JPH0543243B2 - - Google Patents

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JPH0543243B2
JPH0543243B2 JP61106357A JP10635786A JPH0543243B2 JP H0543243 B2 JPH0543243 B2 JP H0543243B2 JP 61106357 A JP61106357 A JP 61106357A JP 10635786 A JP10635786 A JP 10635786A JP H0543243 B2 JPH0543243 B2 JP H0543243B2
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Japan
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shape
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JP61106357A
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Inventor
Yasuhide Nakai
Hideji Miki
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62261916A publication Critical patent/JPS62261916A/ja
Publication of JPH0543243B2 publication Critical patent/JPH0543243B2/ja
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  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、支持体によつて支持された被測定
物(たとえば磁気デイスク)と所定の形状検出セ
ンサ(たとえば光学方式のセンサ)とを相対的に
並進させることによつて被測定物表面を順次走査
し、上記形状検出センサの検出出力に基いて被測
定物表面の形状を測定する表面形状測定装置に関
する。
(従来の技術とその問題点) 半導体サブストレートや磁気デイスク、光デイ
スクなどにおいては、その表面の微細形状(粗さ
の程度や疵の有無)によつて製品の品質が大きく
左右されるため、その表面を鏡面に近い程度にま
で超精密加工するとともに、加工後の表面形状を
測定して品質管理を行なう必要がある。このよう
な表面形状測定を光学的に非接触で行なう装置は
既に数多く提案されているが、そのうちの代表的
な方式のひとつに臨界角法による焦点エラー検出
器(以下「HIPOSS」と呼ぶ。)を用いた方式が
ある。
このHIPOSSは、たとえば「精密機械」51/4
号(1985年)第16頁以下に記載されている方式で
あつて、その具体的構成と動作は後述するが、こ
の方式は非常な高感度で表面形状測定を行なうこ
とができるという特徴がある。ところが、この
HIPOSSでは、そのセンサヘツドと被測定面との
間の距離xと、センサヘツドに内蔵されているレ
ンズの焦点距離fとが一致する点の近傍(±1μ
m程度)のみで高感度であり、上記距離がこの範
囲を逸脱すると感度が低下するという性質を有す
る。
一方、たとえば被測定物としてのデイスクをデ
イスクチヤツキング機構等の支持体で支持し、こ
のデイスク表面とHIPOSSのセンサヘツドとを相
対的に並進させつつデイスク表面を順次走査する
場合において、支持体へのデイスクの取付け誤差
やデイスクの自重によるたわみがこのデイスクに
発生すると、デイスク表面が上記並進方向に対し
て平行にならず、並進方向に対して傾きを持つた
位置関係となる。したがつて、上記並進を行なう
につれてHIPOSSのセンサヘツドとデイスク表面
との距離は次第に変化し、ついには上記高感度域
を逸脱してしまうことになる。
ところで、このような被測定物の傾き補正機構
としては、従来、第16図に示すようなものが知
られている。この第16図に示す装置は、テーブ
ル101上に設けられたデイスク支持機構102
によつてデイスク103を支持し、このデイスク
103の表面を触針104で図のP方向に走査
(トレース)することによつてその表面形状(粗
さ)を測定する触針式表面粗さ計である。周知の
ように、このような触針式粗さ計では、上記トレ
ースによつて生ずる触針104の上下動を増幅し
て表面形状の測定を行なうが、デイスク103の
傾きを補正するために、テーブル101の脚10
5,106のうちの一方の脚106を、このテー
ブル101内に螺合するネジ杆107を持つたネ
ジ脚として形成する。そして、測定出力をモニタ
しつつ、このネジ杆107に固定されたネジ輪1
08を手動で回転させることによつてテーブル1
01の右端を図のH方向に上下させ、それによつ
てテーブル101の傾きを調整してデイスク10
3の表面を水平に保つように構成されている。
ところが、このような傾き補正機構では、傾き
調整を手動で行なうために、デイスク103を交
換するごとに傾き調整作業を繰返して行なわねば
ならない。このため、このような機構を使用した
場合には、HIPOSSなどの非接触方式や触針式な
どの接触方式のいずれにおいても、傾き調整に多
大の労力を要するという問題がある。そして、こ
のような作業の繰返しが必要とされるために、表
面形状測定を自動的かつ短時間で行なうことが困
難であるという問題がある。
(発明の目的) この発明は、従来技術における上述の問題の克
服を意図しており、並進走査によつて被測定物表
面の表面形状測定を行なうにあたつて、走査方向
に対する被測定物表面の傾き調整を短時間で、か
つ自動的に行なうことのできる表面形状測定装置
を提供することを目的とする。
(目的を達成するための手段) 上述の目的を達成するため、この発明における
表面形状測定装置は、支持体によつて支持された
被測定物と所定の形状検出センサとを相対的に並
進させることによつて前記被測定物表面を順次走
査し、前記形状検出センサの検出出力に基いて前
記被測定物表面の形状を測定する表面形状測定装
置であつて、前記並進方向と前記被測定物の被
測定表面との間の角度関係を検出する角度関係検
出手段と、前記角度関係検出手段の検出出力に
応答して前記指示体の傾き角度を自動調整し、そ
れによつて前記被測定表面と前記並進方向とを所
定の程度にまで平行とする角度調整手段とを設
け、前記形状検出センサは、臨界角法による焦点
エラー検出器のセンサヘツドであつて、前記角度
関係検出手段は、前記臨界角法による焦点エラー
検出器のセンサヘツドに固定的に取り付けられた
複数の距離センサを有し、当該複数の距離センサ
は、前記被測定面上の各端部付近の位置のそれぞ
れに、同時に対向し得る位置にあつて、かつ前記
並進の方向に対して平行な面上に配置され、前記
複数の距離センサは、前記並進を行うことにより
前記各端部付近の位置に対向したときに、当該各
位置との距離をそれぞれ検出し、前記角度関係の
検出は、前記複数の距離センサのそれぞれの検出
出力の差と前記複数の距離センサの相互の間の所
定の間隔とから、演算を実行して行われ、前記角
度調整手段は、前記支持体を圧電素子の伸縮によ
つて傾き調整する手段であつて、前記角度調整手
段によつて前記角度関係を前記所定の程度にまで
平行とした状態で前記被測定表面の表面形状を測
定することを特徴とする。
(実施例) A 実施例の構成の概略 第1図は、この発明の一実施例である表面形
状測定装置の構成を示す概略図である。同図に
おいて、ワーク移動機構2の固定台3上に設け
られて図示のY方向(水平方向)に並進移動可
能なワーク移動台4上に、被測定物としてのデ
イスク1(磁気デイスク原盤等)が、載置され
ている。このワーク移動台4は後述する構造を
有しており、そのY方向の移動は、モータM1
および送りねじ(図示せず)の作動によつて達
成される。このモータM1の作動は、たとえば
デスクトツプ型のコンピユータ19からワーク
移動台制御装置18を通じて与えられる駆動指
令値S1に基いて行なわれる。
一方、このワーク移動機構2の上方には、
HIPOSSのセンサヘツド10が配置されてお
り、このセンサヘツド10は、後述する内部構
成(第2図)を有している。また、このセンサ
ヘツド10は、固定台11上で図示のX方向
(垂直方向)に移動可能な移動台12に取付け
られている。そして、このセンサヘツド10
は、モータM2と送りねじ(図示せず)との作
動によつて、移動台12とともに上記X方向に
移動する。
この構成において、上記モータM2としてパ
ルスモータ等を用い、また送りねじとして送り
ピツチの小さなものを用いることによつて、こ
のX方向の移動は、たとえば1パルスにつき
8nmずつ移動する形で行なわれる。したがつ
て、これらによつて構成されるセンサヘツド移
動機構20は、センサヘツド10を極めて微細
に上下移動させることのできる微動機能を有し
ていることになる。なお、このモータM2はコ
ンピユータ19からセンサヘツド移動機構コン
トローラ16を通して与えられる駆動指令値S2
に基いて駆動されるようになつている。
さらに、センサヘツド10の下面両端付近に
は、互いに所定の間隔を隔てて2個のエデイカ
レントセンサ13a,13bが設けられてい
る。このエデイカレントセンサ13a,13b
は、デイスク1の被測定面14のうち、それぞ
れのエデイカレントセンサ13a,13bの直
下にある部分とセンサヘツド10との間の距離
La、Lb(後述する第7図)を検出する距離検出
センサとして機能する。また、これらのエデイ
カレントセンサ13a,13bの間の相互距離
は、デイスク1の内周エツジ24a(第7図)
と外周エツジ24bとの間の距離よりも若干短
かい程度のものとしておく。なお、この実施例
では、デイスク1の表面のうち、図示の右半面
(第7図の内周エツジ24aから外周エツジ2
4bまでの区間)のみについて形状測定する場
合を考えるが、左半面についても以下の説明と
同様の測定を行なうことができる。
一方、HIPOSS信号処理装置15は、センサ
ヘツド10からの形状検出出力A〜D(後述す
る。)を処理して、検出出力Δxをコンピユータ
19に与えるためのものであり、その詳細は後
述する。また、記録計21は、測定出力を記録
するためのものである。さらに、PZT制御回
路17は、コンピユータ19からの出力に応答
して、移動台4内に後述する態様で設けられて
いる圧電素子(PZT)に電圧を印加し、この
PZTの伸縮を制御するために用いられる。
B HIPOSSセンサヘツド10の構成と特性 次にHIPOSSセンサヘツド10の構成と特性
とを説明する。第2図は、このセンサヘツド1
0の内部構成を示す図である。同図において、
このセンサヘツド10では、レーザダイオード
によつて構成された光源31からのレーザ光L
が、コリメータレンズ32によつて平行光線と
され、偏光ビームスプリツタ33で反射されて
直線偏光となる。そして、このレーザ光Lは、
1/4波長板34と対物レンズ35とを通つてデ
イスク1の被測定面14上に集光される。そし
て、この被測定面14で反射し光は、対物レン
ズ35と1/4波長板34とを再度通つて、偏光
ビームスプリツタ33に再入射する。
ところが、この反射光は、1/4波長板34を
2回通過しているために、その偏光方向は、偏
光ビームスプリツタ33で反射された直後の入
射レーザ光Lの偏光方向に対して90°回転した
ものとなつている。このため、この反射光は図
中Rで示すように偏光ビームスプリツタ33を
直進して通過し、ハーフミラー37で2分割さ
れて、2つの臨界角プリズム38,39にそれ
ぞれ入射する。これらの臨界角プリズム38,
39の両側面38a,38b;39a,39b
は、それぞれに入射する反射光R1、R2が平行
光束となつているとき、換言すれば被測定面1
4と対物レンズ36との間の距離xが対物レン
ズ35の焦点距離fと一致する状態のときに、
反射光R1、R2がこれらの面38a,38b;
39a,39bへの入射する入射角が全反射臨
界角となるような角度配置となつている。
したがつてx=fのときには、反射光R1
臨界角プリズム38の中で全反射されて、互い
に隣接して配設された2つの光検出器40a,
40b(フオトダイオード)に入射する。この
2つの光検出器40a,40bは同一の受光面
積を有しているため、上記のような経路で反射
光R1がこれらに入射した場合には、それぞれ
の光検出出力A,Bの間にA=Bの関係が成立
する。また、他方の臨界角プリズム39につい
ても同様であつて、上記x=fの条件下では、
2つの光検出器41a,41bのそれぞれの光
検出出力C,Dの間に、C=Dの関係が成立す
る。
一方、被測定面14の凹凸などによつてx<
fとなると、第3図に示すように反射光Rは発
散光束となるため、第4図に示すように臨界角
プリズム38の端面38aにおいて、破線で示
す反射光R1のうちの一方の端部付近(図では
左側部42)の光がこの臨界角プリズム38の
臨界角を越えた入射角となつてしまい、それに
よつて、この部分42は全反射されずにプリズ
ム外に出てしまう。逆に、他方の端部(図では
右側部43)では、入射角が臨界角以下となる
ため、この部分の光は全反射されてプリズム内
にとどまる。そして、これと同様の現象が他方
の端面38bでも発生するため、結局、一方の
光検出器40aへの入射光量は減少し、他方の
光検出器40bへの入射光量は増大する。この
ため、これらの出力A、Bについて、A<Bと
なる。また、第2図の他方の臨界角プリズム3
9でも同様の現象が生じて、C<Dとなる。
これに対して、x>fとなると、反射光Rは
収束光束となり、上記と逆の現象が生じるた
め、A>B、C>Dとなる。したがつて、これ
らの検出出力A〜Dから、焦点エラー出力とし
て、 V=(A−B+C−D)/(A+B+C+D)
……(1) を求めれば、 x<fのとき、V<0、 x=fのとき、V=0、 x>fのとき、V>0、 となる。また、このデータVの絶対値によつて
xとfとのずれの絶対値|x−f|がわかるこ
とになる。ただし、上述のように臨界角プリズ
ムを2組使用しているのは、被測定面の傾斜を
光学的にキヤンセルさせるためであり、(1)式の
右辺に(A+B+C+D)の除算が入つている
のは被測定面の反射率や光源の不安定要素を光
学的にキヤンセルさせるためである。したがつ
て、原理的には、臨界角プリズムは1個でもよ
い。
ところが、このようなHIPOSSは、既に指摘
したように測定感度が高い一方で、その高感度
測定域が狭いという性質を有している。第5図
はこのような状況を示す特性図であり、横軸は
合焦点位置を0としたときの被測定面と
HIPOSSとの相対変位Δxを示し、縦軸は
HIPOSSの検出出力Vを示す。また、第6図は
その部分拡大図である。これらの図からわかる
ように、合焦点位置(Δx、V)=(0、0)付
近で検出出力がほぼ線形に変化する高感度測定
域Gは±1μm程度であつて、これ以上の相対
変位が生ずると測定誤差は大きなものとなる。
C 移動台4の構成 第7図は、第1図に示した移動台4の詳細構
成を示す図である。同図において、この移動台
4は、固定台3上でY方向に並進移動可能な基
台51と、この基台51上に間隔を隔てて配設
されたデイスク支持台52とを有しており、こ
れらの基台51とデイスク支持台52との間
は、デイスク支持台52の角度自動調整機構5
3が設けられている。このうち、基台51は下
部基台54と上部基台55とに上下2分割さ
れ、これらの下部基台54と上部基台55と
は、角度手動調整機構56をはさんで互いに上
下方向に隔てられている。この角度手動調整機
構56は、板バネ57とネジ脚58とによつて
構成されている。
これらのうち、板バネ57は、その両端部
が、下部基台54と上部基台55とのそれぞれ
の一端に固定された形で立設されており、図示
のθ1方向に屈曲可能である。また、ネジ脚58
は、下部基台54中に螺合されたネジ杆59
と、このネジ杆59に固定されたネジ輪60と
を有している。そして、ネジ杆59の上端尖頭
部は、上部基台55の他端部下面に接する形で
上部基台55を支持しており、したがつて、ネ
ジ輪60を手動で回転させることによつて、上
部基台55は、板バネ57を支点として図示の
θ2方向に自在に傾斜させることができるように
なつている。このような構成を有する角度手動
調整機構56は、デイスク支持台52、したが
つて、これによつて支持されたデイスク1の傾
斜角度粗調整機能を有することになる。
一方、角度自動調整機構53は、板バネ61
とPZT62とによつて構成されている。この
うち、板バネ61は、その両端が上部基台55
とデイスク支持台52とにそれぞれ固定されて
おり、図示のθ3方向に屈曲可能である。他方
PZT62は、上部基台55の上面に固定され
ており、その上端に設けられた尖頭部材63に
よつてデイスク支持台52の下面他端付近を接
触支持している。そして、PZT制御回路17
からの電圧をこのPZT62に印加することに
より、その電圧値に応じた量だけ、PZT62
は図の上下方向に伸縮し、これに応じて、デイ
スク支持台52(したがつてデイスク1)は、
板バネ61を支点として図のθ4方向に傾斜する
ようになつている。
このため、第6図の移動台4では、デイスク
1の被測定面14とこの移動台の並進移動方向
Yとの間の角度調整が、角度手動調整機構56
と角度自動調整機構53とによつて二重に行な
われるような構成となつている。前者は粗調整
用、後者は微調整用である。
D 実施例の動作 次に、このような構成を有する装置の動作を
説明する。まず最初に、第8図を参照して、製
品となるべきデイスクの形状測定動作を開始す
る前の基準値設定動作について述べる。
(D‐1) 基準値設定動作 第8図において、デイスク支持台52(第
7図)上にテスト用のデイスク1を載置し
(ステツプS1)、第7図に示したデイスク1
の内周端部14aおよび外周端部14bが、
それぞれエデイカレントセンサ13a,13
bの直下付近となるように移動台4をY方向
に並進移動させる(ステツプS2)。この位置
決めは、リミツトスイツチやスケールなどを
用いればよい。そして、移動完了後の状態で
のエデイカレントセンサ13a,13bから
のそれぞれの距離検出出力Sa、Sbをコンピユ
ータ19に取込み(ステツプS3)、これらの
差: ΔS=Sa−Sb を演算して求めて、これをコンピユータ19
内のメモリ(図示せず)にストアしておく
(ステツプS4)。
次に、移動台4を第7図の左側の初期位置
に戻し(ステツプS5)、図の左方から右方へ
と移動台4を移動させつつ、センサヘツド1
0からのHIPOSS検出出力を取込むことによ
つて、デイスク1の外周端部14bから内周
端部14aに至るまでの表面形状測定を行な
う(ステツプS6)。この測定動作そのもの
は、製品となるべきデイスクについての測定
動作(第12図)と同様であり、その詳細は
後述する。この測定結果は記録計21やデイ
スプレイ(図示せず)によつてモニタされ
る。
次に、ステツプS7における、デイスク支
持台52のすべての傾きについての測定完了
判断を経た後にステツプS8へと移り、角度
手動調整機構56や角度自動調整機構53を
用いて、デイスク支持台52(したがつてデ
イスク1)の傾き角度を変化させる。そし
て、ステツプS2に戻り、上記の各処理を
種々の傾き角度について繰返す。したがつ
て、種々の傾き角度についての測定が完了し
てステツプS7からステツプS9へと移つたと
きには、デイスク支持台4の種々傾き角度αi
(i=1、2、…)についての、2つのエデ
イカレントセンサ13a,13bの出力差
ΔSi(i=1、2、…)と、形状測定結果と
の関係が求まつていることになる。
この関係の一例を第9図に示す。ただし、
この第9図においては、理解を容易にする目
的で、デイスク支持台52の傾きやデイスク
1のたわみなどを強調して描いてある。この
図において、aに示すような傾き角α1に対し
ては、同図bのようなエデイカレントセンサ
出力差ΔS1と形状測定曲線F1とが得られる。
また、同図cのような傾き角α2については同
図dのような結果が得られる。
そして、第8図のステツプS9では、この
ようにして得られた結果のうち、形状測定曲
線が全体としてY方向と平行になるようなエ
デイカレントセンサ出力差ΔSを見出し、こ
れを基準値ΔShとして設定・記憶して、基準
値設定ルーチンを終る。ここで、形状測定曲
線の全体的な傾きは、内外周端部14a,1
4bの位置での測定値を結んで形成される直
線(第9図では直線l1,l2)の傾きによつて
表現することができる。
第9図の例では、同図c,dがこのような
場合に相当する。この第9図c,dからわか
るように、デイスク1の右半面が全体として
並進方向Yと平行となつている場合でも、デ
イスク支持台4の傾き角度αは必ずしも0°と
はならない。これはデイスク1にたわみなど
が存在するためである。したがつて、このよ
うな平行性を確保するために傾きについての
基準を上記のように設定しておき、製品検査
ラインに沿つて送られて来るデイスクについ
ては、この基準量を基礎にしてデイスク支持
台4の傾き調整を行なえばよいわけである。
しかしながら、上記実施例ではデイスク支持
台4の傾き角度αそのものを基準量として採
用せず、エデイカレントセンサ13a,13
bの出力Sa、Sbに応じた(ΔS)を設定して
いる。その理由は次の通りである。
すなわち、まず、デイスク1には固体差が
あり、厚みや凹凸状態も少しずつ異なつてい
ることに注意する。したがつて、デイスク支
持台4の傾き角度αを基準角度(第9図の例
ではα1)に一致させても、必ずしもデイスク
1の被測定面14が並進方向Yに平行となる
わけではない。これに対して、上記のよう
に、エデイカレントセンサ13a,13b等
の距離センサを用いて被測定面14とセンサ
ヘツド10との関係を基準量(基準値ΔSh
として設定しておけば、上述のような問題も
ないため、平行性が常に保たれることにな
る。
(D‐2) 製品デイスクに対する角度調整動作 次に、実際の製品検査ラインに沿つて行な
われるデイスクの表面形状測定動作のうち、
角度調整動作を、第10図を参照して説明す
る。同図において、まず、ステツプS20、
S21で製品となるデイスク1をデイスク支持
台52上に載置し、プログラムを起動する。
なお、図示していないが、これらの処理の前
に、第7図の角度手動調整機構56は、基準
値ΔShを得たときと同程度の角度に手動調整
されている。次のステツプS22では、移動台
4をY方向へ移動させて、エデイカレントセ
ンサ13a,13bの直下付近に、デイスク
1の被測定面14のうち内周端部14aおよ
び外周端部14bがそれぞれ位置するような
状態とする。そして、この位置で移動台4を
停止し、移動コラム12を下降させることに
よつてセンサヘツド10と被測定面14との
距離を合焦点距離付近fとするとともに、エ
デイカレントセンサ13a,13bの距離検
出出力Sa、Sbを取込む(ステツプS23、
S24)。このうち、Y方向の位置決めは、既
述した基準値設定ルーチンの場合と同様に、
リミツトスイツチやスケールなどを用いて行
なうことができる。また、センサヘツド10
の下降停止位置の位置決めは、たとえば、セ
ンサヘツド10からの検出出力をモニタしつ
つ、この検出出力が(+)側から0[V]に
なる位置(+0)を検知し、その後、センサ
ヘツド10を一度停止させた後に所定距離だ
け移動させ、さらに、センサヘツド25の検
出出力が0[V]になるようにフイードバツ
ク制御させればよい。
次に、SaとSbとの差ΔSを演算して求める
(ステツプS25)。そして、コンピユータ19
のメモリ中から上記基準値ΔShを読出し、上
記のΔSとの差(ΔS−ΔSh)を演算する(ス
テツプS26)。さらに、その絶対値: |ΔS−ΔSh| が、あらかじめ定めておいた微小値εよりも
大きいか否かを判断し(ステツプS27)、ε
よりも大きいときには(ΔS−ΔSh)の正負
符号を判断する(ステツプS28)。そして、
その符号に応じてPZT62への印加電圧の
変化方向(増加が減少か)を決定し(ステツ
プS29)、それに応じてPZT62への印加電
圧を所定微小量ΔEだけ増減させることによ
つて、デイスク支持台4したがつてデイスク
1の被測定面14の傾き角度を変化させて
(ステツプS30)、上記ステツプS24へと戻る。
この動作を繰返すことによつて、当初第11
図aのように、被測定面14が全体として並
進方向Yに対して大きく傾いても、次第に第
11図bのように平行となつてくる。そし
て、 |ΔS−ΔSh|≦ε となると、被測定面14は並進方向にほぼ平
行となるため、この段階で角度調整ルーチン
を終り、第12図の形状測定動作に移る。な
お、この実施例における平行度は上記εの大
きさなどによつて定まる。
(D‐3) 形状測定動作 第12図の形状測定ルーチンにおいては、
上記のようにしてデイスク1の被測定面14
の内外周端部14a,14bを結ぶ直線と移
動台4の並進方向Yとの関係を平行にした状
態で以下の各処理が行なわれる。
まず、移動台4をY方向に並進移動させ
て、デイスク1の外周エツジ24bがセンサ
ヘツド10の中央直下となるように位置決め
を行なう(ステツプS31)。次に移動台4の
Y方向の並進を開始し、この並進を行ないつ
つセンサヘツド10からの検出信号A〜Dを
第1図のHIPOSS信号処理装置15に取込む
(ステツプS32)。
このHIPOSS信号処理装置15は第13図
に示すような内部構成を有しており、その内
部では、まず上記検出信号A〜Dを入力して
既述した(1)式に相当する演算を行なうことに
より、検出出力(焦点エラー出力)Vを求め
る。この検出出力VはA/Dコンバータ72
でA/D変換された後、演算器73と比較器
74とに与えられる。このうち演算器73で
は、第5図ないしは第6図に示した特性に応
じて、検出出力Vから変位Δx(=x−f)を
演算して求め、コンピユータ19へ出力す
る。この演算器73は、ルツクアツプテーブ
ル方式のメモリであつてもよい。
一方、比較器74には、第6図の高感度検
出域Gに応じて設定された検出レンジQ(た
とえば高感度検出域Gの80%に相当するレン
ジ)を規定するしきい値VSHが他方の入力と
して与えられている。したがつて、このしき
い値VTHは、たとえば第6図の高感度域Gに
対応する出力範囲Uが(−1)〜(+1)
[V]であるときには、VTH=0.8[V]とする
ことができる。そして、この比較器74は、
V>VSHまたはV<−VSHのとき、すなわち
検出出力Vが上記検出レンジQを逸脱したと
きに、コンピユータ19に割込み信号INT
を与えるようになつている。
このような比較の結果、検出出力Vが検出
レンジQ内であると判断された場合には第1
2図のステツプS33からS34へ移り、コンピ
ユータ19が検出出力Δxを記憶する。そし
て、デイスク1の内周エツジ24aに至るま
で上記処理を繰返す(ステツプS35)。
一方、第12図のステツプS33で、検出出
力Vが検出レンジQを逸脱したものと判断さ
れると割込信号INTが与えられ、ステツプ
S36へ移つて、コンピユータ19は割込状態
となる。そして、デイスク1の並進移動をい
つたん中断し(ステツプS37)、HIPOSSの
検出出力Δxとデイスク1の並進移動距離y
とをコンピユータ19が記憶する(ステツプ
S38)。
そして、Δxの符号によつて、センサヘツ
ド10とデイスク表面14との相対距離が検
出レンジQに対して大きくなり過ぎているの
か、それとも少なくなり過ぎているのかを判
断し、それに応じてセンサヘツド10をX方
向に移動させて、上記相対距離xを合焦点距
離fに一致させる(ステツプS39)。この動
作は、被測定面14の傾き調整だけでは対処
できない凹凸が被測定面14上に存在したと
きに、これに追随してセンサヘツド10を垂
直方向に移動させ、それによつて測定値を常
に検出レンジQ内に入れておくための動作で
ある。したがつて、この動作においては、x
を合焦点距離fに完全に一致させることは必
須ではなく、原理的には、上記検出レンジQ
内に入るように移動させればよい。
そして、このようにして移動させた移動量
Mを第1図のモータM2に取付けられたエン
コーダ(図示せず)からのエンコード信号な
どに基いて求め、これを記憶しておく(ステ
ツプS40)。その後、デイスク10の並進移
動を再開し(ステツプS41)、上述したステ
ツプS35へ移る。
このような動作を繰返して被測定面14の
内周エツジ24aまでの測定が完了すると、
移動コラム12を上方へ移して、センサヘツ
ド10を退避させ(ステツプS42)、ワーク
移動機構2を初期位置へ戻し(ステツプ
S43)、マニユアルでデイスク1を取りはず
して(ステツプS44)形状測定ルーチンを終
る。なお、図示しないが、上記ステツプS39
におけるセンサヘツド10のX方向移動が行
なわれた際には、S40で記憶しておいた移動
量Mを、移動前後の測定データ(Δx)の一
方に加算または減算することによつて測定デ
ータを補正し、それによつて形状測定曲線の
連続化を行なうことができる。
第14図は、このようにして得られた測定
データを記録計21に与えて記録させた例を
示すデータチヤートであり、横軸は移動台4
の並進移動距離(y)を、また、縦軸は表面形状
測定出力(Δx)を示す。この図からわかる
ように、この装置によれば、デイスク表面1
4の内周端部14aと外周端部14bとを結
ぶ直線lが並進方向Yと平行になるため、形
状測定曲線Fのうち、内外周エツジにそれぞ
れ対応する測定出力値Ta、Tbを結ぶ直線l′も
また並進方向Yとほぼ平行になる。したがつ
て、形状測定曲線FのΔx方向の変動幅ΔFを
HIPOSSの高感度域Gに応じた検出レンジQ
以下とするような位置関係で形状測定が自動
的に行なわれ、デイスク1の角度調整を手動
で繰返す作業は不要となる。なお、同図にお
いて、DFは表面欠陥の存在を示す。
また、この実施例ではセンサヘツド10の
X方向への移動機構20を設けているため、
デイスク1の表面の欠陥やうねりの振幅が大
きく、上記検出レンジQを逸脱するような場
合においても、センサヘツド10がX方向に
自動的に移動して表面形状に追随するため、
実質的な検出レンジがさらに拡大することに
なる。つまり、この実施例では、デイスク1
の傾きとデイスク1の上下方向の変位との双
方に対する対策が講じられていることにな
る。
E 変形例 以上、この発明の一実施例について説明した
が、この発明は上記実施例に限定されるもので
はなく、たとえば次のような変形も可能であ
る。
被測定物の支持体と形状検出センサとの間
の並進は相対的に行なえばよく、上記のよう
に支持体側を移動させる場合に限定されな
い。第15図は形状検出センサを並進させる
場合の構成の一例を示す図である。
この装置では、まず、水平方向(Y方向)
に伸びたネジ杆81を設けて、これにセンサ
ヘツド移動機構20の上部を螺合させ、コン
ピユータ19からセンサヘツド並進コントロ
ーラ82を介して与えられる信号S3によつ
て、上記ネジ杆81を取付けたモータM3
回転させる。すると、センサヘツド移動機構
20がY方向に並進するため、センサヘツド
10もデイスク表面14に対してY方向に並
進し、それによつてこのデイスク表面14の
光走査が行なわれる。
この場合、デイスク1をY方向に並進させ
る必要はないため、前述したワーク移動機構
2(第1図)のかわりに、並進機能を有しな
いワーク支持機構80によつてデイスク1を
支持しておく。そして、このワーク支持機構
80の一端に設けたネジ脚6をモータM4
連結し、このモータM4を支持柱84および
アーム85によつて固定しておく。このモー
タM4は、コンピユータ19からワーク傾斜
駆動コントローラ83を通じて与えられる信
号S4によつて駆動されるようになつており、
それによつてワーク支持機構80の一端(図
中の右端)は他方の脚5における回動軸rを
支点として図のH方向に回動・傾斜する。た
だし、このワーク支持機構80は、デイスク
1を並進させるための機能を有してない。な
お、モータM4に取付けられたエンコーダE
からのエンコード信号はコンピユータ19に
取込まれるようになつている。
したがつて、この装置においても、ワーク
支持機構80の自動角度調整をモータM4
介して行なうことによつて、第1図の装置と
同様の作用効果を得ることができる。
第1図の実施例では、並進方向と被測定表
面との間の角度関係を検出する手段として2
個のエデイカレントセンサ13a,13bを
用いたが、複数個であれば何個用いてもよ
い。また、電気容量検出型などの他の距離セ
ンサを複数個設けて角度関係検出を行なつて
もよく、光センサなどであつてもよい。
第1図の装置において、デイスク1の左半
面についても表面形状測定を行ないたいとき
には、右半面と同様の処理を繰返せばよい。
また、被測定面のたわみなどが大きいときに
は、被測定面を複数の区間に分割し、各区間
ごとに上記処理を行なつてもよい。
(発明の効果) 以上説明したように、この発明によれば、
HIPOSSセンサヘツドとは別個に距離センサを設
け、この距離センサの検出出力をもとに、相対的
並進方向と被測定物表面との間の角度関係を検出
して、この角度関係が所定の程度まで並行になる
ように自動調整が行われるので、走査方向に対す
る被測定物表面の傾きの調整が短時間で行われる
という効果が得られる。
この発明では更に、距離センサは被測定面上の
各端部付近の位置のそれぞれに、同時に対向し得
るように複数個設けられる。このため、角度関係
の検出のために走査を行う必要がないので、角度
関係の検出に要する時間が更に短縮されるという
効果がある。
大量生産品の品質保証を行うために使用される
測定装置において、測定時間の短縮は重要な課題
であり、これらの効果は重要な意義を有してい
る。
この発明では更に、圧電素子の伸縮によつて角
度関係の調整が行われるので、HIPOSSセンサヘ
ツドが要求する精密な精度をもつて、角度関係の
調整を行い得る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例の概略構成図、
第2図は、HIPOSSセンサヘツド内部構成図、第
3図ないし第6図は、HIPOSSの特性の説明図、
第7図は、実施例における移動台の詳細構成図、
第8図は、基準値設定動作のフローチヤート、第
9図は、実施例の原理説明図、第10図は、実施
例における角度調整動作のフローチヤート、第1
1図は、実施例における角度調整の説明図、第1
2図は、実施例における形状測定動作のフローチ
ヤート、第13図は、HIPOSS信号処理装置のブ
ロツク図、第14図は、実施例における形状測定
曲線の例を示すデータチヤート、第15図は、こ
の発明の変形例を示す概略構成図、第16図は、
従来の角度調整機構を示す図である。 1……デイスク、2……ワーク移動機構、10
……HIPOSSセンサヘツド、53……角度自動調
整機構、56……角度手動調整機構、62……
PZT。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体によつて支持された被測定物と所定の
    形状検出センサとを相対的に並進させることによ
    つて前記被測定物表面を順次走査し、前記形状検
    出センサの検出出力に基いて前記被測定物表面の
    形状を測定する表面形状測定装置において、 前記並進方向と前記被測定物の被測定表面との
    間の角度関係を検出する角度関係検出手段と、 前記角度関係検出手段の検出出力に応答して前
    記支持体の傾き角度を自動調整し、それによつて
    前記被測定表面と前記並進方向とを所定の程度に
    まで平行とする角度調整手段とを設け、 前記形状検出センサは、臨界角法による焦点エ
    ラー検出器のセンサヘツドであつて、 前記角度関係検出手段は、前記臨界角法による
    焦点エラー検出器のセンサヘツドに固定的に取り
    付けられた複数の距離センサを有し、 当該複数の距離センサは、前記被測定面上の各
    端部付近の位置のそれぞれに、同時に対向し得る
    位置にあつて、かつ前記並進の方向に対して平行
    な面上に配置され、 前記複数の距離センサは、前記並進を行うこと
    により前記各端部付近の位置に対向したときに、
    当該各位置との距離をそれぞれ検出し、 前記角度関係の検出は、前記複数の距離センサ
    のそれぞれの検出出力の差と前記複数の距離セン
    サの相互の間の所定の間隔とから、演算を実行し
    て行われ、 前記角度調整手段は、前記支持体を圧電素子の
    伸縮によつて傾き調整する手段であつて、 前記角度調整手段によつて前記角度関係を前記
    所定の程度にまで平行とした状態で前記被測定表
    面の表面形状を測定することを特徴とする表面形
    状測定装置。
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