返し、2.8
g/mの錫めっきを施した。
その後、めっき後の板表面を水洗、乾燥し、抵抗加熱法
にて板表面にめっきした錫を熔融後、80℃水中で冷却
し鏡面光沢とした後、重クロム酸ソーダ30g/6を主
成分とした浴中にて、板を陰極として電流密度7.5
A / d mで0.5秒電解処理を施し、錫めっき表
面に約5〜7 N/ mの酸化クロムを付与し、水洗、
乾燥後、板表面に静電塗油方式にて通常ブリキに用いら
れるDO3を4〜5 mg / m塗油を行った。
にて板表面にめっきした錫を熔融後、80℃水中で冷却
し鏡面光沢とした後、重クロム酸ソーダ30g/6を主
成分とした浴中にて、板を陰極として電流密度7.5
A / d mで0.5秒電解処理を施し、錫めっき表
面に約5〜7 N/ mの酸化クロムを付与し、水洗、
乾燥後、板表面に静電塗油方式にて通常ブリキに用いら
れるDO3を4〜5 mg / m塗油を行った。
表−4に上述の条件でめっきを施した場合の、2泡発生
状況および錫めっき鋼板の表面特性を示した。
状況および錫めっき鋼板の表面特性を示した。
発泡状態の確認は上述の錫め、っきう・インにおける錫
めっき部の電解処理タンクにおいで、高速操業時発生ず
る泡の状態を肉眼観察を行い、発泡程度をゼI定した。
めっき部の電解処理タンクにおいで、高速操業時発生ず
る泡の状態を肉眼観察を行い、発泡程度をゼI定した。
この結果、ラインテスト例−(1)、 (2)ともに発
泡の程度は従来の添加剤を用いた時に比較して、大幅な
改善が認められた。
泡の程度は従来の添加剤を用いた時に比較して、大幅な
改善が認められた。
発泡性の他にめっき添加剤を変更することにより変化が
予想されるブリキの表面特性である半U1性(半田上昇
値、半田強度値)および耐食性(ATC値、ISV値、
TCV値、TC5値)について調査した結果、表−4よ
り明らかな通り、本発明における添加剤を使用しても、
表面特性には変化はなく、従来の添加剤を用いた時と同
程度の値が得られた。
予想されるブリキの表面特性である半U1性(半田上昇
値、半田強度値)および耐食性(ATC値、ISV値、
TCV値、TC5値)について調査した結果、表−4よ
り明らかな通り、本発明における添加剤を使用しても、
表面特性には変化はなく、従来の添加剤を用いた時と同
程度の値が得られた。
Claims (2)
- (1)下記一般式で示される化合物からなる錫めっき浴
用添加剤。 一般式、 O−(CH_2CH_2O)_m−(CH_2CHO)
−_nH 〔但し、一般式中、mは6〜8であり、nは0.5〜3
である。〕 - (2)硫酸あるいはフェノールスルホン酸を用いる酸性
錫めっき浴に、温度20〜70℃で、少なくとも5A/
dm^2の電流密度で通電し、鉄系材料に錫を電気めっ
きする方法において、めっき浴へ下記一般式で示される
化合物を添加することを特徴とする錫めっき方法。 一般式、 O−(CH_2CH_2O)_m−(CH_2CHO)
−_nH 〔但し、一般式中、mは6〜8であり、nは0.5〜3
である。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8309586A JPS62238388A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 錫めつき浴用添加剤及び錫めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8309586A JPS62238388A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 錫めつき浴用添加剤及び錫めつき方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62238388A true JPS62238388A (ja) | 1987-10-19 |
Family
ID=13792621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8309586A Pending JPS62238388A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 錫めつき浴用添加剤及び錫めつき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62238388A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59182986A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-17 | Keigo Obata | スズ、鉛及びすず−鉛合金メツキ浴 |
JPS61238993A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 電気メツキ浴用添加剤 |
-
1986
- 1986-04-09 JP JP8309586A patent/JPS62238388A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59182986A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-17 | Keigo Obata | スズ、鉛及びすず−鉛合金メツキ浴 |
JPS61238993A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 電気メツキ浴用添加剤 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5066531B2 (ja) | 高速錫めっき方法 | |
US2654701A (en) | Plating aluminum | |
KR102002442B1 (ko) | 주석과 주석 합금을 위한 개선된 플럭스 방법 | |
JPH052744B2 (ja) | ||
AU718314B2 (en) | Method for tin-plating and tin-plating bath having wide optimum current density range | |
US3616292A (en) | Alumated stannous sulfate solutions their preparation and their use in plating on conductive surfaces particularly on aluminum | |
JPS62238388A (ja) | 錫めつき浴用添加剤及び錫めつき方法 | |
US5282954A (en) | Alkoxylated diamine surfactants in high-speed tin plating | |
US2769774A (en) | Electrodeposition method | |
JPH05132747A (ja) | 溶融Znめつきクロム含有鋼板の製造方法 | |
US3647650A (en) | Method of treating tin plate or galvanized sheet | |
JPS59501829A (ja) | 電気銅メッキ液 | |
JP3466229B2 (ja) | 錫めっき方法 | |
JPH09176889A (ja) | 錫めっき浴および錫めっき方法 | |
JPS63162894A (ja) | リフロ−錫めつき材の製造方法 | |
JPS6024381A (ja) | 化成処理性の優れた片面めつき鋼板及びその製造法 | |
JP3526947B2 (ja) | アルカリ性亜鉛めっき | |
US2855348A (en) | Chromium plating | |
JPH07138782A (ja) | Sn−Bi合金めっき浴及び該めっき浴を用いためっき方法 | |
JPH0224918B2 (ja) | ||
JPH06346272A (ja) | 高電流密度による錫めっき用硫酸浴および錫めっき方法 | |
JPS5996292A (ja) | 片面電気メッキ鋼板の製造方法 | |
JPH073488A (ja) | 錫めっき硫酸浴および錫めっき方法 | |
KR100276314B1 (ko) | 표면 광택, 균일성 및 내식성이 우수한 전기 주석도금 강판의 제조방법 | |
JPS63161184A (ja) | リフロ−錫めつき材の製造方法 |