JPS62237306A - 表面形状測定装置 - Google Patents

表面形状測定装置

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JPS62237306A
JPS62237306A JP8185286A JP8185286A JPS62237306A JP S62237306 A JPS62237306 A JP S62237306A JP 8185286 A JP8185286 A JP 8185286A JP 8185286 A JP8185286 A JP 8185286A JP S62237306 A JPS62237306 A JP S62237306A
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康秀 中井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、半導係号ブストレートや磁気ディスク、光
ディスクなどの被測定物について、その表面の微細形状
を光学的に測定する表面形状測定装置に関する。
(従来の技術とその問題点) 半導体量ナブストレートや磁気ディスク、光ディスクな
どにおいては、その表面の微細形状(粗さの程度や疵の
有無)によって製品の品質が大ぎく左右されるため、ぞ
の表面を鏡面に近い程度にまで超精密加工するとともに
、加工後の表面形状を測定して品質管理を行なう必要が
ある。このような表面形状測定を光学的に非接触で行な
う装置は既に数多く提案されているが、そのうちの代表
的な方式のひとつに臨界角法による焦点エラー検出器く
以下rl−(IPO3Sjと呼ぶ。)を用いた方式があ
る。
このl−11PO8sは、たとえば「精密機械」51/
4号(1985年)第16頁以下に記載されている方式
であって、そのセンサヘッドの概略構成を第1図に示す
。同図において、この装置では、レーザダイオードによ
って構成された光源1からのレーザ光)−が、コリメー
タレンズ2によって平行光線とされ、偏光ビームスプリ
ッタ3で反射されて直線偏光となる。そして、このレー
ザ光りは、1/4波長板4と対物レンズ5とを通って被
測定面6上に集光される。そして、この被測定面6で反
射した光は、対物レンズ5と174波長板4とを再度通
って、偏光ビームスプリッタ3に再入射する。
ところが、この反射光は、1/4波長板4を2回通過し
ているために、その偏光方向は、偏光ビームスプリッタ
3で反射された直後の入射レーザ光1−の偏光方向に対
して90”回転したものとなっている。このため、この
反射光は図中Rで示すように偏光ビームスプリッタ3を
直進して通過し、ハーフミラ−7で2分割され−(,2
つの臨界角プリズムE3,9にそれぞれ入則り−る。こ
れらの臨界角プリズム8.9の両側面8a、8b:9a
、9bは、それぞれに入射する反射光R,R2が平行光
束とイgっCいるとき、換言づれば被測定面6と対物レ
ンズ6どの間の距離Xが対物レンズ5の焦点距11fと
一致する状態のときに、反射光R1゜R2がこれらの面
8Q、8b:9a、9bへ入射する入射角が全反射臨界
角となるような角度配置となっている。
したがってx=fのときには、反射光[く1は臨界角プ
リズム8の中で全反射されて、互いに隣接して配置され
た2つの光検出器10a、10b(たとえばフォトダイ
オード)に入射する。この2つの光検出器10a、10
bは同一の受光面積を右しているため、上記のような経
路で反射光R1がこれらに入射した場合には、それぞれ
の光検出出力△、Bの間にΔ=Bの関係が成立する。ま
た、他方の臨界角プリズム9についても同様であって、
上記x=fの条件ドでは、2つの光検出器11a、11
bのそれぞれの光検出出力C,Dの間に、C=Dの関係
が成立する。
一方、被測定面6の凹凸などによってx<fとなると、
第2図に示すように反射光Rは発数光束となるため、第
3図に示すように、臨界プリズム8の端部8aにおいて
、破線で示す反射光R1のうちの一方の端部付近く図で
は左側部12)の光がこの臨界角プリズム8の臨界角を
越えた入射角となってしまい、それによって、この部分
12は全反則されずにプリズム外に出てしまう。逆に、
他方の端部(図では右側部13)では、入射角が臨界角
以下となるため、この部分の光は全反射されてプリズム
内にとどまる。そして、これと同様の現象が他方の端面
8bでも発生するため、結局、一方の光検出Z 10 
aへの入射光51は減少し、他方の光検出器10bへの
入射光量は増大する。このため、これらの出力A、Bに
ついて、A<Bとなる。また、第1図の他方の臨界角プ
リズム9でも同様の現象が生じて、CODとなる。
これに対して、x>fとなると、反射光Rは収束光束と
41す、上記と逆の現象が生じるため、Δ>L3.C>
Dどなる。したがって、これらの検出出力△・〜・Dか
ら、焦点エラー出力として、V== (A−13トc−
D)/ (A+B+C十D)・・・(1) を求めれば、 ■ x<f’のとさ、V<Ol ■ X・・[のとき、v=O1 ■ x > (’のとぎ、■〉0、 どなる。また、このデータVの絶対1flによってXど
[とのずれの絶対値l x −f’ lがわかることに
なる。ただし、上述のように臨界角プリズムを2組使用
しているのは、被測定面の傾斜を光学的にキトンセルさ
Uるためであり、(1)式の右辺に(Δ−IB−1− 
C十〇 )の除のが入っているのは被81!1定而の及
銅Vヤ)光源の不安定°D ;lj、を光学的に1−t
・ンセルさUるためである。したがって、原理的には、
臨界角プリズムは1 fllll C″もよい。
どころが、このようなHIPO3Sは、測定悪魔す旬’
nい=・方で、その高感度測定域が狭いという性質を有
している。第4図はこのような状況を示す特性図であり
、横軸は合焦点位置をOとしたときの被測定面とHI 
PO35との相対変位ΔXを示し、縦軸は)−11PO
35の検出出力Vを示す。
また、第5図はその部分拡大図である。これらの図から
れかるように、合焦点位置(ΔX、V)=(0,0)(
1近□で検出出力がほぼ線形に変化する高感度測定h+
iGは±1μm程度であって、これ以上の相対変位が生
ずると測定誤差は大きなものとなる。
このため、このようなHI PO35をそのまま用いた
従来の装置では、被測定面に±1μm程度以上のうねり
や傾きが存在すると、HI PO35による高感度形状
測定が困難であるという問題があった。
(発明の目的) この発明は従来技術における上述の問題の克服を意図し
ており、HIPO8Sを使用し、かつその高感度測定域
を実質的に拡大することができ、それによって、傾きや
うねりを持った被測定物の表面形状をも高感度で測定す
ることができる表面形状測定装置iを提供づることを目
的とする。
(「1的を達成するための手段) 上述の目的を達成づ゛るため、この発明にかかる表面形
状測定装置では、I」lPO35の検出出力が、当該1
−11PO3Sの高感度測定域に応じた所定の検出レン
ジ内に入っているか否かを判定する判定手段と、この判
定手段の判定出力に応答して、上記検出出力が上記所定
の検出出力域から逸脱した際に、被測定物とHIPO8
Sの光学系とを相対的に移動させて、被測定物の表面と
1−11PO8Sの受光系との間の相対距離を、上記検
出出力が上記所定の検出レンジ内に入る方向へと変化さ
せる移動機構とを設けている。
このため、Ht possの検出出力に基くフィードバ
ックループが形成され、被測定物の表面とHIPO8S
の光学系との間の距離は、常に11感度測定域に応じた
検出レンジ内の距離となる。また、望ましくは、HIP
O8Sの検出出力から求まる測定データを、上記、移動
機構による上記相対距離の変化量に応じて補正し、それ
によって測定データの連続化を行なう。
(実施例) △、実施例の構成 第6図は、この発明の一実施例である表面形状測定装置
の構成を示す概略図である。同図において、被測定物と
して半導体サブストレート20は、ワーク移動機構22
の固定台23上に設けられて図示のY方向(水平方向)
に並進移動可能なワーク移動台24上に載置されている
。このワーク移動台24の上記Y方向の移動は、固定台
23内に設けられたモータM1および送りねじ〈図示せ
ず)の作動によって達成され、このモータM1の駆動は
、たとえばデスクトップ型のコンピュータ44からワー
ク移動台制御装置43を通じて与えられる駆11iJ+
指令値101に基いて行なわれる。
一方、このワーク移1PIJ機構22の上方には、HI
 PO35の光学系としてのセンサヘッド25が配置さ
れており、このセンサヘッド25は、既述した内部構成
(第1図)を有している。また、このセンサヘッド25
は、固定コラム27上で図示のX方向く垂直方向)に移
動可能な移動コラム26に取(1けられている。そして
、このセンサヘッド25は、モータM2と送りねじ(図
示せず)との作動によって、移動コラム26とともに上
記X方向に移動する。
この構成において、上記モータM2としてパルスモータ
等を用い、また送りねじとして送りビッヂの小さなもの
を用いることによって、このX方向の移すJGよ、たと
えば1パルスにつき3nmずつ移動する形で行なわれる
。したがって、これらによって構成されるセンサヘッド
移動機構30は、センサヘッド25を極めて微細に上下
移動させることのできる微!I!lJN能を有している
ことになる。なお、このモータM2は、コンピュータ4
4からセン勺ヘッド移動機構コントローラ42を通して
与えられる駆動指令値102に基いて駆動されるように
なっている。また、このモータM2にはエン二】−ダE
が取f寸けられており、これからのエン二1−ド出力1
03にJ:って、モータM2の回転角くしたがってセン
サヘッド25の移動量〉を知ることができる。
他方、センサヘッド25の出力A−DはHIPO8S信
号処理装置41に与えられる。このH[I) OS S
信号処理装置41は後述する構成(第7図)を有してお
り、センサヘッド25からの入力A−Dを処理すること
によって、サブストレート表面21どセンサヘッド25
との相対距111xの、合焦煮汁l111fからの変位
を表現するデータΔX(=x−f’)をコンピュータ4
4に出力する。またこのl−11P OS S信号処理
装置41は、(1)式によって求まるセンサヘッド25
の焦点エラー出力としての検出出力Vを演算するととも
に、それが1−1[、PO35の高感度測定域Gに応じ
た検出レンジQ(第5図〉内にあるかどうかを判定し、
検出出力■が当該検出レンジQを逸脱したときには割込
み信号INTをコンピュータ44へ出力する機能を有し
ている。
そこで、以下では、この装置の動作を第8図のフローチ
tl−トを参照しつつ説明する。まず、サブストレー1
−20をマニュアルで移動台24上にヒラ1〜した後、
コンピュータ4/Iに起動指令を与える(ステップS1
,2)。そして、センサヘッド2りの]・方にリブスト
レー1へ表面21の一端の位置を合わせる(ステップS
3)。この位置合ねヒは、リブストレート表面21の一
端の位置をコンビ」−全44内にあらかじめ記憶してお
き、それに応じて移動台24を所定距離だけ移動さける
か、または固定台23にリミットスイッチ(図示せず)
を設4J 、これによって移動台24を停止・位置決め
することによって行なうことができる。
次に、ヒンサヘッド移vJ機構30の移動コラム26を
下方へ移動させることによって、センリーヘッド25を
サブストレー1−表面21に近づ(プ、これらの間の相
対距離が合焦点距離[ど/−、るような基準位置にセン
ナヘッド25の高さを調整する(ステップS4)。これ
は、たとえば、センナヘッド25からの検出出力をモニ
タしつつ、この検出出力が(十)側からO[V]になる
位置(+O)を検知し、その後、センサヘッド25を一
度停止させた後に所定距離だけ移動させ、さらに、セン
リーヘッド25の検出出力が0[v]になるようにフィ
ードバッグ制御させればよい。
そして、次のステップS5でサブストレート20のY方
向の移動を開始し、センサヘッド25からの検出信号を
第6図のHI PO35信号処理装置/11に取込む。
このHI PO35信号処理装置/11では、第7図の
Py4算器51によって、(1)式の演停を行ない、検
出信号A〜Dから検出出力Vを求める。この検出出力■
は同図の△/Dコンバータ52でデジタル化された侵、
演算器53と比較器54に与えられる。このうち、演算
器53では、第4図ないしは第5図の特性に応じて、検
出出力■から変位ΔXを演算して求め、コンピュータ4
4へ出力する。この演算器53はルックアップテーブル
方式のメモリであってらよい。
一方、比較器54には、第3図の高感度検出域Gに応じ
て設定された検出レンジQ(たとえば高感度検出域Gの
80%に相当するレンジ)を規定するしきい1直V31
1が他方の入力として与えられている。喧こがって、こ
のしきい値Vr++は、たとえば第5図の高感度ViG
に対応する出力範囲Uが(−1)−(4−1)[V]で
あ8ときには、v[1[−O,8[V]とすることがで
きる。そして、この比較器54は、V>V3Hマフ;l
:4.EV<  V311(7)トき、りなわら検出出
力■が上記検出レンジQを逸1悦したときに、コンピュ
ータ55に割込み信号IN1を!jえるようになってい
る。
この、にうな比較の結果、検出出力Vが検出レンジQ内
であると判断された場合には第8図のステップS6から
87へ移り、コンピュータ44が検出出力ΔXを記憶づ
゛る。そして、サブストレート25のill端に至るま
で上記処理を繰返ず(ステップ583)。
一方、第8図のステップS6で、検出出力が検出レンジ
Qを逸脱したものと判断されると割込信81N「が与え
られ、ステップS9へ移って、コンビ1−り44は割込
状態どなる。そして、着ナブストレ−1・25の移動を
いったん中断しくステップ510)、IIIPO8sの
検出出力ΔXとサブストレート25の移動距離yとをコ
ンピュータ25が記憶する(ステップ511)。
そして、ΔXの符号によって、センサヘッド25とサブ
ストレート表面21との相対距離が検出レンジQに対し
て大きくなり過ぎているのか、それとも小さくなり過ぎ
ているのかを判断し、それに応じてセンサヘッド25を
X方向に移動させて、上記相対外l111xを合焦点距
離fに一致させる(ステップ512)。もつとも、この
動作は、合焦煮汁tJ1 fに完全に一致させることは
必須ではなく、原理的には、検出レンジQ内に入るよう
に移動させればよい。
そして、このようにして移動させた移動ff1Mを、第
6図のエンコーダEからのエンコード信号103などに
基いて求め、これを記憶しておく(ステップ513)。
その後、サブストレート25の移動を再1jflL(ス
テップ514)、上述したステップS8へ移る。
このような動作を繰返してサブストレート表面21の他
端までの測定が完了すると、移動コラム26を1一方へ
移して、センサヘッド25を退避ざV(スーjツブ51
5)、ワーク移動機構22を初I11位置へ戻しくステ
ップ516)、マニュアルでリブストレート20を取り
はずして(ステップ517)データ取込みルーチンを終
わる。
第9図は、このようにして得られた測定データをそのま
ま記録計45に与えて記録させた例を示すデータデヤー
ドであって、同図(a)の後に同図(b)が続くように
なっている。この図かられかるように、この装置におい
ては、サブストレート表面21の傾きなどによって変位
が検出レンジQから逸脱する状態になると、センサヘッ
ド25の移動(矢印Tで示す。)が起こり、センサヘッ
ド25とリプストレート表面21との相対距離を高感度
測定域へと変化させていることがわかる。したがって、
うねりや傾きの大きな被測定物表面についてし、その表
面形状を正確に求めることができ、高感度測定域が実質
的に拡大する。
ところで、第9図に示した測定結果では、センナヘッド
25が移動した時点を境界として、その前後の測定値が
不連続となる。したがって、被測定面全体の形状を大域
的に見ようとする場合には、センサヘッド25の移動後
の測定データを補正することによって、測定曲線を連続
化することが望ましい。
そこで、この実施例では、このような補正を行なうが、
その場合の形状演算ルーチンを第10図に示す。同図に
おいて、まず、第8図のデータ取込みルーチンで取込ま
れたデータΔx、yをコンピュータ44内のメモリまた
は外部記憶装置から読出す(ステップ520)。そして
i回目のセンサヘッド25の移動に伴う移動岳をMiと
し、i回目の移動後の測定データΔXをサブストレート
25のY方向の移動ff1yの関数としてfH(y)と
したとぎ、 F(y)=f・ (y)+ΣM・   ・・・(2)を
工1算する〈ステップ521)。これによって、センサ
ヘッド25の移動に伴う補正が行なわれることになる。
そして、このF (y)から回帰直線を求め(ステップ
822)、それをF (y)から差引いて表面形状を得
る(ステップ523)。これを記録計45に出力すれば
(ステップ824)、被測定面の傾き等を補正した測定
データが得らることになる。
なお、上記実施例では、センサヘッド移動機構30をパ
ルス七−7M、と送りねじによって構成したが、たとえ
ば第11図に示すような機構を用いてもよい。この第1
1図の機構は、シ12フト60の周囲に、クランプ部6
1.63と伸縮部62どからなるピエゾ索子64を配設
し、同図に示すように、各部分への電圧印加を個別に行
なうことにより、 ■ クランプ部63によるシャフト60のクランプ(I
iJ1図(b)) ■ 伸縮部62のX方向への伸長(同図(C))■ ク
ランプ部61によるクランプ(同図(d))■ クラン
プ部63の解放(同図(e))■ 伸縮部62のX方向
への収縮(同図(r))■ クランプ部63によるクラ
ンプ(同図(g))■ クランプ部61の解放(同図(
h))を繰返す。このようにして、ピエゾ素子64は図
の上方へ微小距離(たとえば1.2μTrL)ずつ微動
することになる。このため第11図(a)のように、ピ
エゾ素子64にセンサヘッド25を取付けることににっ
て、このセンサヘッド25の移動機構として用いること
ができる。図の下方へ移動させるときには上記■〜■を
逆の順序で繰返せばよい。
またHIPO8Sの光学系と被測定面とは相対的に移動
゛Cきればよく、被測定物の方をX方向に移動させる機
構を用いてもよい。
(発明の効果) 以上説明したように、この発明によれば、被測定面とH
IPO3Sの光学系との間の相対距離が、常にト1 [
PO35の高感度測定域に入るようになる!こめ、l−
1fPO3Sを用いた表面形状測定装置において、実質
的に高感度測定域を拡大することができ、それによって
、傾きやうねりのある被測定物の表面形状測定をも高感
度で行なうことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明に使用されるHID)083の受光
部の構造例を示ず図、 第2図Jj ヨU第3図は、)−11P OS Sの原
理説明図、 第4図は、l−I I P OS Sの特性図、第5図
は、第4図の部分拡大図、 第6図は、この発明の実施例の構成の概略図、第7図は
、NlPO35信号処理装置の内部構成図、 第8図は、実施例のデータ取込動作を示づフローヂャ−
1・、 第9図は、実施例の測定結果例を示ずデータブヤーi〜
、 第10図は、データ補正を行なった場合の形状J1算動
作を示すフローf−p −1へ、第11図は、ゼンIナ
ヘッドとリブストレート表面との相対的移th FM構
の他の構成例を示ず図である。 1・・・光諒、     8,9・・・臨界角プリズム
、20・・・リアス1−レート、25・・・セン勺ヘッ
ド、30・・・センサヘッド移fjl 機構、41・・
・l」rPO8s信号処理装置44・・・コンピュータ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)臨界角法による焦点エラー検出器を用いて、被測
    定物の表面の形状を測定する表面形状測定装置であって
    、 前記焦点エラー検出器の検出出力が、当該焦点エラー検
    出器の高感度測定域に応じた所定の検出レンジ内に入っ
    ているか否かを判定する判定手段と、 前記判定手段の判定出力に応答して、前記検出出力が前
    記所定の検出レンジから逸脱した際に、前記被測定物と
    前記焦点エラー検出器の光学系とを相対的に移動させて
    、前記被測定物の表面と前記光学系との相対距離を、前
    記検出出力が前記所定の検出レンジ内に入る方向へと変
    化させる移動機構とを備えることを特徴とする表面形状
    測定装置。
  2. (2)前記表面形状測定装置は、前記検出出力から求ま
    る測定データを、前記移動機構による前記相対距離の変
    化量に応じて補正する補正手段をさらに備える、特許請
    求の範囲第1項記載の表面形状測定装置。
JP61081852A 1986-04-08 1986-04-08 表面形状測定装置 Expired - Lifetime JPH0792368B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015078982A (ja) * 2013-10-11 2015-04-23 株式会社ミツトヨ マシンビジョン検査システムにおいてトラッキングオートフォーカス(taf)センサを制御するシステム及び方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58122410A (ja) * 1982-01-13 1983-07-21 Fujitsu Ltd 表面形状測定方法
JPS60122913A (ja) * 1983-12-08 1985-07-01 Olympus Optical Co Ltd 焦点検出光学系

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58122410A (ja) * 1982-01-13 1983-07-21 Fujitsu Ltd 表面形状測定方法
JPS60122913A (ja) * 1983-12-08 1985-07-01 Olympus Optical Co Ltd 焦点検出光学系

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015078982A (ja) * 2013-10-11 2015-04-23 株式会社ミツトヨ マシンビジョン検査システムにおいてトラッキングオートフォーカス(taf)センサを制御するシステム及び方法

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